倾斜光栅的制备方法、压印模板技术

本发明专利技术提供一种倾斜光栅的制备方法、压印模板，属于光栅制备技术领域，其可至少部分解决现有的压印模板以及制备方法对制备倾斜光栅具有一定困难的问题。本发明专利技术的一种倾斜光栅的制备方法，包括：在基底上形成柔性材料层；在柔性材料层远离基底的表面上形成磁性材料层；对柔性材料层和磁性材料层进行图案化处理，柔性材料层形成多个间隔分布的柱状的柔性结构，磁性材料层形成多个间隔分布的柱状的磁性结构，且柔性结构与磁性结构一一对应，以形成压印模板，其中，基底的位置不变时，当磁性结构受磁力发生位置变化，能够带动柔性结构发生位置变化；利用压印模板形成倾斜光栅。

【技术实现步骤摘要】
倾斜光栅的制备方法、压印模板
本专利技术属于光栅制备
，具体涉及一种倾斜光栅的制备方法、压印模板。
技术介绍
纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。纳米压印技术常用于形成光栅结构，具体的，现在形成具有纳米结构的压印模板，再利用该压印模板对光栅材料层进行压印，最后将压印好的光栅材料层固化，形成光栅结构。然而，现有技术的压印模板以及方法对于倾斜光栅而言具有一定的困难，如制备倾斜角度的多个倾斜光栅可能需要多个不同的压印模板，从而增加倾斜光栅制备难度。
技术实现思路
本专利技术至少部分解决现有的压印模板以及制备方法对制备倾斜光栅具有一定困难的问题，提供一种简单、易操作的倾斜光栅的制备方法。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种倾斜光栅的制备方法，包括：在基底上形成柔性材料层；在所述柔性材料层远离所述基底的表面上形成磁性材料层；对所述柔性材料层和所述磁性材料层进行图案化处理，所述柔性材料层形成多个间隔分布的柱状的柔性结构，所述磁性材料层形成多个间隔分布的柱状的磁性结构，且所述柔性结构与所述磁性结构一一对应，以形成压印模板，其中，所述基底的位置不变时，当所述磁性结构受磁力发生位置变化，能够带动所述柔性结构发生位置变化；利用所述压印模板形成倾斜光栅。进一步优选的是，所述利用所述压印模板形成倾斜光栅之前包括：在衬底上形成压印材料。进一步优选的是，所述利用所述压印模板形成倾斜光栅包括：将所述压印模板的磁性结构朝向所述压印材料，并对所述压印材料进行压印，以使所述压印材料充满所述柔性结构之间的间隔和所述磁性结构之间的间隔；对所述磁性结构施加磁力，使得磁性结构发生位置变化，并且所述磁性结构的位置变化带动所述柔性结构发生相对所述基底的位置变化；对所述压印材料进行固化处理，以形成倾斜光栅。进一步优选的是，所述对所述压印材料进行固化处理，以形成倾斜光栅之后还包括：将所述压印模板与所述倾斜光栅脱离。进一步优选的是，所述将所述压印模板的磁性结构朝向所述压印材料，并对所述压印材料进行压印包括：在第一磁场的作用下，每个所述柔性结构的轴线与所述基底垂直；所述对所述磁性结构施加磁力，使得磁性结构发生位置变化，并且所述磁性结构的位置变化带动所述柔性结构发生相对所述基底的位置变化包括：在第二磁场的作用下，所述磁力的方向与所述基底呈锐角，发生位置变化后的所述柔性结构的轴线与所述基底呈锐角。进一步优选的是，所述对所述柔性材料层和所述磁性材料层进行图案化处理包括：形成的所述磁性结构的高度为所述柔性结构的高度的0.1-0.3倍。进一步优选的是，所述在基底上形成柔性材料层包括：所述柔性材料层的形成材料为聚酰亚胺或者聚对苯二甲酸乙二醇酯。进一步优选的是，所述在所述柔性材料层远离所述基底的表面上形成磁性材料层包括：所述磁性材料层的形成材料包括铁、钴、镍以及掺杂磁性纳米颗粒的有机材料之中的一种或者多种。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种用于制备倾斜光栅的压印模板，基于上述的倾斜光栅的制备方法，所述压印模板包括：基底；多个柔性结构，位于所述基底上，所述柔性结构呈柱状，且间隔分布；多个磁性结构，位于所述柔性结构远离所述基底的一侧，所述磁性结构呈柱状，所述柔性结构与所述磁性结构一一对应，所述基底的位置不变时，当所述磁性结构受磁力发生位置变化，能够带动所述柔性结构发生相对所述基底的位置变化。进一步优选的是，所述磁性结构的高度为所述柔性结构的高度的0.1-0.3倍。附图说明附图是用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本专利技术，但并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1为本专利技术的实施例的一种倾斜光栅的制备方法的流程示意图；图2为本专利技术的实施例的一种倾斜光栅的制备方法的流程示意图；图3a至图3h为本专利技术的实施例的一种倾斜光栅的制备方法的各个步骤的结构示意图；图4a和图4b为本专利技术的实施例的一种倾斜光栅的制备方法中电磁铁装置工作的示意图；图5a和图5b为本专利技术的实施例的一种压印模板的受磁力情况的示意图；其中，附图标记为：1、基底；2、柔性材料层；21、柔性结构；3、磁性材料层；31、磁性结构；4、压印模板；5、衬底；6、压印材料；61、倾斜光栅；7、电磁铁装置。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步详细描述。在本专利技术中，“构图工艺”是指形成具有特定的图形的结构的步骤，其可为光刻工艺，光刻工艺包括形成材料层、涂布光刻胶、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等步骤中的一步或多步；当然，“构图工艺”也可为压印工艺、喷墨打印工艺等其它工艺。以下将参照附图更详细地描述本专利技术。在各个附图中，相同的元件采用类似的附图标记来表示。为了清楚起见，附图中的各个部分没有按比例绘制。此外，在图中可能未示出某些公知的部分。在下文中描述了本专利技术的许多特定的细节，例如部件的结构、材料、尺寸、处理工艺和技术，以便更清楚地理解本专利技术。但正如本领域的技术人员能够理解的那样，可以不按照这些特定的细节来实现本专利技术。实施例1：如图1至图5b所示，本实施例提供一种倾斜光栅61的制备方法，包括：S11、如图3a所示，在基底1上形成柔性材料层2。S12、如图3b所示，在柔性材料层2远离基底1的表面上形成磁性材料层3。其中，也就是说在基底1的同一表面上依次形成柔性材料层2和磁性材料层3。S13、如图3c和图3d所示，对柔性材料层2和磁性材料层3进行图案化处理，柔性材料层2形成多个间隔分布的柱状的柔性结构21，磁性材料层3形成多个间隔分布的柱状的磁性结构31，且柔性结构21与磁性结构31一一对应，以形成压印模板4，其中，基底1的位置不变时，当磁性结构31受磁力发生位置变化，能够带动柔性结构21发生相对基底1的位置变化。其中，也就是说经过图案化处理，形成柔性结构21和磁性结构31，可以是进过一次图案化处理，同时形成柔性结构21和磁性结构31；也可以进过两次图案化处理，依次形成磁性结构31和柔性结构21。由于柔性结构21和磁性结构31是相互叠置的，通常理解为柔性结构21的截面和磁性结构31的截面形状是相同的。同时，由于柔性结构21与磁性结构31是相互连接的，当磁性结构31所受磁力使得磁性结构31发生位移时，磁性结构31也会给柔性结构21相应的作用力，使得柔性结构21的形状或者位置发生变化。S14、利用压印模板4形成倾斜光栅61。其中，也就是说利用柔性结构21的可发生形变的性质以及磁性结构31的具有磁性的特点来形成倾斜光栅61。具有的，在形成倾斜光栅61的过程中，当柔性结构21的形状或者位置发生变化，即柔性本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种倾斜光栅的制备方法，其特征在于，包括：/n在基底上形成柔性材料层；/n在所述柔性材料层远离所述基底的表面上形成磁性材料层；/n对所述柔性材料层和所述磁性材料层进行图案化处理，所述柔性材料层形成多个间隔分布的柱状的柔性结构，所述磁性材料层形成多个间隔分布的柱状的磁性结构，且所述柔性结构与所述磁性结构一一对应，以形成压印模板，其中，所述基底的位置不变时，当所述磁性结构受磁力发生位置变化，能够带动所述柔性结构发生位置变化；/n利用所述压印模板形成倾斜光栅。/n

【技术特征摘要】
1.一种倾斜光栅的制备方法，其特征在于，包括：
在基底上形成柔性材料层；
在所述柔性材料层远离所述基底的表面上形成磁性材料层；
对所述柔性材料层和所述磁性材料层进行图案化处理，所述柔性材料层形成多个间隔分布的柱状的柔性结构，所述磁性材料层形成多个间隔分布的柱状的磁性结构，且所述柔性结构与所述磁性结构一一对应，以形成压印模板，其中，所述基底的位置不变时，当所述磁性结构受磁力发生位置变化，能够带动所述柔性结构发生位置变化；
利用所述压印模板形成倾斜光栅。


2.根据权利要求1所述的倾斜光栅的制备方法，其特征在于，所述利用所述压印模板形成倾斜光栅之前包括：
在衬底上形成压印材料。


3.根据权利要求2所述的倾斜光栅的制备方法，其特征在于，所述利用所述压印模板形成倾斜光栅包括：
将所述压印模板的磁性结构朝向所述压印材料，并对所述压印材料进行压印，以使所述压印材料充满所述柔性结构之间的间隔和所述磁性结构之间的间隔；
对所述磁性结构施加磁力，使得磁性结构发生位置变化，并且所述磁性结构的位置变化带动所述柔性结构发生相对所述基底的位置变化；
对所述压印材料进行固化处理，以形成倾斜光栅。


4.根据权利要求3所述的倾斜光栅的制备方法，其特征在于，所述对所述压印材料进行固化处理，以形成倾斜光栅之后还包括：
将所述压印模板与所述倾斜光栅脱离。


5.根据权利要求3所述的倾斜光栅的制备方法，其特征在于，所述将所述压印模板的磁性结构朝向所述压印材料，并对所述压印材料进行压印包括：
在第一磁场的作用下，每个所述柔性结构的轴线与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李多辉，路彦辉，周雪原，赵晋，宋梦亚，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11