光谱测定法、光学测量法和装置制造方法及图纸

在本发明专利技术的光学测量装置中，一个分光装置发出一束测量光束并将该光束分离成若干光束，分光装置发出的这束光束包含在其中一被测物吸收所述光的一部分的测量波长区的测量光部分和在其中该被测物几乎将所述光完全吸收率的参比波长区的参比光部分；一个光度测定装置测量当一参比样品被插入光束的光路中时照射在积分球上的光以便将测量值存储在存储器中并且还测量当一个被测物体被插入光束的光路中时照射在积分球上的光；而后，一个数学运算电路计算对被测物体的补偿光部分与存储在存储器中的补偿光部分的光强度比。接下去通过将存储在存储器中的测量值乘以该比值计算出测量过程中的背景强度。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光谱测定法、光学测量方法和装置，该方法和装置用于通过用光照射物体并测量透过该物体的光或被该物体反射的光的光谱的方式测量属于该被测量物体的物质参数，例如成分比、浓度和厚度。一般说来，光谱测定法是一种对一个被测物就厚度、成分浓度、水含量百分数等进行定性和定量分析的公知的方法。该方法通常用光照射被测量的物体并测量透过该物体的光或被该物反射的光的光谱，以便检测在特性吸收波长处被该物体吸收的光的强度。在用于完成这种测定的已有光学测量装置中，会出现由光源的退化和由于环境温度的变化、该装置自身的加热和其他原因引起的温度化所引起的漂移。因此，参比光的量出现波动。为了解决这个问题，已有技术一直是测量由该光源发出的光量以便修正参比光量。被普遍了解的这样的已有的装置被划分为以下结构类型(1)操作者暂时从测量光学系统中除去被测物体以便完成参比测量。(2)操作者暂时将测量装置移到没有被测物体的位置上以便完成参比测量。(3)将该装置中的光学系统的光路分为二个支路，操作者通过分时转换光路完成参比测量。(4)将该装置中的光学系统的光路分为二个支路，操作者通过使用那两个检测器之中一个完成参比测量。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学测量方法，所述方法用由光源发出的光照射一被测物体并测量透过所述被测物体的光或被所述被测物体反射的光的光谱，所述光学测量方法包括如下步骤：配备一个光源，所述光源产生如下这些波长的测量光，这些波长包括在其间所述被测物体几乎将所述测量光完全吸收的一个补偿波长区段上的那些波长；测量由所述光源产生的光的光谱；用由所述光源发出的光照射所述的被测物体，以便测量透过所述被测物体或被所述被测物体反射的光的光谱；计算透过所述被测物体或被所述被测物体反射的光的强度与由所述光源在所述补偿波长区段产生的光的强度的强度比；将由所述光源在每一波长处产生的光的强度乘以所述比，以便得出一种无信息光谱；以及通过从透过所述...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：木村英一，柳井直树，盐见元信，芦边惠美，山崎丰，上野山晴三，
申请(专利权)人：仓敷纺绩株式会社，株式会社京都第一科学，
类型：发明
国别省市：JP[日本]