【技术实现步骤摘要】
一种自动光刻机
本专利技术涉及光刻领域,具体涉及一种自动光刻机。
技术介绍
在集成电路芯片的生产过程中,芯片的设计图形在硅片表面光刻胶上的曝光转印(光刻)是其中最重要的工序之一,该工序所用的设备称为光刻机,光刻机是集成电路加工过程中最关键的设备。目前,光刻过程是人工将硅片固定在工装上,然后将此工装和硅片放入光刻机中曝光,随着一步步改进,目前已经形成了自动输送装置,工人只需将硅片在工装上放置或者是从工装上拆装下来便可,然而上述装置在实际生产过程中,等待曝光以及工装转移过程是比较浪费时间,大约占据了整个生产节拍一半的时间;所以现在缺少一种设备组成简单,自动化,不需要工作人员等待,并且能有效提高生产效率的光刻装置。现有技术中也出现了一些自动光刻机,如申请号为CN201820863252.0的一项中国专利公开了一种自动光刻机,它包括包括台架,所述台架上设有可步进转动的转盘,所述转盘四周均布有若干工装台,所述工装台上固定有若干工装,所述台架后方设有曝光机,所述曝光机设置在所述转盘旋转停止的工装上方。该技 ...
【技术保护点】
1.一种自动光刻机,包括台架(1),其特征在于:还包括支架(2)、显微放大镜(3)、曝光机(4)、转盘(5)、电机(6)、真空发生装置(7)和工装台(8);所述台架(1)上方设有滑杆(11),所述滑杆(11)的上端滑动连接着支架(2);所述支架的另一端设置有曝光机(4);所述曝光机(4)两侧对称设有显微放大镜(3);所述曝光机(4)和显微放大镜(3)的正下方设有工装台(8);所述工装台(8)包括大O型圈(81)、小O型圈(82)、基座(83)、弹力绳(84)和橡胶球(85);所述基座(83)上端为凹坑(831),所述凹坑(831)侧边缘设有台阶,所述台阶上设有小O型圈(82 ...
【技术特征摘要】
1.一种自动光刻机,包括台架(1),其特征在于:还包括支架(2)、显微放大镜(3)、曝光机(4)、转盘(5)、电机(6)、真空发生装置(7)和工装台(8);所述台架(1)上方设有滑杆(11),所述滑杆(11)的上端滑动连接着支架(2);所述支架的另一端设置有曝光机(4);所述曝光机(4)两侧对称设有显微放大镜(3);所述曝光机(4)和显微放大镜(3)的正下方设有工装台(8);所述工装台(8)包括大O型圈(81)、小O型圈(82)、基座(83)、弹力绳(84)和橡胶球(85);所述基座(83)上端为凹坑(831),所述凹坑(831)侧边缘设有台阶,所述台阶上设有小O型圈(82),所述凹坑(831)的底面设有通气孔;所述基座(83)下端为凸缘(832),所述凸缘(832)上设有大O型圈(81);所述基座(83)侧面均匀连接有四个弹力绳(84),所述弹力绳(84)的另一端连接有橡胶球(85);所述台架(1)的正上方设有转盘(5);所述台架(1)与转盘(5)之间设有电机(6),所述电机(6)用于驱动转盘(5)转动;所述转盘(5)为圆形,且转盘(5)的上端设有四个凸台(51),四个所述凸台(51)截面为圆形且均匀分布在转盘(5)四周,所述凸台(51)的中心位于曝光机(4)的正下方;所述转盘(5)的中心处设有真空发生装置(7),所述真空发生装置(7)用于抽取空气;所述凸台(51)的侧面设有四个均匀分布的L型孔(511);所述L型孔(511)进口处上端均设有滑轮,所述L型孔(511)能够使橡胶球(85)顺利通过,L型孔(511)的下端设有锥形孔(512),所述锥形孔(512)能将橡胶球(85)截止在其中径处;所述凸台(51)的上端设有凹缘(513),所述...
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