转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种可得到水蒸气透过率(WVTR)降低的固化膜，粘性小，且显影液中的耐刮擦性优异的转印薄膜、使用了上述转印薄膜的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。转印薄膜具备临时支承体及感光性层，上述感光性层含有：包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；自由基聚合性化合物；及光聚合引发剂，上述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，上述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，上述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法
本专利技术涉及一种转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。
技术介绍
以往，已知一种具备感光性组合物及使用了感光性组合物的感光性层的转印薄膜(也称为“感光性薄膜”)。专利文献1中记载有一种感光性树脂组合物，其含有树脂、包含由下述通式(1)表示的结构的聚合性化合物及光聚合引发剂。[化学式1]由通式(1)表示的结构在*的位置与其他结构键合而形成聚合性化合物。并且，通式(1)中，R0表示氢原子或甲基，R1表示氢原子、一价有机基或与上述其他结构键合而形成包含-R1CHX-的环结构的二价有机基。X表示-O-、-NR2-或-S-。R2表示氢原子、一价有机基或与上述其他结构键合而形成包含-R2N-的环结构的二价有机基。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-229720号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题有时对使转印薄膜中的感光性层固化而成的固化膜要求水蒸气透过率(WVTR；WaterVaporTransmissionRate)的降低。例如，当将触摸面板中包含的触摸面板用保护膜形成为使感光性层固化而成的固化膜时，对形成的触摸面板用保护膜(即，固化膜)要求WVTR的降低。关于这一方面，在专利文献1中记载的使使用了感光性组合物的感光性层固化而成的固化膜中，WVTR的降低有改善的余地。并且，有时对转印薄膜中的感光性层要求粘性的降低。若感光性层的粘性大，则有时临时支承体的剥离会变困难。并且，转印薄膜中的感光性层在转印到基材之后，通过曝光及显影而形成图案状固化膜。其中，在上述显影时，例如通过感光性层与传送辊的接触，有时在显影中的感光性层的表面会产生划痕。若能够抑制产生上述划痕，则可得到面状优异的固化膜，固化膜的光学特性的面内均匀性变良好，因此认为优选。本专利技术中，将在显影中不易产生上述划痕的情况也称为“显影液中的耐刮擦性优异”。本专利技术的实施方式的课题为提供一种可得到水蒸气透过率(WVTR)降低的固化膜，粘性小，且显影液中的耐刮擦性优异的转印薄膜、使用了上述转印薄膜的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。用于解决技术课题的手段用于解决上述课题的方法中，包含以下方式。＜1＞一种转印薄膜，其具备临时支承体及感光性层，上述感光性层含有：包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；自由基聚合性化合物；及光聚合引发剂，上述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，上述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，上述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上。[化学式2]式A1中，Ar表示苯基或萘基，RA1表示氢原子或烷基。＜2＞如上述＜1＞所述的转印薄膜，其中，上述聚合物A还包含具有酸基的构成单元。＜3＞如上述＜1＞或＜2＞所述的转印薄膜，其中，上述感光性层还包含热交联性化合物。＜4＞如上述＜3＞所述的转印薄膜，其中，上述热交联性化合物中的热交联性基团为封端异氰酸酯基。＜5＞如上述＜3＞或＜4＞所述的转印薄膜，其中，上述热交联性化合物具有自由基聚合性基团。＜6＞如上述＜1＞至＜5＞中任一项所述的转印薄膜，其用于形成触摸面板用保护膜。＜7＞一种电极保护膜，其从上述＜1＞至＜6＞中任一项所述的转印薄膜去除上述临时支承体而得。＜8＞一种层叠体，其在包含静电电容型输入装置的电极的基板上，具有从上述＜1＞至＜6＞中任一项所述的转印薄膜去除临时支承体之后的感光性层。＜9＞一种静电电容型输入装置，其具有上述＜7＞所述的电极保护膜或上述＜8＞所述的层叠体。＜10＞一种触摸面板的制造方法，其包括如下工序：准备具有在基板上配置有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的结构的触摸面板用基板；在上述触摸面板用基板的配置有上述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的一侧的面上，使用上述＜1＞至＜6＞中任一项所述的转印薄膜来形成感光性层；对形成在上述触摸面板用基板上的上述感光性层进行图案曝光；及通过对经图案曝光的上述感光性层进行显影而得到保护上述触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一方的至少一部分的触摸面板用保护膜。专利技术效果根据本专利技术的实施方式，提供一种可得到水蒸气透过率(WVTR)降低的固化膜，粘性小，且显影液中的耐刮擦性优异的转印薄膜、使用了上述转印薄膜的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。附图说明图1是表示本专利技术的一实施方式的转印薄膜的一例的概略剖视图。图2是表示本专利技术的一实施方式的触摸面板的第1具体例的概略剖视图。图3是表示本专利技术的一实施方式的触摸面板的第2具体例的概略剖视图。具体实施方式以下，对本专利技术的一实施方式进行说明。本说明书中的基团(原子团)的标记中，未记述取代及未取代的标记为一同包含不具有取代基的基团和具有取代基的基团。例如，“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，还包含具有取代基的烷基(取代烷基)。并且，本说明书中的“有机基”是指包含至少1个碳原子的基团。本说明书中，利用“～”表示的数值范围是指将记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。本说明书中，当在感光性层等层中存在多种相当于各成分的物质时，除非另有说明，则感光性层等层中的各成分的量是指存在于感光性层等层中的上述多种物质的合计量。本说明书中，“工序”这一词不仅包含独立的工序，即使无法与其他工序明确区别的情况下，只要达到该工序的预期目的，则也包含于本术语中。本说明书中，“(甲基)丙烯酸”为包含丙烯酸及甲基丙烯酸这两者的概念，“(甲基)丙烯酸酯”为包含丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯这两者的概念，“(甲基)丙烯酰基”为包含丙烯酰基及甲基丙烯酰基这两者的概念。本说明书中，“光”为包含诸如γ射线、β射线、电子束、紫外线、可见光线、红外线的活性能量射线的概念。除非另有说明，则本说明书中的“曝光”不仅包含基于汞灯的明线光谱、以准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线、X射线及EUV(Extremeultraviolet：极紫外线)光等的曝光，也包含基于电子束及离子束等粒子束的曝光。本说明书中，“透明”是指23℃下的波长400nm～800nm下的最低透过率为80％以上(优选为90％以上，更优选为95％以上)。并且，本说明书中，2个以上的优选的方式的组合为更优选的方式。(转印薄膜)本专利技术的转印薄膜具备临时支本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种转印薄膜，其具备临时支承体及感光性层，/n所述感光性层含有：/n包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；/n自由基聚合性化合物；及/n光聚合引发剂，/n所述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，/n所述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，/n所述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上；/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171227 JP 2017-2523081.一种转印薄膜，其具备临时支承体及感光性层，
所述感光性层含有：
包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；
自由基聚合性化合物；及
光聚合引发剂，
所述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，
所述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，
所述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上；



式A1中，Ar表示苯基或萘基，RA1表示氢原子或烷基。


2.根据权利要求1所述的转印薄膜，其中，
所述聚合物A还包含具有酸基的构成单元。


3.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，
所述感光性层还包含热交联性化合物。


4.根据权利要求3所述的转印薄膜，其中，
所述热交联性化合物中的热交联性基团为封端异氰酸酯基。


5.根据权利要求3或4所述的转印薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：霜山达也，袴田旺弘，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP