模板制备方法技术

一种模板制备方法，包括：提供基底(100)；在基底(100)上形成光刻胶图案(200)；以光刻胶图案(200)为掩模构图基底(100)，且形成光刻胶图案(200)包括：在基底(100)上形成间隔排布的多个第一图案(210)；在多个第一图案(210)上形成第一材料层(300)；利用第一材料层(300)为掩模构图至少一个第一图案(210)，使得第一图案(210)形成为至少一个第一子图案(211)；以及去除第一材料层(300)；其中，在垂直于基底(100)所在面的方向上，第一材料层(300)至少覆盖至少一个第一图案(210)的一侧。上述方法可以提高模板的精细度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】模板制备方法
本公开至少一个实施例涉及一种模板制备方法。
技术介绍
利用模板例如压印模板制造的产品，具有分辨率高、低成本、高产率的优点，因而压印模板被广泛应用于半导体制造、微机电系统、生物芯片、生物医学等领域。压印技术通常是通过模板将图形转移到相应的产品上，通过压印实现图案的转移。因此，压印在产品上的图案的尺寸受压印模板的精细度影响。但是，根据当前模板的制造工艺，难以在兼顾制作效率的同时使得模板图案的线宽进一步降低。
技术实现思路
本公开至少一个实施例提供一种模板的制备方法，该方法包括：提供基底；在所述基底上形成光刻胶图案；以所述光刻胶图案为掩模构图所述基底，且形成光刻胶图案包括：在所述基底上由光刻胶形成间隔排布的多个第一图案；在所述多个第一图案上形成第一材料层，在垂直于所述基底所在面的方向上，所述第一材料层至少覆盖所述至少一个第一图案的一侧；利用所述第一材料层为掩模构图至少一个所述第一图案，使得所述第一图案形成为至少一个第一子图案；以及去除所述第一材料层，获得所述光刻胶图案。例如，在本公开至少一个实施例提供的制备方法中，利本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种模板的制备方法，包括：/n提供基底；/n在所述基底上形成光刻胶图案，包括：/n在所述基底上由光刻胶形成间隔排布的多个第一图案；/n在所述多个第一图案上形成第一材料层，在垂直于所述基底所在面的方向上，所述第一材料层至少覆盖所述至少一个第一图案的一侧；/n利用所述第一材料层为掩模构图至少一个所述第一图案，使得所述第一图案形成为至少一个第一子图案；以及/n去除所述第一材料层；/n以所述光刻胶图案为掩模构图所述基底。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种模板的制备方法，包括：
提供基底；
在所述基底上形成光刻胶图案，包括：
在所述基底上由光刻胶形成间隔排布的多个第一图案；
在所述多个第一图案上形成第一材料层，在垂直于所述基底所在面的方向上，所述第一材料层至少覆盖所述至少一个第一图案的一侧；
利用所述第一材料层为掩模构图至少一个所述第一图案，使得所述第一图案形成为至少一个第一子图案；以及
去除所述第一材料层；
以所述光刻胶图案为掩模构图所述基底。


根据权利要求1所述的制备方法，其中，
利用所述第一材料层为掩模构图至少一个所述第一图案，使得所述第一图案形成为两个所述第一子图案。


根据权利要求2所述的制备方法，其中，
在垂直于所述基底所在面的方向上，所述第一材料层覆盖所述至少一个第一图案的两侧且暴露所述至少一个第一图案的中间部分。


根据权利要求1-3任一所述的制备方法，其中，在所述基底上形成间隔排布的多个第一图案，包括：
在所述基底上形成光刻胶层；
构图所述光刻胶层；
后烘处理所述光刻胶层以形成多个第一图案。


根据权利要求4所述的制备方法，其中，
所述第一图案的竖截面形状包括类半圆形。


根据权利要求5所述的制备方法，其中，所述光刻胶层包括多个竖截面为类矩形的光刻胶条，后烘所述光刻胶层包括：
加热所述光刻胶条，以使得所述光刻胶条熔化；以及
冷却固化所述光刻胶条以形成所述第一图案；
其中，所述光刻胶条被熔化后，所述光刻胶条竖截面形状由类矩形变为类半圆形。


根据权利要求4-6任一所述的制备方法，其中，
利用激光束构图所述光刻胶层。


根据权利要求1-7任一所述的制备方法，其中，
所述光刻胶图案的线宽小于或等于100nm。


根据权利要求1-8中任一项所述的制备方法，其中，在所述多个第一图案上形成第一材料层，包括：
在所述第一图案上沉积第一材料膜层，以覆盖所述多个第一图案；以及
减薄所述第一材料膜层以暴露至少一个所述第一图案的一部分；
其中，剩余的所述第一材料膜层为所述第一材料层。


根据权利要求9所述的制备方法，其中，在所述基底上...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭康，王路，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11