负型感光性树脂组合物及其用途制造技术

一种负型感光性树脂组合物，包括：(A)10重量百分比至50重量百分比的聚硅氧烷化合物，其由多种单体聚合而成，其中，这些单体包括如下式(a‑1)、(a‑2)及(a‑3)所示的硅氧烷单体，且(a‑3)所示的硅氧烷单体占聚硅氧烷化合物的总摩尔数的10mol％至50mol％；(B)0.1重量百分比至30重量百分比的硅酸酯寡聚物；(C)0.1重量百分比至10重量百分比的光酸产生剂；以及(D)余量溶剂；

【技术实现步骤摘要】
负型感光性树脂组合物及其用途
本专利技术涉及一种负型感光性树脂组合物及其用途，尤其涉及一种适用于低温工艺的负型感光性树脂组合物及其用途。
技术介绍
在显示面板以及触控面板的制备过程中，向来以正型或负型等各种感光性树脂组合物作为材料，并利用其感光特性进行图案化以及固化这些树脂组合物以形成钝化层、保护层或绝缘层等构件。现今，可挠式显示面板以及触控面板受到大幅关注，其所使用的基板倾向使用可挠曲的柔性基板。其中，可挠曲的柔性基板多使用不耐高温的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)或聚环烯烃高分子(COP)等材料，故为了配合可挠曲的柔性基板特性，将后段工艺温度大幅降低，例如降至85℃。然而，现有的聚硅氧烷树脂材料即便在低温工艺后仍可维持其透明度，但在弯曲后却容易产生龟裂的情形，而无法应用于可挠性的显示面板或触控面板上。有鉴于此，目前急需一种新颖的负型感光性树脂组合物，其除了可在低温下完全固化外，且所形成的膜具有极佳的可挠曲特性，而可应用于可挠性的显示面板或触控面板上。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种负型感光性树脂组合物，其特别适用于低温固化，且所形成的膜具有可挠曲特性。本专利技术的负型感光性树脂组合物可包括：(A)10重量百分比至50重量百分比的聚硅氧烷化合物，其由多种单体聚合而成，其中，这些单体包括如下式(a-1)、(a-2)及(a-3)所示的硅氧烷单体，且(a-3)所示的硅氧烷单体占该聚硅氧烷化合物的总摩尔数的10mol％至50mol％；其中，R1各自独立为C1-6烷基；R2为C6-20环烷基或C6-20芳基；R3各自独立选自由C1-6烷氧基以及芳氧基所组成的群组；R4各自独立为C1-6烷基；以及R5为C6-20烷基；(B)0.1重量百分比至30重量百分比的硅酸酯寡聚物(silicateoligomer)；(C)0.1重量百分比至10重量百分比的光酸产生剂；以及(D)余量溶剂。在本专利技术所提供的上述负型感光性树脂组合物中，聚硅氧烷化合物(A)作为树脂组合物的主要成分，而用于聚合聚硅氧烷化合物(A)的单体中，必须至少包括如式(a-1)、(a-2)及(a-3)所示的单体。特别是，聚硅氧烷化合物不包括含酸酐基团的硅氧烷单体。其中，式(a-1)所示的单体包括四个连接于硅原子上的烷氧基，可提供彼此缩合聚合的交联点；式(a-2)所示的单体，除了可与其他单体进行交联外，还可提升成膜的透明度；而式(a-3)所示的单体，除了可与其他单体进行交联外，还可提升所形成的膜的可挠曲特性。另外，通过曝光光酸产生剂(C)所产生的酸，可进一步使得聚硅氧烷化合物(A)进行缩合反应。此外，本专利技术在树脂组合物中的硅酸酯寡聚物(B)可作为交联剂，也通过光酸产生剂(C)曝光时所产生的酸，更进一步地与聚硅氧烷化合物(A)交联。特别是，当聚合聚硅氧烷化合物(A)中包含式(a-3)所示的单体，且使用硅酸酯寡聚物(B)作为交联剂，本专利技术的负型感光性树脂组合物可应用于柔性基材上形成具有可挠曲特性的绝缘膜或保护膜。在本专利技术的负型感光性树脂组合物，式(a-1)所示的硅氧烷单体中，R1可各自独立为C1-6烷基，且优选地，R1各自独立为C1-3烷基。在本专利技术的一具体实施例中，式(a-1)所示的硅氧烷单体为四乙氧基硅烷。在本专利技术的负型感光性树脂组合物中，式(a-2)所示的硅氧烷单体中，R2可为C6-20环烷基或C6-20芳基，优选为C6-12环烷基或C6-12芳基，更优选为环己烷基或苯基，且最优选为苯基。此外，R3可各自独立选自由C1-6烷氧基以及C6-20芳氧基所组成的群组，优选地，各自独立选自由C1-3烷氧基以及C6-12芳氧基所组成的群组，且更优选地，各自独立为C1-3烷氧基。在本专利技术的一具体实施例中，式(a-2)所示的硅氧烷单体为苯基三甲氧基硅烷。在本专利技术的负型感光性树脂组合物中，式(a-3)所示的硅氧烷单体中，R4可各自独立为C1-6烷基，且优选地，R4各自独立为C1-3烷基。此外，R5可为C6-20烷基，优选为直链C6-20烷基，更优选为C6-10烷基，且最优选为直链C6-10烷基。在本专利技术的一具体实施例中，式(a-3)所示的硅氧烷单体为癸基三甲氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷或其组合。在本专利技术的另一具体实施例中，式(a-3)所示的硅氧烷单体为癸基三甲氧基硅烷。在本专利技术的再一具体实施例中，式(a-3)所示的硅氧烷单体为己基三甲氧基硅烷。此外，在本专利技术的负型感光性树脂组合物中，聚硅氧烷化合物(A)由如式(a-1)、(a-2)及(a-3)所示的硅氧烷单体所聚合而成。其中，式(a-1)及(a-2)所示的硅氧烷单体的比例并无特殊限制。在本专利技术的一实施例中，式(a-1)所示的硅氧烷单体可占聚硅氧烷化合物的总摩尔数的10mol％至60mol％，式(a-2)所示的硅氧烷单体可占聚硅氧烷化合物的总摩尔数的30mol％至70mol％，而式(a-3)所示的硅氧烷单体可占聚硅氧烷化合物的总摩尔数的10mol％至50mol％。在本专利技术的另一实施例中，式(a-1)所示的硅氧烷单体可占聚硅氧烷化合物的总摩尔数的25mol％至40mol％，式(a-2)所示的硅氧烷单体可占聚硅氧烷化合物的总摩尔数的45mol％至55mol％，而(a-3)所示的硅氧烷单体可占聚硅氧烷化合物的总摩尔数的10mol％至25mol％。在本专利技术中，所谓的“硅氧烷单体占聚硅氧烷化合物的总摩尔数的Amol％至Bmol％”，更详细而言是指，以聚硅氧烷化合物的总摩尔数作为100mol％为基准，硅氧烷单体的含量介于Amol％至Bmol％之间。再者，在本专利技术的负型感光性树脂组合物中，聚硅氧烷化合物(A)的分子量可为1000克/摩尔至8000克/摩尔，优选为1000克/摩尔至6000克/摩尔，且更优选为1500克/摩尔至4500克/摩尔。在本专利技术的负型感光性树脂组合物中，硅酸酯寡聚物(B)可如下式(b-1)所示：其中，R6各自独立为C1-6烷基；以及n为2至10的整数。在本专利技术的负型感光性树脂组合物中，式(b-1)所示的硅酸酯寡聚物中，R6可各自独立为C1-6烷基，且优选地，R6各自独立为C1-3烷基。此外，n可为2至10的整数，且n优选为5至10的整数。在本专利技术的一具体实施例中，式(b-1)所示的硅酸酯寡聚物为甲基硅酸酯(methylsilicate)，其如下式(b-2)所示：在本专利技术的负型感光性树脂组合物中，光酸产生剂(C)的种类并无特殊限制，可为一离子型光酸产生剂或一非离子型光酸产生剂。例如，光酸产生剂(C)可如下式(c-1)至(c-4)任一者所示：在本专利技术的负型感光性树脂组合物中，溶剂的含量为负型感光性树脂组合物中其他成分的残量，残量是以负型感光性树脂组合物的总量为计，扣除其他成分的含量后的剩余含量。在本专利技术中，溶剂的种类并无特殊限制。溶剂的具体例子包括，但不限于，乙酸丙二醇单甲基醚酯(PropyleneGlycolMethylEtherAcetate，PGME本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种负型感光性树脂组合物，包括：/n(A)10重量百分比至50重量百分比的聚硅氧烷化合物，其由多种单体聚合而成，其中，该多种单体包括如下式(a-1)、(a-2)及(a-3)所示的硅氧烷单体，且(a-3)所示的硅氧烷单体占该聚硅氧烷化合物的总摩尔数的10mol％至50mol％；/n

【技术特征摘要】
1.一种负型感光性树脂组合物，包括：
(A)10重量百分比至50重量百分比的聚硅氧烷化合物，其由多种单体聚合而成，其中，该多种单体包括如下式(a-1)、(a-2)及(a-3)所示的硅氧烷单体，且(a-3)所示的硅氧烷单体占该聚硅氧烷化合物的总摩尔数的10mol％至50mol％；



其中，R1各自独立为C1-6烷基；
R2为C6-20环烷基或C6-20芳基；
R3各自独立选自由C1-6烷氧基以及芳氧基所组成的群组；
R4各自独立为C1-6烷基；以及
R5为C6-20烷基；
(B)0.1重量百分比至30重量百分比的硅酸酯寡聚物；
(C)0.1重量百分比至10重量百分比的光酸产生剂；以及
(D)余量溶剂。


2.如权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其中，R5为直链C6-20烷基。


3.如权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其中，该硅酸酯寡聚物如下式(b-1)所示：



其中，R6各自独立为C1-6烷基；以及
n为2至10的整数。


4.如权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其中，该聚硅氧烷化合物由如式(a-1)、(a-2)及(a-3)所示的硅氧烷单体聚合而成，式(a-1)所示的硅氧烷单体占该聚硅氧烷化合物的总摩尔数的10mol％至60mol％，而式(a-2)所示的硅氧烷单体占该聚硅氧烷化合物的总摩尔数的30mol％至70mol％。


5.如权利要求1所述的负型感光性树脂组合物，其中，该聚硅氧烷化合物由如式(a-1)、(a-2)及(a-3)所示的硅氧...

【专利技术属性】
技术研发人员：张桂嘉，许若蓓，林凡森，蓝大钧，张志毅，
申请(专利权)人：台湾永光化学工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71