转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种可得到水蒸气透过率(WVTR)降低的固化膜，粘性小，且显影液中的耐刮擦性优异的转印薄膜、使用了上述转印薄膜的电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。转印薄膜具备临时支承体及感光性层，上述感光性层含有：包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；自由基聚合性化合物；及光聚合引发剂，上述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，上述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，上述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法
本专利技术涉及一种转印薄膜、电极保护膜、层叠体、静电电容型输入装置及触摸面板的制造方法。
技术介绍
以往，已知一种具备感光性组合物及使用了感光性组合物的感光性层的转印薄膜(也称为“感光性薄膜”)。专利文献1中记载有一种感光性树脂组合物，其含有树脂、包含由下述通式(1)表示的结构的聚合性化合物及光聚合引发剂。[化学式1]由通式(1)表示的结构在*的位置与其他结构键合而形成聚合性化合物。并且，通式(1)中，R0表示氢原子或甲基，R1表示氢原子、一价有机基或与上述其他结构键合而形成包含-R1CHX-的环结构的二价有机基。X表示-O-、-NR2-或-S-。R2表示氢原子、一价有机基或与上述其他结构键合而形成包含-R2N-的环结构的二价有机基。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2009-229720号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题有时对使转印薄膜中的感光性层固化而成的固化膜要本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种转印薄膜，其具备临时支承体及感光性层，/n所述感光性层含有：/n包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；/n自由基聚合性化合物；及/n光聚合引发剂，/n所述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，/n所述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，/n所述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上；/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171227 JP 2017-2523081.一种转印薄膜，其具备临时支承体及感光性层，
所述感光性层含有：
包含由下述式A1表示的构成单元、源自具有脂环式结构的单体的构成单元及具有自由基聚合性基团的构成单元的聚合物A；
自由基聚合性化合物；及
光聚合引发剂，
所述由式A1表示的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为10质量％以上，
所述源自具有脂环式结构的单体的构成单元的含量相对于聚合物A的总质量为15质量％以上，
所述具有脂环式结构的单体的均聚物的玻璃化转变温度为120℃以上；



式A1中，Ar表示苯基或萘基，RA1表示氢原子或烷基。


2.根据权利要求1所述的转印薄膜，其中，
所述聚合物A还包含具有酸基的构成单元。


3.根据权利要求1或2所述的转印薄膜，其中，
所述感光性层还包含热交联性化合物。


4.根据权利要求3所述的转印薄膜，其中，
所述热交联性化合物中的热交联性基团为封端异氰酸酯基。


5.根据权利要求3或4所述的转印薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：霜山达也，袴田旺弘，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP