【技术实现步骤摘要】
具有N型电子阻挡层的LED外延结构及其制备方法和LED器件
本专利技术涉及半导体发光器件领域,具体地涉及一种具有N型电子阻挡层的LED外延结构及其制备方法和LED器件。
技术介绍
发光二极管(英文:LightEmittingDiode,简称:LED)作为一种新型节能、环保固态照明光源,具有能效高、体积小、重量轻、响应速度快以及寿命长等优点,使其在很多领域得到了广泛应用。目前LED市场趋于平稳与常规制造化,成本控制成为各制造商家的必需选项,作为LED芯片成本下降最为直接的方式无外乎缩小单颗芯片尺寸来增加产出,但在保持相同设计的情况下,缩小芯片尺寸会同时伴随产品发光亮度的下降。所以如何在单颗芯片大小固定的前提下,通过诸如在LED内形成有利于外量子效率提升的精细结构等方法,来有效提升其发光亮度成为目前各技术从业人员的重点课题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种具有N型电子阻挡层的LED外延结构及其制备方法和LED器件,以通过形成具有凹凸精细结构的N型电子阻挡层,来提升电子载流子的横向扩展能力,提升LED发光效率。本专利技术提供一种具有N型电子阻挡层的LED外延结构,所述LED外延结构从下向上依次包括衬底、非掺杂半导体层、复合N型半导体层、多量子阱层、和P型半导体层;所述复合N型半导体层沿外延生长方向依次包括第一N型半导体层、复合N型电子阻挡层和第二N型半导体层;其中所述复合N型电子阻挡层依次包括金属化的粗化层、在所述粗化层表面形成的具有凹凸曲面结构的停顿退火层、在所述停 ...
【技术保护点】
1.一种具有N型电子阻挡层的LED外延结构,所述LED外延结构从下向上依次包括衬底、非掺杂半导体层、复合N型半导体层、多量子阱层、和P型半导体层,其特征在于:/n所述复合N型半导体层沿外延生长方向依次包括第一N型半导体层、复合N型电子阻挡层和第二N型半导体层;/n其中所述复合N型电子阻挡层依次包括金属化的粗化层、在所述粗化层表面形成的具有凹凸曲面结构的停顿退火层、在所述停顿退火层上的具有凹凸曲面结构的超晶格层。/n
【技术特征摘要】
1.一种具有N型电子阻挡层的LED外延结构,所述LED外延结构从下向上依次包括衬底、非掺杂半导体层、复合N型半导体层、多量子阱层、和P型半导体层,其特征在于:
所述复合N型半导体层沿外延生长方向依次包括第一N型半导体层、复合N型电子阻挡层和第二N型半导体层;
其中所述复合N型电子阻挡层依次包括金属化的粗化层、在所述粗化层表面形成的具有凹凸曲面结构的停顿退火层、在所述停顿退火层上的具有凹凸曲面结构的超晶格层。
2.根据权利要求1所述的具有N型电子阻挡层的LED外延结构,其特征在于:所述第二N型半导体层及所述多量子阱层也具有凹凸曲面结构。
3.根据权利要求2所述的具有N型电子阻挡层的LED外延结构,其特征在于:所述第一N型半导体层和所述第二N型半导体层为Si掺杂的GaN层,且所述第一N型半导体层掺杂浓度小于所述第二N型半导体层掺杂浓度。
4.根据权利要求3所述的具有N型电子阻挡层的LED外延结构,其特征在于:所述第一N型半导体层Si掺杂浓度为1×1019cm-3;所述第二N型半导体层Si掺杂浓度为2×1019cm-3。
5.根据权利要求1所述的具有N型电子阻挡层的LED外延结构,其特征在于:所述粗化层为粗化Al层,其厚度范围为10~20nm。
6.根据权利要求5所述的具有N型电子阻挡层的LED外延结构,其特征在于:所述超晶格层包含若干个双层组合单元,每个组合单元包含一个Al层和一个设于其上的AlGaN层,组合单元之间依次堆叠,其个数为15~30。
7.根据权利要求6所述的具有N型电子阻挡层的LED外延结构,其特征在于:在所述超晶格层中,每层所述Al层的厚度为1nm,每层所述AlGaN层的厚度为2nm,每层所述AlGaN层中Al组分含量范围为10~15%。
8.根据权利要求1所述的具有N型电子阻挡层的LED外延结构,其特征在于:所述第一N型半导体层和所述粗化层之间还设有第一过渡层。
9.根据权利要求8所述的具有N型电子阻挡层的LED外延结构,其特征在于:所述第一过渡层为AlGaN层,其厚度范围为10~20nm,其Al组分的含量由沿所述第一N型半导体层至所述所述粗化层的方向从0%逐渐变化为15%。
10.根据权利要求1所述的具有N型电子阻挡层的LED外延结构,其特征在于:所述超晶格层和所述第二N型半导体层之间还设有第二过渡层。
11.根据权利要求10所述的具有N型电子阻挡层的LED外延结构,其特征在于:所述第二过渡层为AlGaN层,其厚度范围为5~8nm,其Al组分含量范围为10~15%。
12.一种LED器件,其特征在于,包括权利要求1-11任一所述的具有N型电子阻挡层的LED外延结构、N电极和P电极,所述N电极与所述第一N型半导体层欧姆接触连接,所述P电极与所述P型半导体层接触层欧姆接触连接...
【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人,
申请(专利权)人:聚灿光电科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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