一种测试定位方法以及测试定位系统技术方案

技术编号:25121387 阅读:40 留言:0更新日期:2020-08-05 02:49
本发明专利技术提供了一种测试定位方法以及测试定位系统,涉及半导体测试技术领域,通过第一图像传感器对载片进行扫描,从而得到载片上的待测器件的位置信息,通过第二图像传感器对待测器件上的电极进行识别,从而得到电极的偏移信息,根据位置信息能够将待测器件调整至探针的下方,再根据偏移信息对待测器件位置进行精确偏移补偿,将待测器件上电极的中心调整至探针的下方,在测试过程中将探针与电极接触,从而完成对待测器件的测试过程。相较于现有技术,本发明专利技术提供的测试定位方法,通过不同的图像传感器对待测器件和电极分别进行定位,针对大尺寸小电极的待测器件能够保证定位精度,能够顺利地完成待测器件的测试。

【技术实现步骤摘要】
一种测试定位方法以及测试定位系统
本专利技术涉及半导体测试
,具体而言,涉及一种测试定位方法以及测试定位系统。
技术介绍
在半导体行业中,应用于射频或微波的器件设计尺寸偏大,存在部分产品尺寸达到7*7mm以及上,但其用于测试扎针的金属电极较小(约70*70μm及以下)。该类晶圆切割后芯片之间步距一致性较差,无法通过固定步距保障自动测试的精准度。目前市场上常用的晶圆测试机,在晶圆切割前芯片之间步距固定,可以通过设备设置固定步距参数来完成精确测试;晶圆切割后,芯片之间步距一致性变差,需要通过视觉定位的方式完成测试,但该方式只适合尺寸偏小(1mm以内)芯片(或测试电极偏大芯片),对于大尺寸小电极芯片,目前还没有较好的定位方法来完成精确测试。有鉴于此,设计制造出一种适用于大尺寸小电极芯片进行测试,测试精度高的测试定位方法就显得尤为重要。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种测试定位方法,能够适用于大尺寸小电极芯片,保证测试精度。为达到上述目的,本专利技术是采用以下的技术方案来实现的。一种测本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种测试定位方法,其特征在于,包括以下步骤:/n利用第一图像传感器对载片进行定位扫描,得到所述载片上的待测器件的位置信息;/n利用第二图像传感器对所述待测器件上的电极进行识别,得到所述电极的偏移信息;/n依据所述位置信息将所述待测器件调整至探针的下方;/n依据所述偏移信息将所述电极的中心调整至所述探针的下方。/n

【技术特征摘要】
1.一种测试定位方法,其特征在于,包括以下步骤:
利用第一图像传感器对载片进行定位扫描,得到所述载片上的待测器件的位置信息;
利用第二图像传感器对所述待测器件上的电极进行识别,得到所述电极的偏移信息;
依据所述位置信息将所述待测器件调整至探针的下方;
依据所述偏移信息将所述电极的中心调整至所述探针的下方。


2.根据权利要求1所述的测试定位方法,其特征在于,所述第一图像传感器的分辨率小于所述第二图像传感器的分辨率。


3.根据权利要求1所述的测试定位方法,其特征在于,所述利用第一图像传感器对载片进行定位扫描的步骤之前,还包括以下步骤:
将所述载片放置在设备承载盘上;
移动所述设备承载盘至所述第一图像传感器的下方。


4.根据权利要求3所述的测试定位方法,其特征在于,所述利用第一图像传感器对载片进行定位扫描的步骤之后,还包括以下步骤:
移动所述设备承载盘至所述第二图像传感器的下方。


5.根据权利要求1所述的测试定位方法,其特征在于,所述利用第一图像传感器对载片进行定位扫描,得到所述载片上的待测器件的位置信息的步骤,包括:
利用所述第一图像传感器扫描所述载片;
根据预设的待测器件视觉模板得到所述载片的MAP图;
检测相邻的所述待测器件之间的间距;
依据所述MAP图和所述间距计算所述待测器件的位置信息。


6.根据权利要求1所述的测试...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈兵录
申请(专利权)人:苏州能讯高能半导体有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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