一种含碳-硅键化合物及其应用制造技术

本发明专利技术公开了一种含碳‑硅键化合物及其在构建碳‑碳键中的应用。本发明专利技术提供了一种如式I或式I’所示的含碳‑硅键化合物在构建碳‑碳键的化学反应中的应用；所述的碳‑碳键中的一个碳来自于所述的含碳‑硅键化合物中与硅连接的碳。本发明专利技术提供的制备方法，使用含碳‑硅键化合物提供碳自由基，能在温和条件下与另一分子中提供的碳直接反应，构建碳‑碳键；该制备方法底物适用范围更广，不仅适用于官能团活化的C和碳自由基底物，还可适用于未活化的C‑H键底物。

【技术实现步骤摘要】
一种含碳-硅键化合物及其应用
本专利技术涉及一种含碳-硅键化合物及其应用。
技术介绍
碳-碳键的构建是有机合成的基础，而分子间的碳-碳键的构建是发展合成多样性的主体。自由基反应由于其独特的表现，渐渐发展成为一种构建碳-碳键的主流方法，并且被应用于大量天然产物的合成中。与最初的认为自由基过于活泼的性质相反，自由基反应可以具有很好的选择性与可控性，反应条件温和，具有很好的官能团兼容性。自从人们发现有机锡氢物种可以引发自由基以来，迄今为止很多自由基反应都是使用有机锡氢物种如Bu3SnH，Me3SnH，Ph3SnH等来诱导的。研究表明，有机锡氢物种可以高效的实现卤素，羟基，氨基，硝基等官能团的脱除；有机锡氢物种可以引发自由基与碳碳不饱和键加成从而构建碳-碳键；有机锡氢物种可以介导脂肪环、多环以及杂环β-酮脂的扩环等等。然而由于锡金属的高毒性，限制了此类自由基反应在食品以及药物合成行业的应用。利用有机锡试剂的反应后处理复杂，通常需要经过柱层析等，也限制了此类自由基反应的应用。因此，化学家们迫切希望能够发展新型的自由基前体。近年来，化学家们通过研究证明有机硼试剂这种相比传统金属来说更软的金属试剂在氧化的条件下可以产生自由基，从而进行一系列的偶联反应。2010年Fensterbank报道了烷基三氟硼酸钾盐可以与自由基抑制剂TEMPO反应得到相应产物。[Geoffroy,S.；Rocio,M.M.；Yohan,C.；Alexandre,B.；Max,M.；Jean,P.G.；Fensterbank,L.Angew.Chem.Int.Ed.2010,49,8721.]考虑到苄基自由基的稳定性，该课题组选择苄基三氟硼酸钾盐进行尝试；发现苄基三氟硼酸钾可以被氧化产生自由基接着被TEMPO捕获。从而开启了有机三氟硼酸钾作为一个自由基偶联试剂在偶联反应中的应用。然而在他们的反应中通常需要120℃高温或者氧化性很强的Dess–Martin氧化剂，并且有机三氟硼酸钾价格昂贵，因此有机三氟硼酸钾作为自由基前体试剂显然还不具有实用性及经济性。烷基取代的烷氧基硅烷是一类稳定的，官能团兼容性高的，可以通过简单的烯烃氢硅化反应大量制备的化合物。在化学家以往的研究中，芳基烷氧基硅烷作为亲核试剂可以与过渡金属如钯等发生金属交换，从而与亲电试剂偶联，如Kumada偶联反应。但是，烷基取代的烷氧基硅烷受到化学家的关注很少，无法有效应用于化学反应中。2018年，汤平平课题组报道了烷基取代的烷氧基硅烷可以在Ag(II)的氧化下形成碳自由基，进一步的与Ag(II)上的配阴离子结合实现烷基取代的烷氧基硅烷的三氟甲氧基化，三氟甲硫基化，苯甲酰氧基化，三氟乙酰氧基化，硫氰基化，叠氮化，形成C-O、C-S、C-N键(Wang,F.；Xu,P.；Cong,F.；Tang,P.Chem.Sci.2018,9,8836)。但是，由于不存在碳阴离子配位的银盐，因此用该方法不能形成碳-碳键。由于未官能团化的C-H键，尤其是sp3杂化的C-H键固有的低反应活性(包括C-H键酸性较低，键能很高以及分子轨道分布惰性)(Liu,C.；Zhang,H.；Shi,W.；Lei,A.Chem.Rev.2011,111,1780；Sun,C.-L.；Shi,Z.-J.Chem.Rev.2014,114,9219；Girard,S.A.；Knauber,T.；Li,C.-J.Angew.Chem.,Int.Ed.2014,53,7.)。现有文献报道烷基三氟硼酸钾虽然可以实现碳-碳键的构建，但是其底物都是活化的含杂原子芳环或者不饱和碳碳双键(sp2杂化的C-H键)及叁键(sp杂化的C-H键)(Molander,G.A.；Colombel,V.；Braz,V.A.Org.Lett.2011,13,1852.Zhang,W.-M.；Dai,J.-J.；Xu,J.；Xu,H.-J.J.Org.Chem.2017,82,2059)，底物限制很大，不能实现sp3C-sp3C的构建。尽管有机五氟硅酸盐在19世纪60年代就被化学家们合成出来，但是至今为止关于有机五氟硅酸盐的研究并不是很多。有机五氟硅酸盐参与的反应类型很受限，主要包括有机五氟硅酸盐被亲电试剂进攻进而发生碳硅键断裂以及被氧化剂氧化发生碳硅键断裂。1982年Kumada等人报道了有机五氟硅酸盐在二价铜的作用下会生成碳自由基，该自由基可以与铜上的配阴离子如氯、溴、硫氰酸根反应生成碳氯键、碳溴键以及碳硫键。除了这类准分子内的自由基反应之外，生成的自由基也可以与反应体系内大量存在的醇类溶剂反应生成碳氧键(Yoshida,J.-i.；Tamao,K.；Kakui,T.；Kurita,A.；Murata,M.；Yamada,K.；Kumada,M.Organometallics1982,1,369.)；但是，上述报道的有机五氟硅酸盐参与的C-Cl、C-Br、C-S以及C-O键的形成与碳-碳键的形成有本质上的区别，因而以有机五氟硅酸钾直接与C-H键反应形成碳-碳键难度很大。此外，一方面，由于生成较稳定的一级碳自由基较二级和三级碳自由基明显困难；因此，二级和三级碳自由基的前体试剂较多，应用也广泛；而一级碳自由基的前体试剂及其应用并不多见。因此，本领域急需发展一种制备方法，能提供碳自由基，特别是一级碳自由基的制备方法；可适用的底物范围广，不论是官能团活化的C{如芳基硼酸及其衍生物(芳基硼酸，芳基硼酯，芳基硼酸酐，芳基三氟硼酸钾)，官能团化的三甲基硅烷(氰基三甲基硅烷，炔基三甲基硅烷，芳基三甲基硅烷)}和自由基底物(例如烷基自由基和烷基过氧自由基)，还是未活化的C-H键底物(烯基类C-H键，炔基类C-H键，芳基类以及杂芳基类C-H键，杂原子邻位的烷基类C-H键(sp3C-H键)，都可直接与该碳自由基反应，构建碳-碳键(尤其是sp3C-sp3C键)化合物。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对现有技术中构建碳-碳键的制备方法不足，适用底物范围窄的缺陷，而提供了一种含碳-硅键化合物及其在构建碳-碳键中的应用。本专利技术提供的制备方法，使用含碳-硅键化合物提供碳自由基(包括一级碳自由基)，能在温和条件下与另一分子中提供的碳直接反应，构建碳-碳键；该制备方法底物适用范围更广，不仅适用于官能团活化的C和碳自由基底物，还可适用于未活化的C-H键底物。本专利技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题的。本专利技术提供了一种如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物在构建碳-碳键的化学反应中的应用；所述的碳-碳键中的一个碳来自于所述的含碳-硅键化合物中与硅连接的碳；其中，M+为Li+、Na+、K+、Ru+、Cs+或者NH4+；R3、R4和R5独立地为C1～C20烷基；n和m独立地为1～40的整数；R1和R2独立地为卤素、硝基、氰基、-P(＝O)(R1-1)(R1-2)、-P(＝O)(OR1-3)(OR1-4)、-N(R1-5)(R1-6)、-N(R1-7)-C(＝O)-R1-8、-O-C(＝O)-N(R本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物在构建碳-碳键的化学反应中的应用；其特征在于，所述的碳-碳键中的一个碳来自于所述的含碳-硅键化合物中与硅连接的碳；/n

【技术特征摘要】
1.一种如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物在构建碳-碳键的化学反应中的应用；其特征在于，所述的碳-碳键中的一个碳来自于所述的含碳-硅键化合物中与硅连接的碳；



其中，M+为Li+、Na+、K+、Ru+、Cs+或者NH4+；
R3、R4和R5独立地为C1～C20烷基；
n和m独立地为1～40的整数；
R1和R2独立地为卤素、硝基、氰基、-P(＝O)(R1-1)(R1-2)、-P(＝O)(OR1-3)(OR1-4)、-N(R1-5)(R1-6)、-N(R1-7)-C(＝O)-R1-8、-O-C(＝O)-N(R1-9)(R1-10)、-N(R1-11)-S(＝O)2-R1-12、-C(＝O)-N(R1-13)(R1-14)、-O-R1-15、-S-R1-16、-C(＝O)-R1-17、-S(＝O)2-R1-18、-S(＝O)-R1-19、-O-C(＝O)-R1-20、-C(＝O)-O-R1-21或R1-22；
R1-1、R1-2、R1-3、R1-4、R1-5、R1-6、R1-7、R1-8、R1-9、R1-10、R1-11、R1-12、R1-13、R1-14、R1-15、R1-16、R1-17、R1-18、R1-19、R1-20、R1-21和R1-22独立地为H、任选取代的C1～C40烷基、任选取代的C2～C40烯基、任选取代的C2～C40炔基、任选取代的C3～C20环烷基、任选取代的C2～C9杂环烷基、任选取代的C2～C9的杂环烯基、任选取代的C6～C14芳基、或、任选取代的C1～C14杂芳基；所述的C2～C9的杂环烷基中，杂原子为氧、硫和氮中的一种或多种，杂原子数为1-4个；所述的C2～C9的杂环烯基中，杂原子为氧、硫和氮中的一种或多种，杂原子数为1-4个；所述的C1～C14杂芳基中，杂原子为N、O和S中的一种或多种，杂原子数为1～4个；
或者，R1-5和R1-6、R1-9和R1-10、或、R1-13和R1-14分别独立地与所直接连接的氮一起共同形成任选取代的C2～C9杂环烷基、任选取代的C2～C9的杂环烯基、或、任选取代的C1～C14杂芳基；所述的C2～C9的杂环烷基中，杂原子为氮、或、氮以及氧和/或硫，杂原子数为1～4个；所述的C2～C9的杂环烯基中，杂原子为氮、或、氮以及氧和/或硫，杂原子数为1～4个；所述的C1～C14杂芳基中，杂原子为氮、或、氮以及氧和/或硫，杂原子数为1～4个；
当R1-5和R1-6、R1-9和R1-10、或、R1-13和R1-14分别独立地与所直接连接的氮一起共同形成任选取代的C2～C9杂环烷基、任选取代的C2～C9的杂环烯基、或、任选取代的C1～C14杂芳基时，所述的任选取代的C2～C9杂环烷基、任选取代的C2～C9的杂环烯基和任选取代的C1～C14杂芳基，以及R1-1、R1-2、R1-3、R1-4、R1-5、R1-6、R1-7、R1-8、R1-9、R1-10、R1-11、R1-12、R1-13、R1-14、R1-15、R1-16、R1-17、R1-18、R1-19、R1-20、R1-21和R1-22中，所述任选取代的C1～C40烷基、任选取代的C2～C40烯基、任选取代的C2～C40炔基、任选取代的C3～C20环烷基、任选取代的C2～C9杂环烷基、任选取代的C2～C9的杂环烯基、任选取代的C6～C14芳基和任选取代的C1～C14杂芳基中的所述的任选取代独立地为未取代或者被一个或多个的如下取代基取代：卤素、硝基、氰基、-P(＝O)(R2-1)(R2-2)、-P(＝O)(OR2-3)(OR2-4)、-N(R2-5)(R2-6)、-N(R2-7)-C(＝O)-R2-8、-O-C(＝O)-N(R2-9)(R2-10)、-N(R2-11)-S(＝O)2-R2-12、-C(＝O)-N(R2-13)(R2-14)、-O-R2-15、-S-R2-16、-C(＝O)-R2-17、-S(＝O)2-R2-18、-S(＝O)-R2-19、-O-C(＝O)-R2-20、-C(＝O)-O-R2-21、R2-22或＝O，当为多个取代基时，所述的取代基相同或不同；
R2-1、R2-2、R2-3、R2-4、R2-5、R2-6、R2-7、R2-8、R2-9、R2-10、R2-11、R2-12、R2-13、R2-14、R2-15、R2-16、R2-17、R2-18、R2-19、R2-20、R2-21和R2-22独立地为H、未取代或取代的C1～C40烷基、未取代或取代的C2～C40烯基、未取代或取代的C2～C40炔基、未取代或取代的C3～C20环烷基、未取代或取代的C2～C9杂环烷基、未取代或取代的C2～C9的杂环烯基、未取代或取代的C6～C14芳基、或、未取代或取代的C1～C14杂芳基；所述的C2～C9的杂环烷基中，杂原子为氧、硫和氮中的一种或多种，杂原子数为1-4个；所述的C2～C9的杂环烯基中，杂原子为氧、硫和氮中的一种或多种，杂原子数为1-4个；所述的C1～C14杂芳基中，杂原子为N、O和S中的一种或多种，杂原子数为1～4个；所述的取代的C1～C40烷基、取代的C2～C40烯基、取代的C2～C40炔基、取代的C3～C20环烷基、取代的C2～C9杂环烷基、取代的C2～C9的杂环烯基、取代的C6～C14芳基、或、取代的C1～C14杂芳基中，所述的取代各自独立地是指下列取代基中的一个或多个取代：为卤素、硝基、氰基、-OH、-CHO、-NH2、-C(＝O)NH2、-COOH或＝O，当为多个取代基时，所述的取代基相同或不同；
或者，R2-5和R2-6、R2-9和R2-10、或、R2-13和R2-14分别独立地与所直接连接的氮一起共同形成未取代或取代的C2～C9的杂环烷基、未取代或取代的C2～C9的杂环烯基、或、未取代或取代的C1～C14杂芳基；所述的C2～C9的杂环烷基中，杂原子为氮、或、氮以及氧和/或硫，杂原子数为1～4个；所述的C2～C9的杂环烯基中，杂原子为氮、或、氮以及氧和/或硫，杂原子数为1～4个；所述的C1～C14杂芳基中，杂原子为氮、或、氮以及氧和/或硫，杂原子数为1～4个；所述的取代的C2～C9的杂环烷基、取代的C2～C9的杂环烯基、或、取代的C1～C14杂芳基中，所述的取代各自独立地是指下列取代基中的一个或多个取代：卤素、硝基、氰基、-OH、-CHO、-NH2、-C(＝O)NH2、-COOH或＝O，当为多个取代基时，所述的取代基相同或不同。


2.如权利要求1所述的应用，其特征在于，其包括如下任一方案；
方案一，包括如下步骤，在溶剂中，在氧化剂存在下，将所述的如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物，与底物进行反应，制备得到含碳-碳键的化合物即可；所述的底物为含烯基、芳基、杂芳基、杂原子邻位的烷基或炔基类C-H键的化合物、含氰基、烯基、炔基、芳基或杂芳基类碳-硼键的化合物、或者、含氰基、烯基、炔基、芳基或杂芳基类碳-硅键的化合物；
方案二，包括如下步骤，在溶剂中，在加热下，将所述的如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物与底物进行反应，制备得到含碳-碳键的化合物即可；所述的底物为含碳自由基的化合物。


3.如权利要求2所述的应用，其特征在于，在所述的方案一和二中，所述的溶剂为水、卤代烃类溶剂，环醚类溶剂，酮类溶剂和苯类溶剂中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一或二中，所述的如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物，与所述的底物的摩尔比为1:5～5:1；
和/或，在所述的方案一或二中，所述的如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物与所述的溶剂的摩尔体积比为0.01mol/L～5mol/L；
和/或，在所述的方案一或二中，所述的反应在惰性气氛中进行；
和/或，在所述的方案一中，所述的所述的氧化剂为铜类氧化剂、或者、铜类氧化剂与叔丁基过氧化物、高价碘类氧化剂、锰类氧化剂、过硫酸盐类氧化剂，银类氧化剂，氟正离子类氧化剂和氧气中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的底物为含烯基或芳基类C-H键的化合物时，所述的反应中还包括吡啶类添加剂；
和/或，在所述的方案一中，当所述的底物为含杂芳基类C-H键的化合物时，所述的反应中还包括酸性添加剂；
和/或，在所述的方案一中，当所述的底物为含杂原子邻位的烷基类C-H键的化合物时，所述的反应中还包括胺类添加剂；
和/或，在所述的方案一中，当所述的底物为所述的如式I所示的含碳-硅键化合物时，还包括相转移催化剂；
和/或，在所述的方案一中，当所述的底物为含杂原子邻位的烷基或炔基类C-H键的化合物，含氰基、烯基、炔基、芳基或杂芳基类碳-硼键的化合物，或者，含氰基、烯基、炔基、芳基或杂芳基类碳-硅键的化合物时，所述的反应中还包括碱性试剂；
和/或，在所述的方案一中，当所述的底物为含氰基、烯基、炔基、芳基或杂芳基类碳-硼键的化合物、或者、含氰基、烯基、炔基、芳基或杂芳基类碳-硅键的化合物时，所述的反应中还包括配体；
和/或，在所述的方案一中，所述反应的温度为0℃～200℃；
和/或，在所述的方案二中，所述反应的温度为180℃～200℃。


4.如权利要求3所述的应用，其特征在于，在所述的方案一和二中，当所述的溶剂为卤代烃类溶剂时，所述的卤代烃类溶剂为四氯化碳和/或二氯甲烷；
和/或，在所述的方案一和二中，当所述的溶剂为环醚类溶剂时，所述的环醚类溶剂为四氢呋喃和/或二氧六环；
和/或，在所述的方案一和二中，当所述的溶剂为酮类溶剂时，所述的酮类溶剂为丙酮；
和/或，在所述的方案一和二中，当所述的溶剂为苯类溶剂时，所述的苯类溶剂为甲苯；
和/或，在所述的方案一或二中，所述的如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物，与所述的底物的摩尔比为1:2～4:1；
和/或，在所述的方案一和二中，当所述的溶剂包括水时，所述的水与所述的如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物的摩尔比为3:1～3:4；
和/或，在所述的方案一和二中，当所述的反应在惰性气氛中进行时，所述的惰性气氛为氩气或氮气；
和/或，在所述的方案一中，当所述的氧化剂为铜类氧化剂时，所述的铜类氧化剂为溴化铜、溴化亚铜、氯化亚铜、碘化亚铜、醋酸铜，三氟甲烷磺酸铜、异辛酸铜和四乙腈四氟硼酸铜中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的氧化剂为叔丁基过氧化物时，所述的叔丁基过氧化物为二叔丁基过氧化物和/或叔丁基过氧化氢；
和/或，在所述的方案一中，当所述的氧化剂为高价碘类氧化剂时，所述的高价碘类氧化剂为Dess–Martin氧化剂；
和/或，在所述的方案一中，当所述的氧化剂为锰类氧化剂时，所述的锰类氧化剂为醋酸锰和/或高锰酸钾；
和/或，在所述的方案一中，当所述的氧化剂为过硫酸盐类氧化剂时，所述的过硫酸盐类氧化剂为过硫酸钾，过硫酸氢钾复合盐，过硫酸钠和过硫酸铵中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的氧化剂为银类氧化剂时，所述的银类氧化剂为醋酸银，碳酸银，三氟甲磺酸银和氟化银中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的氧化剂为氟正离子类氧化剂时，所述的氟正离子类氧化剂为选择性氟试剂，N-氟代双苯磺酰亚胺和N-氟代吡啶盐化合物中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，所述的氧化剂中所述的铜类氧化剂与所述的如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物的摩尔比为0.05:1～5:1；
和/或，在所述的方案一中，当所述的底物为含烯基或芳基类C-H键的化合物时，所述的氧化剂为铜类氧化剂和叔丁基过氧化物；
和/或，在所述的方案一中，当所述的底物为含氰基、烯基、炔基、芳基或杂芳基类碳-硼键的化合物，或者，含氰基、烯基、炔基、芳基或杂芳基类碳-硅键的化合物时，所述的氧化剂为铜类氧化剂和氟正离子类氧化剂；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括吡啶类添加剂时，所述的吡啶类添加剂为2-羟基吡啶，吡啶和2,6-二氯吡啶中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括吡啶类添加剂时，所述的吡啶类添加剂与所述的铜类氧化剂的摩尔比为1:1～1.2:1；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括酸性添加剂时，所述的酸性添加剂为质子酸或者路易斯酸；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括酸性添加剂时，所述的酸类添加剂与所述的含杂芳基类C-H键化合物的摩尔比为1:1；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括胺类添加剂时，所述的胺类添加剂为一级胺，二级胺和三级胺中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括胺类添加剂时，所述的胺类添加剂与所述的如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物的摩尔比为1:1～1:5；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括相转移催化剂时，所述的相转移催化剂为四丁基卤化铵；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括相转移催化剂时，所述的相转移催化剂与所述的如式I所示的含碳-硅键化合物的摩尔比为1:1～1:100；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括碱性试剂时，所述的碱性试剂为碱金属的碳酸盐或碳酸氢盐、碱金属的磷酸盐、碱金属的羧酸盐、碱金属的醇盐、碱金属的氢氧化物和1,8-二氮杂环[5,4,0]十一烯中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括碱性试剂时，所述的碱性试剂与所述的如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物的摩尔比为0.1:1～5:1；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括配体时，所述的配体为联吡啶类配体或菲啰啉类配体；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括配体时，所述的配体与所述的铜类氧化剂的摩尔比为2:1～1:1；
和/或，在所述的方案一中，所述反应的温度为10℃～100℃。


5.如权利要求4所述的应用，其特征在于，在所述的方案一中，当所述的氧化剂为铜类氧化剂时，所述的铜类氧化剂为溴化亚铜、碘化亚铜和三氟甲烷磺酸铜中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的氧化剂为铜类氧化剂和叔丁基过氧化物时，所述铜类氧化剂和所述的叔丁基过氧化物的摩尔比为1:1～1:10；
和/或，在所述的方案一中，当所述的氧化剂为铜类氧化剂和氟正离子类氧化剂时，所述铜类氧化剂和所述的氟正离子类氧化剂的摩尔比为1:1～1:40；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括酸性添加剂，所述的酸性添加剂为质子酸时，所述的质子酸为三氟乙酸、四氟硼酸、六氟磷酸、盐酸和硫酸中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括酸性添加剂，所述的酸性添加剂为路易斯酸时，所述的路易斯酸为三氟甲磺酸锌、三氟甲磺酸铁、氯化铁和三氟甲磺酸钪中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括胺类添加剂、所述的胺类添加剂为一级胺时，所述的一级胺为烷基胺和/或芳胺；所述的烷基胺较佳地为叔丁胺和/或正丁胺；所述的芳胺为较佳地苯胺；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括胺类添加剂、所述的胺类添加剂为二级胺时，所述的二级胺为二乙胺，二丙胺，二丁胺和N-甲基苯胺中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括胺类添加剂、所述的胺类添加剂为三级胺时，所述的三级胺为三乙胺，三丙胺，三丁胺和N,N-二甲基乙二胺中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括胺类添加剂时，所述的胺类添加剂与所述的如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物的摩尔比为1:2.7；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括相转移催化剂，所述的相转移催化剂为四丁基卤化铵时，所述的四丁基卤化铵为四丁基氯化铵、四丁基溴化铵、四丁基碘化铵和四丁基氟化铵中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括相转移催化剂时，所述的相转移催化剂与所述的如式I所示的含碳-硅键化合物的摩尔比为1:1～1:40；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括碱性试剂，所述的碱性试剂为碱金属的碳酸盐或碳酸氢盐时，所述的碱性试剂为碳酸钠，碳酸钾，碳酸铯，碳酸氢钾和碳酸氢钠中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括碱性试剂，所述的碱性试剂为碱金属的磷酸盐时，所述的碱金属的磷酸盐为磷酸钾和/或磷酸钠；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括碱性试剂，所述的碱性试剂为碱金属的羧酸盐时，所述的碱金属的羧酸盐为醋酸钠，醋酸钠三水合物和醋酸钾中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括碱性试剂，所述的碱性试剂为碱金属的醇盐时，所述的碱金属的醇盐为甲醇钠，乙醇钠和叔丁醇钠中的一种或多种；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括碱性试剂，所述的碱性试剂为碱金属的氢氧化物时，所述的碱金属的氢氧化物为氢氧化钠和/或氢氧化钾；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括配体时，所述的配体为联吡啶类配体时，所述的联吡啶类配体为2,2’-联吡啶；
和/或，在所述的方案一中，当所述的反应中还包括配体时，所述的配体为菲啰啉类配体时，所述的菲啰啉类配体为1,10-菲啰啉。


6.如权利要求1～5任一项所述的应用，其特征在于，所述的如式I或式I’所示的含碳-硅键化合物在构建碳-碳键的化学反应中作为碳自由基前体，其通过碳-硅键断裂提供碳自由基；
和/或，R3、R4和R5独立地为甲基、乙基、丙基、丁基、戊基或己基；
和/或，n和m独立地为1～10的整数；
和/或，当R1和R2独立地为卤素时，所述的卤素为氟、氯、溴或碘；
和/或，当R1-1、R1-2、R1-3、R1-4、R1-5、R1-6、R1-7、R1-8、R1-9、R1-10、R1-11、R1-12、R1-13、R1-14、R1-15、R1-16、R1-17、R1-18、R1-19、R1-20、R1-21和R1-22独立地为任选取代的C1～C40烷基时，所述的C1～C40烷基为甲基、乙基、丙基、丁基、戊基或己基；
和/或，当R1-1、R1-2、R1-3、R1-4、R1-5、R1-6、R1-7、R1-8、R1-9、R1-10、R1-11、R1-12、R1-13、R1-14、R1-15、R1-16、R1-17、R1-18、R1-19、R1-20、R1-21和R1-22独立地为任选取代的C2～C40烯基时，所述的C2～C40烯基为C2-C8的烯基；
和/或，当R1-1、R1-2、R1-3、R1-4、R1-5、R1-6、R1-7、R1-8、R1-9、R1-10、R1-11、R1-12、R1-13、R1-14、R1-15、R1-16、R1-17、R1-18、R1-19、R1-20、R1-21和R1-22独立地为任选取代的C2～C40炔基时，所述的C2～C40炔基为C2-C8的炔基；
和/或，当R1-1、R1-2、R1-3、R1-4、R1-5、R1-6、R1-7、R1-8、R1-9、R1-10、R1-11、R1-12、R1-13、R1-14、R1-15、R1-16、R1-17、R1-18、R1-19、R1-20、R1-21和R1-22独立地为任选取代的C3～C20环烷基时，所述的C3～C20环烷基为环丙基、环丁基、环戊基或环己基；
和/或，当R1-1、R1-2、R1-3、R1-4、R1-5、R1-6、R1-7、R1-8、R1-9、R1-10、R1-11、R1-12、R1-13、R1-14、R1-15、R1-16、R1-17、R1-18、R1-19、R1-20、R1-21和R1-22独立地为任选取代的C3～C9杂环烷基时，所述的C2～C9杂环烷基为C3～C5杂环烷基，所述的C3～C5杂环烷基中，杂原子为N、O和S中的一种或多种，杂原子数为1～3个；
和/或，当R1-1、R1-2、R1-3、R1-4、R1-5、R1-6、R1-7、R1-8、R1-9、R1-10、R1-11、R1-12、R1-13、R1-14、R1-15、R1-16、R1-17、R1-18、R1-19、R1-20、R1-21和R1-22独立地为任选取代的C3～C9的杂环烯基时，所述的C3～C9的杂环烯基为C3～C5杂环烯基，所述的C3～C5的杂环烯基中，杂原子为N、O和S中的一种或多种，杂原子数为1～3个；
和/或，当R1-1、R1-2、R1-3、R1-4、R1-5、R1-6、R1-7、R1-8、R1-9、R1-10、R1-11、R1-12、R1-13、R1-14、R1-15、R1-16、R1-17、R1-18、R1-19、R1-20、R1-21和R1-22独立地为任选取代的C6～C14芳基时，所述的C6～C14芳基为C6～C10芳基；
和/或，当R1-1、R1-2、R1-3、R1-4、R1-5、R1-6、R1-7、R1-8、R1-9、R1-10、R1-11、R1-12、R1-13、R1-14、R1-15、R1-16、R1-17、R1-18、R1-19、R1-20、R1-21和R1-22独立地为任选取代的C1～C14杂芳基时，所述的C1～C14杂芳基为C2～C9杂芳基，所述的C2～C9杂芳基中，杂原子为N、O和S中的一种或多种，杂原子数为1～4个；
和/或，当R1-5和R1-6、R1-9和R1-10、和、R1-13和R1-14分别独立地与所直接连接的氮一起共同形成任选取代的C2～C9杂环烷基时，所述的C2～C9杂环烷基为C3～C5杂环烷基，所述的C3～C5杂环烷基中，杂原子均为氮、或、杂原子为氮以及氧和/或硫，杂原子数为1～2个；
和/或，当R1-5和R1-6、R1-9和R1-10、和、R1-13和R1-14分别独立地与所直接连接的氮一起共同形成任选取代的C2～C9的杂环烯基时，所述C2～C9的杂环烯基为C3～C5杂环烯基，所述的C3～C5的杂环烯基中，杂原子均为氮、或、杂原子为氮以及氧和/或硫，杂原子数为1～2个；
和/或，当R1-5和R1-6、R1-9和R1-10、和、R1-13和R1-14分别独立地与所直接连接的氮一起共同形成任选取代的C1～C14杂芳基时，所述的C1～C14杂芳基为C2～C9杂芳基，所述的C2～C9杂芳基中，杂原子均为氮、或、杂原子为氮以及氧和/或硫，杂原子数为1～2个；
和/或，当R2-1、R2-2、R2-3、R2-4、R2-5、R2-6、R2-7、R2-8、R2-9、R2-10、R2-11、R2-12、R2-13、R2-14、R2-15、R2-16、R2-17、R2-18、R2-19、R2-20、R2-21和R2-22独立地为未取代或取代的C1～C40烷基时，所述的C1～C40烷基为甲基、乙基、丙基、丁基、戊基或己基；
和/或，当R2-1、R2-2、R2-3、R2-4、R2-5、R2-6、R2-7、R2-8、R2-9、R2-10、R2-11、R2-12、R2-13、R2-14、R2-15、R2-16、R2-17、R2-18、R2-19、R2-20、R2-21和R2-22独立地为未取代或取代的C2～C40烯基时，所述的C2～C40烯基为C2-C8的烯基；
和/或，当R2-1、R2-2、R2-3、R2-4、R2-5、R2-6、R2-7、R2-8、R2-9、R2-10、R2-11、R2-12、R2-13、R2-14、R2-15、R2-16、R2-17、R2-18、R2...

【专利技术属性】
技术研发人员：王东辉，王腾，
申请(专利权)人：中国科学院上海有机化学研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31