光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法制造方法及图纸

提供光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法，能够在不从光掩模卸下保护膜的情况下对转印用图案的缺陷进行修正。一种光掩模的修正方法，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，该光掩模的修正方法具有成膜工序，在该成膜工序中，在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下，将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中，并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光，使所述原料气体发生反应，由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。

【技术实现步骤摘要】
光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法
本专利技术涉及光掩模的修正方法、光掩模的修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法和显示装置的制造方法。
技术介绍
作为光掩模的制造方法，已知有对在透明基板上形成有至少1个薄膜的光掩模基板应用光刻法形成转印用图案的方法。近年来，显示装置用光掩模的图案尺寸存在细微化的动向。另一方面，在光掩模的制造过程中，由于薄膜的图案形成的不完全或异物的附着等，难以完全避免转印用图案的缺陷。以往，作为光掩模的缺陷的修正方法，已知有激光CVD(ChemicalVaporDeposition：化学气相沉积)法(参照专利文献1)。此外，为了抑制异物附着到已完成的光掩模上，根据需要，有时在形成有光掩模的转印用图案的面侧粘贴被称作保护膜(Pellicle)的部件。该保护膜例如记载在专利文献2中。专利文献1：日本特开平2-140744号公报专利文献2：日本特开平9-68792号公报
技术实现思路
但是，专利文献1、2中均未公开对粘贴有保护膜的光掩模的缺陷进行修正的方法。在需要在粘贴保护膜之后进行修正的情况下，需要从光掩模取下保护膜以进行修正，在修正完成之后将新的保护膜粘贴到光掩模。因此，生产性能的降低、成本的增加成为问题。因此，本专利技术的目的在于提供一种能够在不从光掩模取下保护膜的情况下对转印用图案的缺陷进行修正的光掩模的修正方法。本专利技术的目的还在于提供光掩模的修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法和显示装置的制造方法。(第1方式)根据本专利技术的第1方式，提供一种光掩模的修正方法，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，该光掩模的修正方法具有成膜工序，在该成膜工序中，在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下，将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中，并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光，使所述原料气体发生反应，由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。(第2方式)根据本专利技术的第2方式，提供根据第1方式所述的光掩模的修正方法，其中，在所述成膜工序中，从设置在所述保护膜所具有的保护膜框上的保护膜通气口导入所述原料气体。(第3方式)根据本专利技术的第3方式，提供根据第2方式所述的光掩模的修正方法，其中，所述保护膜被夹具夹持，该夹具具有能够与所述保护膜通气口紧贴的开口部，在所述成膜工序中，通过所述开口部从所述保护膜通气口导入所述原料气体。(第4方式)根据本专利技术的第4方式，提供根据第1方式～第3方式中的任意一个所述的光掩模的修正方法，其中，在所述成膜工序之后具有气体置换工序，在该气体置换工序中，通过将置换气体导入到所述保护膜空间内，将所述原料气体从所述保护膜空间排出。(第5方式)根据本专利技术的第5方式，提供根据第1方式～第4方式中的任意一个所述的光掩模的修正方法，其中，在所述成膜工序中，对所述光掩模进行加温。(第6方式)根据本专利技术的第6方式，提供一种带保护膜的光掩模的制造方法，其中，使用第1方式～第5方式中的任意一个所述的光掩模的修正方法，对形成在所述光掩模上的转印用图案的缺陷进行修正。(第7方式)根据本专利技术的第7方式，提供一种显示装置的制造方法，其具有以下工序：准备通过第6方式所述的制造方法来制造的带保护膜的光掩模；以及使用曝光装置对所述带保护膜的光掩模进行曝光，将转印用图案转印至被转印体。(第8方式)根据本专利技术的第8方式，提供一种光掩模的修正装置，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，该光掩模的修正装置具有：掩模保持架，其保持在所述主表面上粘贴有保护膜的状态的所述光掩模；气体导入管，其用于将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中；激光照射单元，其透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光；激光水平移动单元，其使所述激光照射单元在XY平面内移动；以及控制单元，其对所述激光水平移动单元进行控制。(第9方式)根据本专利技术的第9方式，提供根据第8方式所述的光掩模的修正装置，其中，该光掩模的修正装置还具有夹具，该夹具具有中空的一对臂，所述一对臂中的至少一方具有开口部，该开口部与所述气体导入管连接，并且能够与设置在所述保护膜具有的保护膜框上的保护膜通气口紧贴，所述夹具利用所述一对臂夹持所述保护膜框，使得所述开口部与所述保护膜通气口紧贴。(第10方式)根据本专利技术的第10方式，提供根据第8方式或第9方式所述的光掩模的修正装置，其中，该光掩模的修正装置还具有气体排出管，该气体排出管用于将剩余的所述原料气体从所述保护膜空间排出。(第11方式)根据本专利技术的第11方式，提供根据第8方式～第10方式中的任意一个所述的光掩模的修正装置，其中，该光掩模的修正装置还具有加热器，该加热器对所述光掩模进行加温。根据本专利技术，可以提供一种能够在不从光掩模卸下保护膜的情况下对光掩模的缺陷进行修正的光掩模的修正方法、光掩模的修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法和显示装置的制造方法。附图说明图1是示出本专利技术一个实施方式的光掩模的修正方法的概要的说明图，图1的(a)是示出对缺陷部位照射激光的状态的概要图，图1的(b)是示出在激光的照射后、在缺陷部位堆积有修正膜的状态的概要图。图2是示出本专利技术一个实施方式的光掩模的修正装置的臂夹持保护膜框(Pellicleframe)的状态的概要图。图3是例示本专利技术一个实施方式的光掩模的修正装置的概要的结构图。标号说明1：光掩模：1a：透明基板：1b：转印用图案：2：保护膜：2a：保护膜膜体：2b：保护膜框：3：保护膜通气口：4：缺陷部位：5：保护膜空间：6：修正膜：7：夹具：8：激光振荡器：9：激光：10：开口部：15：掩模保持架：20：气体导入管：30：激光水平移动部：35：上部XYZ机器人控制部：40：控制单元：100：修正装置。具体实施方式首先，对本实施方式的光掩模、保护膜和转印用图案的缺陷进行说明。<1.光掩模、保护膜和转印用图案的缺陷的例子>对本专利技术一个实施方式的光掩模、保护膜和转印用图案的缺陷的一例进行说明。(光掩模)如图1所示，本实施方式的光掩模1对透明基板1a上的至少1个薄膜进行图案形成而形成转印用图案1b。例如，能够通过对在透明基板1a的一个主表面上形成有遮光膜等薄膜的光掩模基板应用光刻法(Photolithography)而形成转印用图案1b，从而获得光掩模1。具体而言，光掩模1是通过如下所述的方法来制造的。首先，准备在透明基板1a上形成有薄膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光掩模的修正方法，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，/n该光掩模的修正方法具有成膜工序，在该成膜工序中，在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下，将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中，并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光，使所述原料气体发生反应，由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。/n

【技术特征摘要】
20190305 JP 2019-0394151.一种光掩模的修正方法，对光掩模的转印用图案中所产生的缺陷进行修正，该光掩模在透明基板的主表面上具有所述转印用图案，其中，
该光掩模的修正方法具有成膜工序，在该成膜工序中，在所述光掩模上粘贴有保护膜的状态下，将原料气体导入到由所述光掩模和所述保护膜形成的保护膜空间中，并且透过所述保护膜具有的保护膜膜体朝缺陷部位照射激光，使所述原料气体发生反应，由此使修正膜堆积在所述缺陷部位。


2.根据权利要求1所述的光掩模的修正方法，其中，
在所述成膜工序中，从设置在所述保护膜所具有的保护膜框上的保护膜通气口导入所述原料气体。


3.根据权利要求2所述的光掩模的修正方法，其中，
所述保护膜被夹具夹持，该夹具具有能够与所述保护膜通气口紧贴的开口部，
在所述成膜工序中，通过所述开口部从所述保护膜通气口导入所述原料气体。


4.根据权利要求1～3中的任意一项所述的光掩模的修正方法，其中，
在所述成膜工序之后具有气体置换工序，在该气体置换工序中，通过将置换气体导入到所述保护膜空间内，将所述原料气体从所述保护膜空间排出。


5.根据权利要求1～3中的任意一项所述的光掩模的修正方法，其中，
在所述成膜工序中，对所述光掩模进行加温。


6.一种带保护膜的光掩模的制造方法，其中，
该带保护膜的光掩模的制造方法具有如下的工序：使用权利要求1～5中的任意一项所述的光掩模的修正方法，对形成在所述光掩模上的转印用图案...

【专利技术属性】
技术研发人员：宫崎由宽，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP