一种金属辊状模具的制备方法技术

本发明专利技术提供了一种金属辊状模具的制备方法，包括：提供一待处理金属辊；在所述待处理金属辊上涂覆光刻胶；控制曝光光源、掩膜板和所述待处理金属辊的空间位置状态，对所述光刻胶进行曝光处理；进行显影操作，形成具有预设纹理图案的光刻胶模型；依据所述光刻胶模型，对所述待处理金属辊进行蚀刻处理。该制备方法简单，且可以实现更多纹理图案的制作，并且可以大批量生产，提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种金属辊状模具的制备方法
本专利技术涉及图形化制作
，更具体地说，涉及一种金属辊状模具的制备方法。
技术介绍
目前用于R2RUV转印的金属辊状模具现阶段最主要的制备方式有两种，其一：CNC雕刻的方式，采用钻石刀头直接在金属辊上雕刻出想要的模具纹理；其二：平板模具贴金属棍的方式，通过光刻制备平板模具，再用电铸法复制成镍平板，最后再贴合至金属棍上。但是，第一种制备方式仅仅只能制备一些纹理简单的模具，例如对于单条纹理宽度逐渐变化的模具，则无法通过CNC雕刻的方式加工，并且，单个模具的加工时间很长，也无法实现大批量制程。第二种制备方式其制备流程较长，且贴合的方式会导致产品良率较低，并且，镍板模具贴合至金属辊之后会留有板缝，影响模具生产使用。
技术实现思路
有鉴于此，为解决上述问题，本专利技术提供一种金属辊状模具的制备方法，技术方案如下：一种金属辊状模具的制备方法，所述制备方法包括：提供一待处理金属辊；在所述待处理金属辊上涂覆光刻胶；控制曝光光源、掩膜板和所述待处理金属辊的空间位置状态，对所述光刻胶进行曝光处理；进行显影操作，形成具有预设纹理图案的光刻胶模型；依据所述光刻胶模型，对所述待处理金属辊进行蚀刻处理。可选的，在上述制备方法中，所述光刻胶为正性光刻胶或负性光刻胶。可选的，在上述制备方法中，在所述待处理金属辊上涂覆光刻胶之后，所述制备方法还包括：对所述光刻胶进行烘烤处理。可选的，在上述制备方法中，所述控制曝光光源、掩膜板和所述待处理金属辊的空间位置状态，对所述光刻胶进行曝光处理，包括：控制所述曝光光源的空间位置固定不变；控制所述掩膜板进行水平移动；控制所述待处理金属辊的空间位置固定不变，且控制所述待处理金属辊以中心轴进行圆周运动。可选的，在上述制备方法中，所述掩膜板匀速进行水平移动，且速度与所述待处理金属辊旋转的线速度相同。可选的，在上述制备方法中，所述控制曝光光源、掩膜板和所述待处理金属辊的空间位置状态，对所述光刻胶进行曝光处理，包括：控制所述掩膜板的空间位置固定不变；控制所述曝光光源和所述待处理金属辊，沿着相同的方向进行水平移动；在所述待处理金属辊的水平移动过程中，控制所述待处理金属辊以中心轴进行圆周运动。可选的，在上述制备方法中，所述曝光光源和所述待处理金属辊均以匀速进行水平移动，且速度相同；所述待处理金属辊旋转的线速度与所述待处理金属辊的水平移动速度相同。可选的，在上述制备方法中，所述待处理金属辊旋转的线速度为所述待处理金属辊上光刻胶的表面线速度。可选的，在上述制备方法中，所述待处理金属辊旋转的线速度为所述待处理金属辊半径和所述光刻胶厚度之和，与预设角速度的乘积。可选的，在上述制备方法中，所述制备方法还包括：去除所述光刻胶模型。相较于现有技术，本专利技术实现的有益效果为：本专利技术提供的一种金属辊状模具的制备方法包括：提供一待处理金属辊；在所述待处理金属辊上涂覆光刻胶；控制曝光光源、掩膜板和所述待处理金属辊的空间位置状态，对所述光刻胶进行曝光处理；进行显影操作，形成具有预设纹理图案的光刻胶模型；依据所述光刻胶模型，对所述待处理金属辊进行蚀刻处理。该制备方法简单，且可以实现更多纹理图案的制作，并且可以大批量生产，提高生产效率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种金属辊状模具的制备方法的流程示意图；图2为图1所示制备方法相对应的结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的第一种曝光模式的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的第一种曝光模式的原理示意图；图5为本专利技术实施例提供的一种待处理金属辊和光刻胶的截面示意图；图6为本专利技术实施例提供的第二种曝光模式的结构示意图；图7为本专利技术实施例提供的第二种曝光模式的原理示意图；图8-图10为图1所示制备方法相对应的结构示意图。。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细的说明。参考图1，图1为本专利技术实施例提供的一种金属辊状模具的制备方法的流程示意图。所述制备方法包括：S101：如图2所示，提供一待处理金属辊11。S102：在所述待处理金属辊11上涂覆光刻胶。在该步骤中，所述光刻胶为正性光刻胶或负性光刻胶。S103：控制曝光光源、掩膜板和所述待处理金属辊的空间位置状态，对所述光刻胶进行曝光处理。在该步骤中，所述待处理金属辊上预先刻有一对mark，其mark的形状和尺寸与掩膜板上的完全一致，曝光前，包括但不限定于通过CCD对位系统，将掩膜板和待处理金属辊上的mark进行精准对位。参考图3，图3为本专利技术实施例提供的第一种曝光模式的结构示意图。参考图4，图4为本专利技术实施例提供的第一种曝光模式的原理示意图。如图3和图4所示，为第一种曝光模式：控制所述曝光光源12的空间位置固定不变；控制所述掩膜板13进行水平移动；控制所述待处理金属辊11的空间位置固定不变，且控制所述待处理金属辊11以中心轴进行圆周运动。也就是说，第一种曝光模式是要求曝光光源12的空间位置固定不动，待处理金属辊11原地旋转，掩膜板13沿水平方向移动。如图4所示，曝光光源12固定，掩膜板13水平向右以速度v1进行移动，待处理金属辊11在原地以预设角速度ω顺时针旋转。需要说明的是，所述掩膜板13匀速进行水平移动，且速度v1与所述待处理金属辊11旋转的线速度v2相同，所述待处理金属辊11旋转的线速度为所述待处理金属辊11上光刻胶的表面线速度。参考图5，图5为本专利技术实施例提供的一种待处理金属辊和光刻胶的截面示意图。所述待处理金属辊11旋转的线速度为所述待处理金属辊11半径和所述光刻胶厚度之和，与预设角速度ω的乘积，即v2＝ω·(r1+d)。当v1≠ω·(r1+d)时，则会出现图形错位且形状发生改变的问题。参考图6，图6为本专利技术实施例提供的第二种曝光模式的结构示意图。参考图7，图7为本专利技术实施例提供的第二种曝光模式的原理示意图。如图6和图7所示，为第二种曝光模式：控制所述掩膜板本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种金属辊状模具的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：/n提供一待处理金属辊；/n在所述待处理金属辊上涂覆光刻胶；/n控制曝光光源、掩膜板和所述待处理金属辊的空间位置状态，对所述光刻胶进行曝光处理；/n进行显影操作，形成具有预设纹理图案的光刻胶模型；/n依据所述光刻胶模型，对所述待处理金属辊进行蚀刻处理。/n

【技术特征摘要】
1.一种金属辊状模具的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
提供一待处理金属辊；
在所述待处理金属辊上涂覆光刻胶；
控制曝光光源、掩膜板和所述待处理金属辊的空间位置状态，对所述光刻胶进行曝光处理；
进行显影操作，形成具有预设纹理图案的光刻胶模型；
依据所述光刻胶模型，对所述待处理金属辊进行蚀刻处理。


2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光刻胶为正性光刻胶或负性光刻胶。


3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述待处理金属辊上涂覆光刻胶之后，所述制备方法还包括：
对所述光刻胶进行烘烤处理。


4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述控制曝光光源、掩膜板和所述待处理金属辊的空间位置状态，对所述光刻胶进行曝光处理，包括：
控制所述曝光光源的空间位置固定不变；
控制所述掩膜板进行水平移动；
控制所述待处理金属辊的空间位置固定不变，且控制所述待处理金属辊以中心轴进行圆周运动。


5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述掩膜板匀速进行水平移动，且...

【专利技术属性】
技术研发人员：易伟华，张迅，刘明礼，孙如，侯大刚，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36