湿制程用清洁机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种应用上更多元，能降低成本、耗能、故障率，并节约空间的湿制程用清洁机构，其技术手段为清洁机构能配合湿制程设备应用，清洁机构至少包括配合湿制程设备设置的机器臂机构及清洁头组；机器臂机构包含水平、垂直位移机构及机器臂、快速公接头，水平位移机构设于湿制程设备后侧，垂直位移机构设于水平位移机构顶侧面，并能被其带动位移，机器臂设于垂直位移机构前侧处，能被其带动位移，快速公接头设于机器臂自由端；清洁头组至少包含水清洗头、药液清洁头及干燥头，其三者皆设有快速母接头，水清洗头能调整喷水角度，快速母、公接头能相互配合，使各头能被机器臂机构分别提起带动位移，以供发挥出相应功能用。

【技术实现步骤摘要】
湿制程用清洁机构
本技术涉及一种能配合湿制程设备应用的清洁结构，尤指一种湿制程用清洁机构。
技术介绍
在现今的半导体制程中，湿式蚀刻是最早、最广泛被使用的蚀刻技术，其为利用材料与特定溶液的间所进行的化学反应，以将材料中不需要的部分溶解而去除掉，而保留下需要的部分，具有制程单纯、产量速度快、成本低以及优异的蚀刻选择比。一个湿制程设备上，为了在制程中进行冲水、喷药、干燥等动作，存在着数个摆臂，且各自具有相应的功能，在应用上非常单一，随着半导体产业的进步，制程和组件的需求不断提升，变得难以跟上制程的进步，还有摆臂还会占用到非常多的空间，而且还需要对应数量的动力源，无形中增加了设备的成本与耗能，另一方面还提高了故障率，同时了避免发生相互干涉的问题，在摆臂的控制上，更有着一定的困难度。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种应用上更多元，能降低成本、耗能、故障率，并节约空间的湿制程用清洁机构。为解决上述问题及达到本技术的目的，本技术的技术手段是这样实现的，为一种湿制程用清洁机构，所述清洁机构能配合湿制程设备应用，其特征在于：本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种湿制程用清洁机构，清洁机构(100)能配合湿制程设备(200)应用，其特征在于：/n所述清洁机构(100)至少包括有配合所述湿制程设备(200)设置的一机器臂机构(1)及一清洁头组(2)；/n所述机器臂机构(1)至少包含有一水平位移机构(11)、一垂直位移机构(12)、一机器臂(13)及一快速公接头(14)，所述水平位移机构(11)设于所述湿制程设备(200)后侧处，所述垂直位移机构(12)设于所述水平位移机构(11)顶侧面处，并能被其所带动而位移，所述机器臂(13)设于所述垂直位移机构(12)前侧处，能被其所带动而位移，所述快速公接头(14)设于所述机器臂(13)自由端处；/n所述清...

【技术特征摘要】
1.一种湿制程用清洁机构，清洁机构(100)能配合湿制程设备(200)应用，其特征在于：
所述清洁机构(100)至少包括有配合所述湿制程设备(200)设置的一机器臂机构(1)及一清洁头组(2)；
所述机器臂机构(1)至少包含有一水平位移机构(11)、一垂直位移机构(12)、一机器臂(13)及一快速公接头(14)，所述水平位移机构(11)设于所述湿制程设备(200)后侧处，所述垂直位移机构(12)设于所述水平位移机构(11)顶侧面处，并能被其所带动而位移，所述机器臂(13)设于所述垂直位移机构(12)前侧处，能被其所带动而位移，所述快速公接头(14)设于所述机器臂(13)自由端处；
所述清洁头组(2)至少包含有排列设置于所述湿制程设备(200)邻近于所述机器臂机构(1)一侧处的一水清洗头(21)、一药液清洁头(22)及一干燥头(23)，所述水清洗头(21)、所述药液清洁头(22)及所述干燥头(23)均设有一位于各头顶端处的快速母接头(24)，所述水清洗头(21)能调整喷水角度，所述快速母接头(24)能与所述快速公接头(14)配合，使所述水清洗头(21)、所述药液清洁头(22)及所述干燥头(23)均能被所述机器臂机构(1)分别提起带动位移。


2.根据权利要求1所述的湿制程用清洁机构，其特征在于：位于所述水清洗头(21)、所述药液清洁头(22)及所述干燥头(23)的所述快速母接头(24)底端处，还分别设有一定位部(25)；
所述清洁头组(2)，还包括有一定位盘组(26)，所述定位盘组(26)还包含有一托盘(261)及间距各不相同且排列定位于所述托盘(261)内的一第一架体(262)、一第二架体(263)及一第三架体(264)，所述第一架体(262)能与所述水清洗头(21)的所述定位部(25)配合，以定位放置所述水清洗头(21)，所述第二架体(263)能与所述药液清洁头(22)的所述定位部(25)配合，以定位放置所述药液清洁头(22)，所述第三架体(264)能与所述干燥头(23)的所述定位部(25)配合，以定位放置所述干燥头(23)。


3.根据权利要求2所述的湿制程用清洁机构，其特征在于：所述机器臂(13)还具有与所述垂直位移机构(12)连接的一第一转臂(131)、一枢设于所述第一转臂(131)自由端处的第二转臂(132)及一枢设于所述第二转臂(132)自由端处的第三转臂(133)，所述第三转臂(133)自由端与所述快速公接头(14)连接。


4.根据权利要求3所述的湿制程用清洁机构，其特征在于：所述定位部(25)还包括有一位于所述水清洗头(21)、所述药液清洁头(22)及所述干燥头(23)的所述快速母接头(24)底端处的片体(251)、设于所述片体(251)左侧自由端处的两左定位销(252)及设于所述片体(251)右侧自由端处的两右定位销(253)；
所述第一架体(262)，能供定位所述水清洗头(21)用，并还包括有一与相应的所述定位部(25)左侧对应的第一左L支架(a1)、一与相应的所述定位部(25)右侧对应的第一右L支架(b1)、设于所述第一左L支架(a1)顶端的两第一左定位孔(c1)及设于所述第一右L支架(b1)顶端的两第一右定位孔(d1)，所述第一左定位孔(c1)能与相应的所述定位部(25)的所述左定位销(252)配合，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡韶庭，林伯龙，
申请(专利权)人：佳宸科技有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71