【技术实现步骤摘要】
晶圆传送盒清洗设备及系统
本技术涉及一种能针对晶圆传送盒进行处理、以再投入应用的清洗结构与系统，尤指一种晶圆传送盒清洗设备及系统。
技术介绍
在现今的半导体制程中，需要利用多种方法，对晶圆来进行加工，晶圆会经过一系列的制程设备，过程中需要经过多次运送，因此在保管及搬运晶圆时，需要注意不会因外部的冲击而被损伤，并且需要进行管理，以使晶圆的表面不被水分、灰尘、各种有机物等杂质污染。所以在过程中，会使用晶圆传送盒(FrontOpeningUnifiedPod；FOUP，又或称为前开口一体盒)，用于运送及储存复数片晶圆，为半导体制程间输送及储存的重要载具设备。晶圆传送盒需要进行周期性地清洁，以防止晶圆被污染，随着制程的改良与进步，清洗标准变得越加严格，清洗循环的次数及每一循环的复杂度增加，以防止交叉污染。为了避免污染，晶圆传送盒清洗的时间需要缩短，但是传统晶圆传送盒清洗机具，受到清洗循环的次数、高复杂度、高清洁度需求、共享机器人的影响，让时间的缩短成为一件非常困难的事。另外，传统晶圆传送盒清洗机具，所...
【技术保护点】
1.一种晶圆传送盒清洗设备，所述清洗设备(100)能应用于对晶圆传送盒(10)进行清洗用，其特征在于：/n所述清洗设备(100)，其至少包括有至少一前机台(1)及一设于所述前机台(1)后侧端处的后机台(2)；/n所述前机台(1)，其包含有一第一架体(11)、一设于所述第一架体(11)顶端前侧处的第一水平位移机构(12)、一对应于所述第一水平位移机构(12)设置于所述第一架体(11)顶端后侧处的翻转机构(13)、一对应于所述翻转机构(13)设置于第一架体(11)顶端后侧处的吸取装置(14)、一对应于所述吸取装置(14)设置的第一垂直位移机构(15)、一设于所述第一架体(11)...
【技术特征摘要】
1.一种晶圆传送盒清洗设备，所述清洗设备(100)能应用于对晶圆传送盒(10)进行清洗用，其特征在于：
所述清洗设备(100)，其至少包括有至少一前机台(1)及一设于所述前机台(1)后侧端处的后机台(2)；
所述前机台(1)，其包含有一第一架体(11)、一设于所述第一架体(11)顶端前侧处的第一水平位移机构(12)、一对应于所述第一水平位移机构(12)设置于所述第一架体(11)顶端后侧处的翻转机构(13)、一对应于所述翻转机构(13)设置于第一架体(11)顶端后侧处的吸取装置(14)、一对应于所述吸取装置(14)设置的第一垂直位移机构(15)、一设于所述第一架体(11)底端后侧处的前清洗槽(16)、一设于所述第一架体(11)后侧处的前清洗装置(17)及一横向跨设于所述第一水平位移机构(12)上的第一隔离壁装置(18)；
所述第一水平位移机构(12)，其能带动所述晶圆传送盒(10)往所述翻转机构(13)方向位移；
所述翻转机构(13)，其能带动所述晶圆传送盒(10)的盒本体(10A)、翻转至所述后机台(2)处，并使所述盒本体(10A)的开口，由垂直转为水平状态；
所述吸取装置(14)能对所述晶圆传送盒(10)的门本体(10B)进行真空吸附定位，并使其拆下与所述盒本体(10A)分离；
所述第一垂直位移机构(15)，其能带动所述吸取装置(14)于对应所述晶圆传送盒(10)、对应所述前清洗槽(16)两状态间作转换，以一同带动被拆下的所述门本体(10B)；
所述前清洗槽(16)，其内具有一容纳空间(161)，所述容纳空间(161)前方设有一与其连通的开口(162)，而所述开口(162)能供定位容纳被所述吸取装置(14)所转移过来的所述门本体(10B)；
所述前清洗装置(17)，其设于所述容纳空间(161)内，具有一基座(171)、至少一设于所述基座(171)上的可动清洗单元(172)及两分别设于所述基座(171)两侧端处的干燥单元(173)，所述可动清洗单元(172)能对所述门本体(10B)进行清洗，所述干燥单元(173)能对所述门本体(10B)进行干燥动作；
所述第一隔离壁装置(18)，其能在所述第一水平位移机构(12)带动所述晶圆传送盒(10)往所述翻转机构(13)方向位移时开启，以供降低污染可能用；
所述后机台(2)，其包含有一对应于所述第一架体(11)后侧端设置的第二架体(21)、一设于所述第二架体(21)顶端的后清洗槽(22)、一设于所述后清洗槽(22)上方的后隔离装置(23)及一顶端设于所述后清洗槽(22)内位于所述后清洗槽(22)底端的后清洗装置(24)；
所述后清洗槽(22)，其能供容纳由所述翻转机构(13)所翻转移动过来的所述盒本体(10A)用；
所述后隔离装置(23)，其能供在所述翻转机构(13)将所述盒本体(10A)翻转移动过来后，将所述后清洗槽(22)封闭用；
所述后清洗装置(24)，其能被所述翻转机构(13)所翻转移动过来的所述盒本体(10A)所覆盖，并能供对所述盒本体(10A)内部进行清洗、干燥的动作用。
2.根据权利要求1所述的晶圆传送盒清洗设备，其特征在于：所述翻转机构(13)，还包括有一对应于所述第一水平位移机构(12)设置于所述第一架体(11)顶端后侧处的翻转驱动装置(131)、一设于所述翻转驱动装置(131)左侧的左翻转支架(132)及一镜像设置于所述翻转驱动装置(131)右侧的右翻转支架(133)；
所述左翻转支架(132)，还包含有一底端与所述翻转驱动装置(131)左侧连接的左Y形支架(1321)、一间隔设于所述左Y形支架(1321)右侧的左L形支架(1322)、数支间隔设于所述左Y形支架(1321)与所述左L形支架(1322)间的左间隔杆(1323)及至少一设于所述左L形支架(1322)右侧面处的左定位组件(1324)，所述左Y形支架(1321)的顶端一侧平行于水平面、另一侧垂直于水平面，所述左L形支架(1322)还相对应于所述左Y形支架(1321)顶端而设置，所述左定位组件(1324)能供定位所述晶圆传送盒(10)用；
所述右翻转支架(133)，还包含有一底端与所述翻转驱动装置(131)右侧连接的右Y形支架(1331)、一间隔设于所述右Y形支架(1331)左侧的右L形支架(1332)、数支间隔设于所述右Y形支架(1331)与所述右L形支架(1332)间的右间隔杆(1333)及至少一设于所述右L形支架(1332)左侧面处的右定位组件(1334)，所述右Y形支架(1331)的顶端一侧平行于水平面、另一侧垂直于水平面，所述右L形支架(1332)还相对应于所述右Y形支架(1331)顶端而设置，所述右定位组件(1334)能供定位所述晶圆传送盒(10)用。
3.根据权利要求2所述的晶圆传送盒清洗设备，其特征在于：所述前清洗装置(17)，还包括有一转动装置(174)，所述转动装置(174)能带动所述可动清洗单元(172)转动；
所述可动清洗单元(172)，其一侧还间隔设有数个前清洗喷头(1721)；
所述后清洗装置(24)，其还包括有一设于所述后清洗槽(22)底端的第二驱动单元(241)、一设于所述后清洗槽(22)内的清洗单元(242)、一与所述第二驱动单元(241)可动连接的滑座(243)及一设于所述清洗单元(242)与所述滑座(243)间的连接柱(244)；
前述清洗单元(242)，还包括有一设于所述连接柱(244)顶端左侧的左清洗组合(2421)、一设于所述连接柱(244)顶端右侧的右清洗组合(2422)、一设所述左清洗组合(2421)与所述右清洗组合(2422)之间且位于所述连接柱(244)顶端的调整组件(2423)及一设于所述与所述连接柱(244)间的管道整合座(2424)；
所述左清洗组合(2421)与所述右清洗组合(2422)，其两者皆还包括有一座体(2421a)、一设于所述座体(2421a)顶端的倒L形干燥组件(2421b)、一形成于所述座体(2421a)与所述倒L形干燥组件(2421b)一侧间的凹陷部(2421c)及数个间隔排列于所述凹陷部(2421c)处的L形清洗喷头(2421d)；
所述调整组件(2423)，还具有两倒T形支架(a)、一左H形翼板(b)、一右H形翼板(c)、一横杆(d)、一跨接块(e)、一螺杆(f)及一调整转轮(g)；前述倒T形支架(a)相应设于所述管道整合座(2424)顶端面的前侧与后侧边缘处，且各个所述倒T型支架(a)内还各具有一倒T形开槽(a1)；
前述左H形翼板(b)设于所述管道整合座(2424)顶端面左侧，一端设于所述倒T型支架(a)之间，另一端连接所述左清洗组合(2421)；
前述右H形翼板(c)设于所述管道整合座(2424)顶端面右侧，一端设于所述倒T型支架(a)之间，另一端连接所述右清洗组合(2422)，而所述左H形翼板(b)、所述右H形翼板(c)位于所述倒T型支架(a)之间的一端，还相互枢接，另所述左H形翼板(b)与各个所述倒T型支架(a)水平段相应端处，还分别通过一左限位杆(b1)滑动定位，另所述右H形翼板(c)与各个所述倒T型支架(a)水平段相应端处，还分别通过一右限位杆(c1)滑动定位；
前述横杆(d)设于所述左H形翼板(b)与所述右H形翼板(c)的枢接处，且两端还分别对应的所述倒T型支架(a)的所述倒T形开槽(a1)配合，而中央还垂直设有一连接块(d1)；
前述跨接块(e)设于所述倒T型支架(a)之间，且两端还分别对应的所述倒T型支架(a)顶端连接；前述螺杆(f)穿过所述跨接块(e)后与所述连接块(d1)与所述连接；
前述调整转轮(g)与所述螺杆(f)螺接，位于所述跨接块(e)与所述连接块(d1)间；
所述管道整合座(2424)，其还能供连接相应管路后、将气体和液体有效率地传输到所述左清洗组合(2421)、所述右清洗组合(2422)处。
4.根据权利要求3所述的晶圆传送盒清洗设备，其特征在于：所述后清洗槽(22)，还包括有一设于所述后清洗槽(22)前端侧与顶端侧处的倒L形开口(221)、一设于所述倒L形开口(221)前端侧处的前U形挡板(222)、一间隔设于所述前U形挡板(222)后侧处的后U形挡板(223)、一设于所述后清洗槽(22)顶端边缘处的外ㄇ形胶条(224)及一设于所述后清洗槽(22)顶端边缘且位于所述外ㄇ形胶条(224)内侧处的内ㄇ形胶条(225)；
前述倒L形开口(221)，其顶端侧内边缘相应于所述前U形挡板(222)顶端处，还分别凹设有一前凹陷部(2211)，而顶端侧内边缘相应于所述后U形挡板(223)处，亦还分别凹设有一后凹陷部(2212)；
前述前U形挡板(222)，其封闭端左、右两侧处，还分别凹设有一前凹槽(2221)，而所述前U形挡板(222)封闭端顶边缘处，还卡设有一前隔离胶条(2222)；
前述后U形挡板(223)，其封闭端左、右两侧处，还分别凹设有一后凹槽(2231)，而所述后U形挡板(223)封闭端顶边缘处，还卡设有一后隔离胶条(2232)；
所述后隔离装置(23)，还包括有一设于所述后清洗槽(22)上方并对应于所述倒L形开口(221)的倒L型隔离板(231)、一设于所述后清洗槽(22)后侧端处的板垂直驱动单元(232)、两分别设于所述后清洗槽(22)相应侧处的板引导轨道(233)、一所述倒L型隔离板(231)顶端连接的牵引线(234)及一设于所述牵引线(234)自由端处的配重块(235)；
前述倒L型隔离板(231)，还具有一断面概呈H形的前垂直板体(2311)及一前端底面与所述前垂直板体(2311)顶端相接的水平板体(2312)，且所述前垂直板体(2311)前侧面底端处还延伸设有一前挡板(2311a)，而所述前垂直板体(2311)的前侧面边缘两侧处，还分别设有一前封闭胶条(2313)，另所述前垂直板体(2311)的后侧面边缘两侧处，还分别设有一后封闭胶条(2314)；
前述板垂直驱动单元(232)，其顶端还与所述倒L型隔离板(231)连接；
前述板引导轨道(233)，其顶端还分别与所述倒L型隔离板(231)相应侧处连接；
前述牵引线(234)，其与所述倒L型隔离板(231)顶端连接后，还往所述后清洗...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴明芳，林伯龙，方子铭，
申请(专利权)人：佳宸科技有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71
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