【技术实现步骤摘要】
投影光学系统、曝光装置及物品制造方法本申请是申请日为2017年10月10日、申请号为201710934813.1、专利技术名称为“投影光学系统、曝光装置及物品制造方法”的专利技术专利申请的分案申请。
本专利技术涉及投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。
技术介绍
最近,随着电视系统的HD(高清晰度)标准化发展,许多FPD(平板显示器)被用作显示设备,并且出现了对更大屏幕和更低成本的需求。在FPD的制造中,光刻技术被用来将掩模的电路图案(原件)投影到涂有光致抗蚀剂的基板上,并将该图案转印(形成)到基板上,如同在集成电路(IC)的制造中那样。作为用于这种光刻技术中的投影光学系统的示例,在日本专利特开No.52-5544和No.7-57986中的每个专利特开内公开了使用用于形成具有校正像差的有限狭缝状区域的镜的等倍光学系统。图案可以通过关于狭缝状区域同步扫描物面(掩模表面)和像面(基板表面)形成于二维宽屏幕上。在日本专利特开No.52-5544所公开的光学系统中,掩模图案由几乎以同心形式布置的凹面镜和凸面镜 ...
【技术保护点】
1.一种投影光学系统,其特征在于,包含第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面和第三凹反射面,/n其中所述第一凹反射面、所述第一凸反射面、所述第二凹反射面和所述第三凹反射面被布置使得来自物面的光通过被所述第一凹反射面、所述第一凸反射面、所述第二凹反射面、所述第一凸反射面和所述第三凹反射面按照列举的顺序反射而在像面上形成图像。/n
【技术特征摘要】
20161014 JP 2016-2030331.一种投影光学系统,其特征在于,包含第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面和第三凹反射面,
其中所述第一凹反射面、所述第一凸反射面、所述第二凹反射面和所述第三凹反射面被布置使得来自物面的光通过被所述第一凹反射面、所述第一凸反射面、所述第二凹反射面、所述第一凸反射面和所述第三凹反射面按照列举的顺序反射而在像面上形成图像。
2.根据权利要求1所述的系统,其中所述第一凹反射面和所述第三凹反射面由具有一个曲率半径的一个反射面形成,以及所述第二凹反射面是与所述第一凹反射面和所述第三凹反射面不同的反射面。
3.根据权利要求2所述的系统,其中所述第一凹反射面和所述第三凹反射面由一个凹面镜形成,以及所述第二凹反射面反射已通过被提供在所述凹面镜的中心中的中空部分的光。
4.根据权利要求1所述的系统,还包含凹面镜,所述凹面镜包含所述第一凹反射面和所述第三凹反射面,并且在所述凹面镜中在中心区域中提供有中空部分,以及
其中包含所述第二凹反射面的第二凹面镜被布置在所述中空部分中。
5.根据权利要求1所述的系统,其中令R2为所述第一凸反射面的曲率半径,W1为所述第一凸反射面与在不存在反射面的情况下的所述物面之间的距离,并且W2为所述第一凸反射面与在不存在反射面的情况下的所述像面之间的距离,
满足0.70≤W1/R2≤1.0或者0.70≤W2/R2≤1.0。
6.根据权利要求1所述的系统,其中令R1为所述第一凹反射面的曲率半径,R2为所述第一凸反射面的曲率半径,R5为所述第三凹反射面的曲率半径,D1为所述第一凹反射面与所述第一凸反射面之间的距离,并且D2为所述第一凸反射面与所述第三凹反射面之间的距离,
满足0.87≤(R2+D1)/R1≤1.15或者0.87≤(R2+D2)/R5≤1.15。
7.根据权利要求1所述的系统,其中令R1为所述第一凹反射面的曲率半径,R3为所述第二凹反射面的曲率半径,并且R5为所述第三凹反射面的曲率半径,
满足0.8≤R3/R1≤1.25或者0.8≤R3/R5≤1.25。
8.根据权利要求1所述的系统,其中在所述物面与所述第一凹反射面之间以及所述第三凹反射面与所述像面之间不存在反射面的情况下,令R3为所述第二凹反射面的曲率半径,Lt1为所述物面与所述第二凹反射面之间的距离,并且Lt2为所述第二凹反射面与所述像面之间的距离,
满足0.9≤R3/Lt1≤1.1或者0.9≤R3/Lt2≤1.1。
9.根据权利要求1所述的系统,其中在所述物面与所述第一凹反射面之间以及所述第三凹反射面与所述像面之间不存在反射面的情况下,令W1为所述第一凸反射面与在不存在反射面的情况下的所述物面之间的距离,W2为所述第一凸反射面与在不存在反射面的情况下的所述像面之间的距离,Lt1为所述物面与所述第二凹反射面之间的距离,并且Lt2为所述第二凹反射面与所述像面之间的距离,
满足0.5≤W1/Lt1≤0.7或者0.5≤W2/Lt2≤0.7。
10.根据权利要求1所述的系统,还包含在所述物面、所述像面和所述第一凸反射面之间的具有非球面形状的透镜。
11.根据权利要求1所述的系统,还包含在所述第一凸反射面与所述第二凹反射面之间的、具有沿相同方向弯曲的第一表面和第二表面的弯月透镜。
12.根据权利要求1所述的系统,其中所述第一凹反射面、所述第一凸反射面、所述第二凹反射面和所述第三凹反射面中的至少一个具有非球面形状。
13.根据权利要求1所述的系统,还包含在所述第一凸反射面与所述第二凹反射面之间的孔径光阑。
14.根据权利要求13所述的系统,其中所述孔径光阑的开口形状是可变的。
15.根据权利要求1所述的系统,其中所述投影光学系统是放大系统和缩小系统之一。
16.根据权利要求15所述的系统,其中令R1为所述第一凹反射面的曲率半径,R5为所述第三凹反射面的曲率半径,并且B为所述投影光学系统的图像形成倍率,
满足B×0.87≤(R5/R1)≤B×1.15。
17.根据权利要求1所述的系统,其中所述投影光学系统在物面侧和像面侧上是远心的。
18.一种曝光装置,其特征在于,包含:
照明光学系统,被配置成用来自光源的光照射掩模;以及
投影光学系统,被配置成将所述掩模的图案的图像投影到基板上,
其中所述投影光学系统包含第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面和第三凹反射面,
所述第一凹反射面、所述第一凸反射面、所述第二凹反射面和所述第三凹反射面被布置使得来自物面的光通过被所述第一凹反射面、所述第一凸反射面、所述第二凹反射面、所述第一凸反射面和所述第三凹反射面按照列举的顺序反射而在像面上形成图像。
19.一种制造物品的方法,其特征在于,所述方法包含:
使用曝光装置在基板上形成图案;以及
使已曝光的基板显影以制造所述物品,
其中所述曝光装置包含:
照明光学系统,被配置成用来自光源的光照射掩模;以及
投影光学系统,被配置成将所述掩模的图案的图像投影到所述基板上,
其中所述投影光学系统包含第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面和第三凹反射面,
所述第一凹反射面、所述第一凸反射面、所述第二凹反射面和所述第三凹反射面被布置使得来自物面的光通过被所述第一凹反射面、所述第一凸反射面、所述第二凹反射面、所述第一凸反射面和所述第三凹反射面按照列举的顺序反射而在像面上形成图像。
20.一种投影光学系统,其特征在于,在所述投影光...
【专利技术属性】
技术研发人员:河野道生,深见清司,福冈亮介,
申请(专利权)人:佳能株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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