铝构件及其制造方法技术

本发明专利技术通过简便的初级处理提供高白度的铝构件。本发明专利技术的铝构件包括：母材，其由铝或铝合金形成；以及阳极氧化覆膜，其在母材表面上具有阻挡层，且在阻挡层上具有多孔层，阳极氧化覆膜含有P及S，且具有小于等于100μm的厚度，在从阳极氧化覆膜的表面朝向母材的深度方向上，距表面的深度大于等于500nm的区域中的S达到最大含量的深度大于P达到最大含量的深度，且S的最大含量大于P的最大含量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】铝构件及其制造方法
本专利技术涉及一种铝构件及其制造方法。
技术介绍
在建筑材料或电子设备的外壳等要求外观设计性的用途中，优选不透明白色的铝构件。不透明白色难以通过在铝构件的阳极氧化处理中通常使用的染色及着色方法实现。因此，一直以来不断提出制造具有不透明白色的铝构件的方法。专利文献1公开了一种制造铝构件的方法，其通过使用对温度及浓度条件加以控制且含有磷酸或硫酸的电解液进行阳极氧化处理，从而制造乳白色的铝构件。专利文献2公开了一种着色方法，其通过在利用阳极氧化处理而形成的细孔中填充颜料，从而对铝构件进行着色。(现有技术文献)(专利文献)专利文献1：JP特开2000-226694号公报专利文献2：JP特开2017-25384号公报
技术实现思路
(专利技术要解决的问题)然而，现有的用于制造不透明白色的铝构件的方法需要进行二级处理以上的处理工序等复杂的电解工序。而且，在现有的铝构件的制造方法中，尚未获得具有足够白度的铝构件。为了解决上述问题，本专利技术的专利技术人经反复努力研究，结果发现：通过阳极氧化覆膜含有硫(S)及磷(P)，并控制在阳极氧化覆膜的深度方向上的S及P的分布(原子组成分布)，能够提高铝构件的白度，从而完成了本专利技术。而且，发现通过使用特定组成的电解液来进行铝构件的阳极氧化处理，能够以简便的初级处理获得高白度的铝构件，从而完成本了专利技术。(用于解决问题的方案)为了解决上述问题，本专利技术包括以下各实施方式。[1]一种铝构件，其包括：母材，其由铝或铝合金形成；以及阳极氧化覆膜，其在所述母材的表面上具有阻挡层，且在所述阻挡层上具有多孔层，所述阳极氧化覆膜含有P及S，且具有小于等于100μm的厚度，在从所述阳极氧化覆膜的表面朝向母材的深度方向上，距所述表面的深度大于等于500nm的区域中的S达到最大含量的深度大于距所述表面的深度大于等于0nm的区域中的P达到最大含量的深度，且所述S的最大含量大于所述P的最大含量。[2]根据上述[1]所述的铝构件，其中，在将存在于所述阳极氧化覆膜中的所述深度方向上的S及P的量分别设为TS及TP，并将存在于距所述阳极氧化覆膜表面的深度超过100μm且小于等于200μm的范围的母材中的S及P的含量分别设为MS及MP时，TS/MS＝1.5～1500，TP/MP＝10～9000。[3]根据上述[2]所述的铝构件，其中，0.9×TP的量的P存在于距所述阳极氧化覆膜表面的深度为1μm以内的区域。[4]一种铝构件的制造方法，所述铝构件为上述[1]～[3]任一项所述的铝构件，所述铝构件的制造方法包括：准备由铝或铝合金形成的母材的工序；以及在电解液中对所述母材进行阳极氧化处理的工序，该电解液包含(a)作为无机酸的第一酸或第一酸的盐、(b)选自由二磷酸、三磷酸及多磷酸组成的组中的至少一种第二酸或第二酸的盐。[5]根据上述[4]所述的铝构件的制造方法，其中，在进行所述阳极氧化处理的工序中，所述电解液中的第一酸或第一酸盐的浓度为0.01～2.0mol·dm-3，所述电解液中的第二酸或第二酸盐的浓度为0.01～5.0mol·dm-3。[6]根据上述[4]或[5]所述的铝构件的制造方法，其中，在进行所述阳极氧化处理的工序中，在电流密度为5～30mA·cm-2以及电解时间为10～600分钟的条件下进行阳极氧化处理。(专利技术效果)本专利技术能够通过简便的初级处理提供高白度的铝构件。附图说明图1是示意性表示一实施方式的铝构件的图。图2是在实施例3中，利用扫描式电子显微镜(SEM)拍摄阳极氧化覆膜的剖面的照片。图3是表示在实施例3中利用深度方向分析法(辉光放电发射光谱分析法/GD-OES)在铝构件的深度方向上从其表面进行测定的结果的图。图4是说明在实施例3中阳极氧化覆膜中的S及P存在的区域的厚度的图。具体实施方式1.铝构件铝构件具有母材和设置在母材表面上的阳极氧化覆膜。阳极氧化覆膜具有设置在母材表面上的阻挡层和设置在阻挡层上的多孔层。即，从母材表面朝向阳极氧化覆膜表面，阳极氧化覆膜依次具有阻挡层及多孔层。以下，对构成一实施方式所涉及的铝构件的各部分进行说明。(母材)母材可以由铝构成，也可以由铝合金构成。可以根据铝构件的用途，适当地选择母材的材质。例如，从提高铝构件强度的观点考虑，优选将5000系铝合金或6000系铝合金作为母材。而且，从进一步提高阳极氧化处理后的白度的观点考虑，优选将不易出现因阳极氧化处理而着色的1000系铝合金或6000系铝合金作为母材。(阳极氧化覆膜)阳极氧化覆膜具有阻挡层及多孔层，阻挡层形成在母材表面上，多孔层形成在阻挡层上。阳极氧化覆膜含有P及S，且具有小于等于100μm的厚度。而且，在从阳极氧化覆膜的表面朝向母材的深度方向上，距表面的深度大于等于500nm的区域中的S达到最大含量的深度大于距表面的深度大于等于0nm的区域中的P达到最大含量的深度，且S的最大含量大于P的最大含量。另外，该S及P的最大含量可通过辉光放电发射光谱分析法(GlowDischargeOpticalEmissionSpectrometry；GD-OES)来测定。在辉光放电发射光谱分析法中，利用因辉光放电而生成的放电等离子体，从试样表面向深度方向缓缓进行溅射，并使被溅射的试样中的原子在放电等离子体中激发并发光。由于该发光所发出的光具有原子固有的波长，因此，通过检测发出的光，可以鉴定原子并测定其含量。由此，可以利用辉光放电发射光谱分析法，从阳极氧化覆膜表面向深度方向测定原子组成。另外，在利用辉光放电发射光谱分析法测定阳极氧化覆膜中的S含量时，有时会在距阳极氧化覆膜表面的深度不足500nm的区域发现S含量的峰值。但是，这种阳极氧化覆膜的S含量的峰值被认为是受到了电解液成分的影响，并不代表阳极氧化覆膜中的实际S含量。因此，在距阳极氧化覆膜表面的深度不足500nm的区域出现的S含量的峰值并不相当于上述的S的最大含量。另一方面，在利用辉光放电发射光谱分析法测定阳极氧化覆膜中的P含量时，测定距阳极氧化覆膜表面的深度大于等于0nm的阳极氧化覆膜的所有区域中的P的最大含量。这是因为，在阳极氧化覆膜表面附近的P含量的测定结果不受电解液成分影响，并表示阳极氧化覆膜中的实际P含量。如果阳极氧化覆膜的厚度超过100μm，则用于形成阳极氧化覆膜的时间变长，从而导致生产性降低，进而出现伴随不均匀生长的不均而导致外观不良。而且，在阳极氧化覆膜的一个示例中，在其深度方向上S及P如上所述分布，因此大体与阻挡层的表面垂直地延伸的第一孔位于多孔层的阻挡层侧，第二孔位于多孔层的表面侧。第二孔为朝向多孔层的表面侧呈辐射状延伸的反向树枝状的形态。这是因为：在形成第一孔与第二孔时，受到多孔层中的S及P的含量影响较大，在S较多的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铝构件，其包括：/n母材，其由铝或铝合金形成；以及/n阳极氧化覆膜，其具有设置在所述母材表面上的阻挡层和设置在所述阻挡层上的多孔层，所述阳极氧化覆膜含有P及S，且具有小于等于100μm的厚度，/n在从所述阳极氧化覆膜的表面朝向母材的深度方向上，距所述表面的深度大于等于500nm的区域中的S达到最大含量的深度大于距所述表面的深度大于等于0nm的区域中的P达到最大含量的深度，且所述S的最大含量大于所述P的最大含量。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180328 JP 2018-0627261.一种铝构件，其包括：
母材，其由铝或铝合金形成；以及
阳极氧化覆膜，其具有设置在所述母材表面上的阻挡层和设置在所述阻挡层上的多孔层，所述阳极氧化覆膜含有P及S，且具有小于等于100μm的厚度，
在从所述阳极氧化覆膜的表面朝向母材的深度方向上，距所述表面的深度大于等于500nm的区域中的S达到最大含量的深度大于距所述表面的深度大于等于0nm的区域中的P达到最大含量的深度，且所述S的最大含量大于所述P的最大含量。


2.根据权利要求1所述的铝构件，其特征在于，
在将存在于所述阳极氧化覆膜中的所述深度方向上的S及P的量分别设为TS及TP，并将存在于距所述阳极氧化覆膜表面的深度超过100μm且小于等于200μm的母材中的S及P的含量分别设为MS及MP时，
TS/MS＝1.5～1500，
TP/MP＝10～9000。


3.根据权利要求2所述的铝构件，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：菊池美穗子，布村顺司，
申请(专利权)人：株式会社UACJ，
类型：发明
国别省市：日本;JP