位移传感器制造技术

技术编号:2507954 阅读:245 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
在位移传感器中简化计测处理时的设定作业,该设定处理是,基于与沿着拍摄得到的线状光束的方向相对的高度分布上的多个局部区域或者特征点,而执行的计测处理。将拍摄图像显示在显示部上,通过输入部输入确定指示时,将显示在显示部的拍摄图像作为设定对象图像而执行图像示教,作为计测处理,显示包含有基准位置的计测处理的候补即计测项目,并接受选择而进行设定,并且接受作为一个计测对象区域的切取区域的指定,基于所设定的计测处理以及基准位置的信息,在计测对象区域中,自动设定由用于计测的局部区域或者特征点构成的测定点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种利用光切断法来计测物体的位移的位移传感器
技术介绍
到目前为止,用于计测各种计测对象物体的位移、长度、角度等的位移 传感器广为人之。例如,现有的位移传感器具有投光部,其通过对激光二 极管等的投光元件进行驱动,而对计测对象物体照射线状激光;受光部,其 接收从投光部发射后被计测对象物体反射回来的狭缝光;计算单元,其计算 出距计测对象物体的距离;输出单元,其输出由计算单元计算出的距计测对 象物体的距离(例如参照专利文献l)。专利文献l: JP特许3599239号根据这些位移传感器,可以测定计测对象物体上的线状光束所照射的剖 面轮廓形状。利用该位移传感器,可以在生产线上检査产品的形状是否是在 标准范围内。通常在进行产品检査时,从处理所必须的硬件或处理时间的观点来看, 很少将作为检查对象的产品的整体形状和合格品的整体形状相比较而进行 判定,而是在形状的基础上通过计测重要的点的位置或高度、间隔而进行检 査。例如,在计测高度差的高度、深度时,由用户分别从剖面轮廓形状中设 定包含用于高度差计算的区域。也可以替代高度差而计测顶部、底部,以剖 面轮廓形状中的某个位置为基准,通过设定区域等来计测到达某个部分的高 度、深度。在对计测对象物体上的高度差边缘位置进行计测时,通过设定包 含该位置的区域而进行计测。然而,根据以往的位移传感器,在进行基于多个局部区域或者特征点的 计测处理时,每次对用户要测量的地方进行区域指定,通过设定而进行计测。 因此,很难清楚设定操作,设定作业也麻烦。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述的问题,其目的在于提供一种以简单的操作能够自动进 行用于所希望的计测的设定的位移传感器。本专利技术的其它目的以及作用效果,通过参照说明书的以下记载,能够使 本领域的技术人员容易理解。本专利技术的位移传感器具有投光部件,其利用线状光束对计测对象物体 进行照射;拍摄部件,其从特定的角度进行拍摄,该特定角度是指,根据线状光束所照射的计测对象物体表面的高度,能够观察到线状光束像位置变动的角度;处理部件,其基于拍摄图像取得在计测对象物体表面上沿着线状光 束方向上的高度分布,并基于所得到的沿着线状光束方向的高度分布上的多 个局部区域或者特征点,执行预先设定的计测处理,并执行用于设定该计测 处理内容的设定处理,其中,该拍摄图像包含拍摄部件所取得的线状光束的 像;显示部件,其显示拍摄图像和用于进行设定的画面;输入部件,其接收 用于进行设定的输入;输出部件,其输出计测处理的结果,作为设定处理, 在处理部件中进行以下设定在显示部件上显示拍摄图像,并在通过输入部 件输入了确定指示时,将显示在显示部件上的拍摄图像设定为设定对象图 像,作为对设定对象图像的计测处理,同时显示以设定对象图像内所包含的 线状光束的像中相对位于上方的线或点为基准而执行计测的选择项、和以相 对位于下方的线或点为基准而执行计测的选择项,或者,同时显示以设定对 象图像内所包含的线状光束的像中相对位于左侧的线或点为基准而执行计 测的选择项、和以位于右侧的线或点为基准而执行计测的选择项,并通过输 入部件接收对选择项的选择输入,由此区分要设定的计测处理种类是相对哪 一基准线或基准点的计测处理,并对要设定的计测处理种类进行设定,在设 定对象图像内设定成为计测处理的对象的一个计测处理对象区域,对于一个 计测处理对象区域内所包含的线状光束的像,根据基准线或基准点的信息, 对所设定的计测处理所需的局部区域或特征点自动进行设定。在此,对于基于多个局部区域或者特征点的预定的计测处理,包括多个 局部区域或者特征点间的计算处理,和从多个局部区域或者特征点到规定的 局部区域或者特征点的提取处理。特征点包括最上点(顶部点)、最下点(底部点)、平均点、中心点、边缘的代表点。位于基准的相对上方的线或点包括表示凸起高度差的上段的横线和该 横线的平均点、中心点、上段的最上点、凹陷高度差的上段的橫线或各横线 的平均点、中心点或最上点、左右的横线的最上点。位于基准的相对下方的 线或点包括表示凸起高度差的下段的横线和该横线的平均点、中心点、最 下点、左右的横线的最下点、凹陷高度差的凹陷即下段的凹陷即下段的横线 或横线的平均点、中心点或最下点。优选地,作为对计测处理对象区域的设定处理,在处理部件中进行以下 处理在显示部件上显示设定对象图像的同时,将计测处理对象区域的候补 区域重叠显示在设定对象图像上,并通过输入部件接收关于该候补区域的位 置、形状或大小的变更指示,而且,如果有变更指示,则更新显示所变更的 候补区域的位置、形状或大小,并且,通过输入部件接收用于确定计测处理 对象区域的指示输入,并将此时的候补区域设定为计测对象区域。另外,优选地,在自动设定了用于所设定的计测处理的局部区域或用于 计测处理的特征点之后,将局部区域或特征点重叠显示在设定对象图像上。在处理部件中,在显示了局部区域或特征点之后,通过输入部件接收用 于该局部区域的范围变更或用于该特征点的计算的参数的设定变更,而且, 在有变更输入时,显示变更后的局部区域或根据变更后的参数计算出的特征 点,并通过输入部件接收用于对局部区域或用于计算特征点的参数进行确定 的指示输入,而且,将此时的局部区域或用于计算特征点的参数设定为用于 计测处理的局部区域或者用于计算特征点的参数。用于局部区域的计算的参数包括局部区域的上下左右的端部位置信息。 用于特征点计算的参数,包括与用于求出边缘点的高度方向相关的边缘阈 值、和区分计测处理对象区域内的上部和下部的二值化阈值。优选地,在处理部件中,作为计测处理的选择项,同时显示相对基准高 度的顶点高度计测和相对基准高度的底部深度计测。或者,在画面内同时显 示对于到上段为止的阶梯差相对基准高度的高度计测、和对于到下段为止的 阶梯差相对基准高度的深度计测,由此接收对选择项的选择。或者,在画面 内同时显示对于凸起形状的上段的左侧边缘和右侧边缘之间间隔的计测、和 对于凹陷形状的左侧上段的右侧边缘和右侧上段的左侧边缘之间间隔的计测,由此接收对选择项的选择。并且,在处理部件中,作为计测处理的选择项,对于相对基准高度的顶 点高度计测,显示在位于下方的基准线上具有凸起形状的图标,对于相对基 准高度的底部深度计测,显示在位于上方的基准线下具有凸起形状的图标。 或者,对于到上段为止的高度差相对基准高度的高度计测,显示具有位于上 方的线和以同样的高度位于该线的左下方及右下方的两条线的图标,对于到 下段为止的高度差相对于基准高度的深度计测,显示具有位于下方的线和以 同样的高度位于该线的左上方及右上方的两条线的图标。或者,对于左侧边 缘计测,显示包含如下图的图标,该图包括多个阶梯差边界部分即边缘,而 且将最左侧边缘与其它部分区别而表示,对于右侧阶梯差的边缘位置计测, 显示包含如下图的图标,该图包括多个阶梯差边界部分即边缘,而且将最右 侧的边缘与其它部分区别而表示。或者,对于凸起形状的上段的左侧边缘和 右侧边缘之间间隔的计测,显示表示凸起形状的上段的线的左边缘和右侧边 缘的位置的图标,对于凹陷形状的左侧上段的右侧边缘和右侧上段的左侧边 缘之间间隔的计测,显示表示凹陷形状的左侧上段的右侧边缘位置和右侧上 段的左侧边缘位置的图标。优选地,显示图标本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种位移传感器,其特征在于,具有:投光部件,其利用线状光束对计测对象物体进行照射;拍摄部件,其从特定的角度进行拍摄,该特定角度是指,根据线状光束所照射的计测对象物体表面的高度,能够观察到线状光束像位置变动的角度;处理 部件,其基于拍摄图像取得在计测对象物体表面上沿着线状光束方向上的高度分布,并基于所得到的沿着线状光束方向的高度分布上的多个局部区域或者特征点,执行预先设定的计测处理,并执行用于设定该计测处理内容的设定处理,其中,该拍摄图像包含拍摄部件所取得的线状光束的像;显示部件,其显示上述拍摄图像和用于进行设定的画面;输入部件,其接收用于进行设定的输入;输出部件,其输出上述计测处理的结果,作为设定处理,在上述处理部件中进行以下设定:在显示部件上显示拍 摄图像,并在通过输入部件输入了确定指示时,将显示在显示部件上的拍摄图像设定为设定对象图像,作为对上述设定对象图像的计测处理,同时显示以设定对象图像内所包含的线状光束的像中相对位于上方的线或点为基准而执行计测的选择项、和以相对位于下方 的线或点为基准而执行计测的选择项,或者,同时显示以设定对象图像内所包含的线状光束的像中相对位于左侧的线或点为基准而执行计测的选择项、和以位于右侧的线或点为基准而执行计测的选择项,并通过输入部件接收对选择项的选择输入,由此区分要设定的计测处理种类是相对哪一基准线或基准点的计测处理,并对要设定的计测处理种类进行设定,在上述设定对象图像内设定成为上述计测处理的对象的一个计测处理对象区域,对于上述一个计测处理对象区域内所包含的线状光束的像,根据上述基准线或基准点的信息 ,对所设定的计测处理所需的局部区域或特征点自动进行设定。...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:井上登纪子饭田雄介松永达也大庭仁志
申请(专利权)人:欧姆龙株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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