一种显示面板及其制备方法、负性光阻材料及其制备方法技术

本发明专利技术实施例公开了一种显示面板及其制备方法、负性光阻材料及其制备方法，本发明专利技术实施例中的显示面板包括光阻层，所述光阻层包括负性光阻材料，所述负性光阻材料包括具备笼型聚倍半硅氧烷的丙烯酸酯聚合物，利用具备笼型聚倍半硅氧烷的丙烯酸酯聚合物来提高负性光阻材料热性能，从而解决负性光阻热性能差、易形成烘烤升华物产生小分子脱气，影响显示面板产品特性的问题。

A display panel and its preparation method, negative photoresist material and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制备方法、负性光阻材料及其制备方法
本专利技术涉及显示
，具体涉及一种显示面板及其制备方法、负性光阻材料及其制备方法。
技术介绍
薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)组成中的含彩色滤光片基板(ColorFilterSubstrate，CFSubstrate)是由BM/R/G/B/PS/ITO等多道制程构成，在制备CF基板的过程中，传统技术是使用光刻工艺来完成每一道制程的制备。制作方法如下：首先使用负性光阻进行涂布成膜，再经过光罩进行曝光制程，曝光的部分发生固化不与显影液反应，经过显影制程后被保留；最后经过后烘烤制程得到最终图案。在完成整个CF基板的制作过程中，通常需要进行多次烘烤的动作。目前负性光阻聚合物的主要成分为丙烯酸酯聚合物，其中主链为丙烯酸骨架，欠缺刚性结构，热性能稍差，造成制程风险，比如在多次烘烤后出现小分子脱气(outgas)以及烘烤升华物，易污染烘烤机台，增加机台保养次数，占据大量产能；也会影响后制程的成膜特性。另外，在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板的光阻层包括负性光阻材料，所述负性光阻材料包括具备笼型聚倍半硅氧烷的丙烯酸酯聚合物。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板的光阻层包括负性光阻材料，所述负性光阻材料包括具备笼型聚倍半硅氧烷的丙烯酸酯聚合物。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述笼型聚倍半硅氧烷的笼型结构八个顶角上的Si原子连接的官能团为乙烯基团。


3.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板的光阻层的制备方法为：
将包括具备笼型聚倍半硅氧烷的丙烯酸酯聚合物的负性光阻材料涂布于衬底表面，形成光阻层。


4.根据权利要求3中所述的制备方法，其特征在于所述笼型聚倍半硅氧烷的笼型结构八个顶角上的Si原子连接的官能团为乙烯基团。


5.一种负性光阻材料，其特征在于，所述负性光阻材料包括具备笼型聚倍半硅氧烷的丙烯酸酯聚合物。


6.根据权利要求5所...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘雪，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44