一种掩模版缺陷修复方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种掩模版缺陷修复方法及装置，涉及光刻技术领域，以快速准确的修复各种图形的掩模版的缺陷，使得掩模版缺陷的修复方式具有普适性。所述掩模版缺陷修复方法包括：接收掩模版的几何结构信息；根据所述掩模版的几何结构信息对掩模版图形进行分段编码，获得图形分段编码；所述图形分段编码包括至少一种图形特征分段编码；采用遗传算法对所述图形分段编码进行优化，获得图形分段编码的优化结果；根据所述图形分段编码的优化结果修复所述掩模版图形的缺陷。所述装置应用于上述技术方案所提的掩模版缺陷修复方法。本发明专利技术提供的掩模版缺陷修复方法用于修复掩模版缺陷。

【技术实现步骤摘要】
一种掩模版缺陷修复方法及装置
本专利技术涉及光刻
，尤其涉及一种掩模版缺陷修复方法及装置。
技术介绍
极紫外光刻(ExtremeUltravioletLithography，缩写EUVL或EUV)是一种以波长为10nm-14nm的极紫外光作为光源的光刻技术，被认为是最具发展前景的下一代光刻技术。在EUV光刻机中采用全反射微缩投影光学系统将极紫外光投射到掩模版上，以使得掩模版图形转移至待光刻的硅片形成的膜层上。当掩模版存在缺陷时，EUV光刻机利用13.5nm的曝光波长对膜层进行曝光，导致掩模版所存在的缺陷随着图形转移到图案化膜层中，进而极大地影响曝光后所形成的图形化膜层的关键尺寸。现有技术中，可采用掩模图形调节方法对简单图形的掩模版进行补偿，但是无法对复杂图形案的掩模版进行快速优化。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种掩模版缺陷修复方法及装置，以快速准确的修复各种图形的掩模版的缺陷，使得掩模版缺陷的修复方式具有普适性。为了实现上述目的，本专利技术提供一种掩模版缺陷修复方法。该掩模版本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模版缺陷修复方法，其特征在于，包括：/n接收掩模版的几何结构信息；/n根据所述掩模版的几何结构信息对掩模版图形进行分段编码，获得图形分段编码；所述图形分段编码包括至少一种图形特征分段编码；/n采用遗传算法对所述图形分段编码进行优化，获得图形分段编码的优化结果；/n根据所述图形分段编码的优化结果修复所述掩模版图形的缺陷。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩模版缺陷修复方法，其特征在于，包括：
接收掩模版的几何结构信息；
根据所述掩模版的几何结构信息对掩模版图形进行分段编码，获得图形分段编码；所述图形分段编码包括至少一种图形特征分段编码；
采用遗传算法对所述图形分段编码进行优化，获得图形分段编码的优化结果；
根据所述图形分段编码的优化结果修复所述掩模版图形的缺陷。


2.根据权利要求1所述的掩模版缺陷修复方法，其特征在于，所述至少一种图形特征分段编码信息包括：边特征分段编码和/或角特征分段编码。


3.根据权利要求2所述的掩模版缺陷修复方法，其特征在于，当所述至少一种图形特征分段编码信息含有边特征分段编码，所述图形分段编码的优化结果包括优化后边特征分段编码；所述优化后边特征分段编码映射的掩模版图形的边特征段数量与所述边特征分段编码映射的掩模版图形的边特征段数量相同或不同；和/或，
当所述至少一种图形特征分段编码信息含有角特征分段编码，所述图形分段编码的优化结果包括优化后角特征分段编码；所述优化后角特征分段编码映射的掩模版图形所含有的角特征段数量与所述图形分段编码映射的掩模版图形所含有的角特征段数量相同。


4.根据权利要求1所述的掩模版缺陷修复方法，其特征在于，所述遗传算法的选择策略为锦标赛选择策略；和/或，
所述遗传算法的适应度函数用于评价种群的个体的空间像与设计光刻图形的适应度；和/或，
所述遗传算法的适应度函数满足：



其中，ffitness为适应度值，为像素点坐标，为掩模版的空间像素点光强度，为设计光刻图形像素点光强度；为二值化的掩模版空间像素点光强度，为二值化的设计光刻图形像素点光强度，NILSatedge为掩模版图形边缘归一化光强对数斜率，a1、a2、a3均为常数。


5.根据权利要求1～4任一项所述的掩模版缺陷修复方法，其特征在于，每种所述图形特征分段编码包括多段特征尺寸参数和/或多段特征偏移参数。


6.根据权利要求5所述的掩模版缺陷修复方法，其特征在于，所述采用遗传算法对所述图形分段编码进行优化，获得图形分段编码的优化结果包括：
对所述图形分段编码进行初始化处理，获得初始种群；
根据所述初始种群的适应度值筛选出候选种群；
对所述候选种群进行进化，获得子代种群；
确定所述子代种群满足进化终止条件的情况下，根据所述子代种群的各个个体适应度值获得图形分段编码的优化结果；
确定所述子代种群不满足进化终止条件的情况下，根据所述子代种群的各个个体适应度值更新候选种群。


7.根据权利要求6所述的掩模版缺陷修复方法，其特征在于，所述进化终止条件为所述子代种群含有的至少一个个体适应度值小于或等于适应度阈值；和/或，
所述进化终止条件为当前进化次数大于或等于次数阈值。


8.根据权利要求6所述的掩模版缺陷修复方法，其特征在于，当所述图形分段编码含有边特征分段编码，所述候选种群所含有的至少一个个体映射的掩膜版图形的边特征段长度小于最小长度值，所述候选种群进化成的所述子代种群所含有的每个个体映射的掩模版图形的边特征段长度均大于或等于最小长度值；和/或，
所述初始种群包括的各个所述图形分段编码所述含有的多段特征尺寸参数和/或多段特征偏移参数不同。


9.根据权利要求1～4任一项所述的掩模版缺陷修复方法，其特征在于，所述根据所述掩模版的几何结构信息对掩模版图形进行分段编码，获得图形分段编码后，所述采用遗传算法对所述图形分段编码进行优化，获得图形分段编码的优化结果前，所述掩模版缺陷修复方法还包括：
采用逐次逼近的方式将所述图形分段编码修正成收敛的所述图形分段编码。


10.根据权利要求9所述的掩模版缺陷修复方法，其特征在于，所述图形分段编码的收敛条件为边缘放置误差小于或等于误差阈值。


11.一种掩模版缺陷修复装...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴睿轩，韦亚一，董立松，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11