借助测量光谱与参照光谱的互相关来测定均匀分布在介质中的化学物质的存在的方法技术

本发明专利技术涉及一种测定均匀分布在介质中的至少一种化学物质Ｖ′的同一性或非同一性的方法，其通过：ａ）将含有至少一种均匀分布的化学物质Ｖ′的介质曝露于具有可变波长λ的分析辐射中，和ｂ）借助吸收、反射、发射和／或散射的辐射来确定光谱测量函数Ｉ′（λ）。本发明专利技术方法特征在于根据方程式Ⅰ确定相关函数Ｋ（δλ，ｃ′，ｃ），其中Ｋ（δλ，ｃ′，ｃ）表示取决于函数Ｉ′（λ，ｃ′）和Ｉ（λ，ｃ）的相对位移δλ及至少一种化学物质Ｖ′及Ｖ的浓度ｃ′及ｃ的相关性；ｃ′表示均匀分布在介质中的具有已知或待定同一性的至少一种化学物质Ｖ′的浓度；ｃ表示均匀分布在介质中的具有已知同一性的至少一种化学物质Ｖ的浓度，Ｉ′（λ，ｃ′）表示具有浓度ｃ′的至少一种均匀分布在介质中的化学物质Ｖ′的测量函数，Ｉ（λ，ｃ）表示具有浓度ｃ的至少一种均匀分布在介质中的化学物质Ｖ的比较函数，和Ｎ表示标准化因子，并借助相关函数Ｋ（δλ，ｃ′，ｃ）测定化学物质Ｖ′与Ｖ之间的同一性或非同一性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种测定均匀分布在介质中的至少一种化学物质V′的同一性或非同一性的方法，其通过a)将含有至少一种均匀分布的化学物质V′的介质曝露于具有可变波长λ的分析辐射中，和b)借助吸收、反射、发射和/或散射的辐射来确定光谱测量函数I′(λ)，其中根据方程式I确定相关函数K(δλ，c′，c)K(δλ,c′,c)=1/N·∫-∞+∞I′(λ,c′)·I(λ+δλ,c)dλ---(I)]]>其中K(δλ，c’，c)表示取决于函数I′(λ，c′)和I(λ，c)的相对位移δλ及至少一种化学物质V′及V的浓度c′及c的相关性，c′表示均匀分布在介质中的具有已知或待定同一性的至少一种化学物质V′的浓度，c表示均匀分布在介质中的具有已知同一性的至少一种化学物质本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种测定均匀分布在介质中的至少一种化学物质Ｖ′的同一性或非同一性的方法，其通过：　　　　ａ）将含有至少一种均匀分布的化学物质Ｖ′的介质曝露于具有可变波长λ的分析辐射中，和　　　　ｂ）借助吸收、反射、发射和／或散射的辐射来确定光谱测量函数Ｉ′（λ），　　　　其中根据方程式Ⅰ确定相关函数Ｋ（δλ，ｃ′，ｃ）：　　　　Ｋ（δλ，ｃ′，ｃ）＝１／Ｎ.＊Ｉ′（λ，ｃ′）.Ｉ（λ＋δλ，ｃ）ｄλ　　（Ⅰ）　　　　其中　　　　Ｋ（δλ，ｃ’，ｃ）表示取决于函数Ｉ′（λ，ｃ′）和Ｉ（λ，ｃ）的相对位移δλ及至少一种化学物质Ｖ′及Ｖ的浓度ｃ′及ｃ的相关性，　　　　ｃ′表示均匀分布在介质中的具有已知或待定同一性的...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：R森斯，C瓦姆瓦卡瑞斯，S艾伯特，E蒂尔，
申请(专利权)人：巴斯福股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]