曝光装置及曝光方法制造方法及图纸

曝光装置(EX)设置有：光源(2A、2B、2C)，其为了对光罩基板M进行照明而产生包含多个明线波长(g射线、h射线、i射线等)的光；第1照明光学系统，其具有：射入来自光源2A(2B、2C)的光且将包含多个明线波长中的至少1个特定明线波长(i射线)而限制为既定的波长宽度的照明光束抽出的波长选择部(6A、6B、6C)、及调整照明光束的发散角的数值孔径可变部(8A、8B、8C)；以及第2照明光学系统(ILn)，其包含用以伴随与发散角对应的数值孔径而以同样的照度对光罩基板上照射照明光束的光学积分器(复眼透镜系统FEn)；并且于波长选择部安装第1波长选择元件(干涉滤光器SWb)，其一面将特定明线波长(i射线)的旁边出现的长波长侧的明线及短波长侧的明线去除，一面将特定明线波长的光谱成分及分布于特定明线波长的底部附近的低亮度的光谱成分抽出。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光装置及曝光方法
本专利技术为关于一种将光罩的图案转印于基板的曝光装置、以及曝光方法。
技术介绍
以往，于用以制造液晶显示元件、半导体元件、薄膜磁头等电子元件的光微影步骤中，使用如下的曝光装置，其将来自光源的照明光照射至透射型或反射型的光罩基板，将来自形成于光罩基板的元件图案(电子元件用图案)的透射光或反射光，通过投影光学系统而投影曝光于涂布有光阻剂等感光剂的板等被曝光基板。作为现有的曝光装置，已知例如日本特开2012-049332号公报所揭示，设置如下的照明系统(照明装置)：将来自2个水银灯等光源部的各照明光，以入口侧聚集为圆形状且出口侧聚集为长方形(狭缝状)的成束光纤合成后，通过复眼透镜光学系统等所包含的积分器，以均匀的照度分布对光罩基板上的狭缝状的照明区域进行柯勒照明。于使用水银灯(超高压水银放电灯等)作为光源的情形时，水银灯的放电弧光中包含多个明线，选择其中的特定明线波长来作为曝光用照明光(光罩基板的照明光)。光微影步骤中，考虑到光阻剂的感光波长特性、投影光学系统的光学性能(解析力、色差特性)等，主要使用水银灯的明线波长中的紫本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，其为将光罩的图案投影曝光于光感应性的基板，其具备：/n光源，其为了对光罩进行照明而产生包含多个明线波长的光；/n第1照明光学系统，其具有：射入来自上述光源的光且将包含上述多个明线波长中的至少1个特定明线波长而限制为既定的波长宽度的照明光束抽出的波长选择部、及调整上述照明光束的发散角的数值孔径可变部；以及/n第2照明光学系统，其包含光学积分器，其射入上述发散角经调整的上述照明光束，用以伴随与上述发散角对应的数值孔径，而以同样的照度对上述光罩上照射上述照明光束；并且/n于上述波长选择部安装第1波长选择元件，其一面将上述特定明线波长的旁边出现的长波长侧的明线及短波长侧的明线去除，一...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180124 JP 2018-009277;20181109 JP 2018-2110101.一种曝光装置，其为将光罩的图案投影曝光于光感应性的基板，其具备：
光源，其为了对光罩进行照明而产生包含多个明线波长的光；
第1照明光学系统，其具有：射入来自上述光源的光且将包含上述多个明线波长中的至少1个特定明线波长而限制为既定的波长宽度的照明光束抽出的波长选择部、及调整上述照明光束的发散角的数值孔径可变部；以及
第2照明光学系统，其包含光学积分器，其射入上述发散角经调整的上述照明光束，用以伴随与上述发散角对应的数值孔径，而以同样的照度对上述光罩上照射上述照明光束；并且
于上述波长选择部安装第1波长选择元件，其一面将上述特定明线波长的旁边出现的长波长侧的明线及短波长侧的明线去除，一面将上述特定明线波长的光谱成分及分布于上述特定明线波长的底部附近的低亮度的光谱成分抽出。


2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中
上述低亮度的光谱成分所分布的上述底部附近为设定于相对于上述特定明线波长的光谱成分的波峰强度，上述低亮度的光谱成分的相对强度平均成为数％以上、较理想为10％以上的范围。


3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中
于上述波长选择部，设置以可与上述第1波长选择元件交换的方式安装第2波长选择元件的机构，上述第2波长选择元件将分布于上述特定明线波长的底部附近的上述低亮度的光谱成分以外的上述特定明线波长的波峰状的光谱成分抽出。


4.根据权利要求3所述的曝光装置，其中
于上述波长选择部，以可交换的方式安装第3波长选择元件，其为以包含上述特定明线波长的旁边出现的至少1个明线波长的波峰状的光谱成分、及上述特定明线波长的波峰状的光谱成分的两者的方式抽出。


5.一种曝光方法，其为将光罩的图案投影曝光于光感应性的基板，其包括：
以如下方式进行波长选择，即，与由产生包含多个明线波长的光的光源而来的光中的至少1个特定明线波长的波峰状的光谱成分一并，亦将不包含上述特定明线波长的旁边出现的长波长侧的明线及短波长侧的明线，而分布于上述特定明线波长的底部附近的低亮度的光谱成分抽出；以及
将经上述波长选择的光谱成分的照明光束以同样的照度照射至上述光罩上，通过在包含上述低亮度的光谱成分的波长宽度中不产生色差的镜面投射方式、或者于上述低亮度的光谱成分的波长宽度中色差得到修正的反射折射方式的投影光学系统，将上述光罩的图案投影曝光于上述基板。


6.根据权利要求5所述的曝光方法，其中
上述低亮度的光谱成分所分布的上述底部附近为设定于相对于上述特定明线波长的光谱成分的波峰强度，上述低亮度的光谱成分的相对强度平均成为数％以上、较理想为10％以上的范围。


7.根据权利要求6所述的曝光方法，其中
上述光源为超高压水银放电灯，将上述特定明线波长设为i射线、h射线、g射线中的任一者。


8.一种曝光方法，其为将由光源装置产生的包含明线波长的光中的包含由波长选择部所选择的特定明线波长的光谱分布的光...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤正纪，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP