【技术实现步骤摘要】
一种具有升降支撑台的半导体清洗装置
本专利技术涉及半导体清洗的
，具体涉及一种具有升降支撑台的半导体清洗装置。
技术介绍
半导体片的清洗是一项非常精细的工作，而且半导体片对清洗环境的要求较为苛刻，在清洗过程中，需要保证周边环境的清洁，同时对半导体片的清洗也是一项费时费力的工作。中国专利(公告号：CN110676197A)公开一种精密半导体清洗装置，其通过一对可分离并且可旋转的夹持块来完成半导体本体的夹持和旋转，这样使得半导体本体清洗更加彻底，但是由于一对夹持块只能水平分离，无法上下移动，使得半导体本体的进出料很不方便。
技术实现思路
本专利技术的目的是现在的半导体清洗装置进出料不方便的技术问题，提供了一种具有升降支撑台的半导体清洗装置。本专利技术解决上述技术问题的技术方案如下：一种具有升降支撑台的半导体清洗装置，包括长方体状的清洗箱和升降支撑单元；清洗箱的上侧壁中心成型有矩形槽状的进料口；清洗箱的上侧壁上设置有冲洗装置；冲洗装置包括一对水箱和一对冲洗移动座；一对冲洗移动座左右移动设置...
【技术保护点】
1.一种具有升降支撑台的半导体清洗装置，其特征在于：包括长方体状的清洗箱(10)和升降支撑单元(30)；清洗箱(10)的上侧壁中心成型有矩形槽状的进料口(100)；清洗箱(10)的上侧壁上设置有冲洗装置(20)；冲洗装置(20)包括一对水箱(21)和一对冲洗移动座(23)；一对冲洗移动座(23)左右移动设置在清洗箱(10)的上侧壁上；一对冲洗移动座(23)的下端面上分别设置有向内倾斜设置的冲洗喷头(24)；一对水箱(21)固定在清洗箱(10)的上端面左右两端；水箱(21)用于给相应侧的冲洗喷头(24)提供喷水；升降支撑单元(30)包括升降支撑台(31)；升降支撑台(31)竖...
【技术特征摘要】
1.一种具有升降支撑台的半导体清洗装置，其特征在于：包括长方体状的清洗箱(10)和升降支撑单元(30)；清洗箱(10)的上侧壁中心成型有矩形槽状的进料口(100)；清洗箱(10)的上侧壁上设置有冲洗装置(20)；冲洗装置(20)包括一对水箱(21)和一对冲洗移动座(23)；一对冲洗移动座(23)左右移动设置在清洗箱(10)的上侧壁上；一对冲洗移动座(23)的下端面上分别设置有向内倾斜设置的冲洗喷头(24)；一对水箱(21)固定在清洗箱(10)的上端面左右两端；水箱(21)用于给相应侧的冲洗喷头(24)提供喷水；升降支撑单元(30)包括升降支撑台(31)；升降支撑台(31)竖直升降设置在清洗箱(10)内并且升降支撑台(31)位于进料口(100)的正下方；升降支撑台(31)的上端面上左右移动设置有一对左右对称设置的侧支撑板(32)；一对侧支撑板(32)相互靠近的端面上端分别旋转设置有限位座(321)；一对限位座(321)相互靠近的端面分别成型有供半导体两端插入的限位插槽；右侧的侧支撑板(32)上固定有旋转驱动电机(33)；限位座(321)固定在旋转驱动电机(33)的输出轴上；清洗箱(10)的底面设置有若干排水孔(104)。
2.根据权利要求1所述的一种具有升降支撑台的半导体清洗装置，其特征在于：水箱(21)的下端设置有软水管(22)；软水管(22)的另一端固定在冲洗移动座(23)上并且与冲洗喷头(24)连接；水箱(21)内设置有水泵。
3.根据权利要求1所述的一种具有升降支撑台的半导体清洗装置，其特征在于：清洗箱(10)的上侧壁上成型有左右移动槽(101)；清洗箱(10)的左右端面上端分别固定有左右方向设置的左右驱动气缸(25)；冲洗移动座(23)固定在相应侧的左右驱动气缸(25)的活塞杆上；当一对冲洗移动座(23)相距最近时，一对冲洗移动座(23)封闭进料口(100)；当一对冲洗移动座(23)相距最远时，一对冲洗移动座(23)打开进料口(100)。
4.根据权利要求1所述的一种具有升降支撑台的半导体清洗装置，其特征在于：升降支撑台(31)的左右部分别成型有上下贯穿的水平导槽(310)；一对水平导槽(310)相互靠近的侧壁上分别成型有弹簧安置槽(311)；弹簧安置槽(311)和水平导槽(310)之间设...
【专利技术属性】
技术研发人员：秦小燕，
申请(专利权)人：咸宁恒舟信息科技有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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