曝光装置、用于控制曝光装置的方法、以及物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了曝光装置、用于控制曝光装置的方法、以及物品制造方法。曝光装置包括被配置为将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统、被配置为保持和移动所述基板的基板台架、以及被配置为控制由所述基板台架保持的基板的曝光的控制器，其中所述控制器基于远心度信息和高度信息来获得投影到所述基板上的图案的图像相对于所述掩模的图案的偏离量，并且基于获得的偏离量来校正所述图像的偏离以使所述基板曝光，所述远心度信息是关于所述投影光学系统的各个图像高度的远心度的信息，所述高度信息是关于所述基板的表面的高度的信息。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置、用于控制曝光装置的方法、以及物品制造方法
本专利技术涉及曝光装置、用于控制曝光装置的方法、以及物品制造方法。
技术介绍
在用于将原始版(掩模或标线)的图案转印到基板上的曝光装置中，对基板的击射(shot)区域的变形、畸变等执行各种校正。这些校正通常独立于聚焦位置的控制(校正)而执行。这是因为曝光装置的投影光学系统是远心的，并且即使聚焦位置改变，击射区域的倍率因子偏离、旋转偏离以及畸变也不改变。然而，曝光装置的投影光学系统不是严格远心的，并且由于投影光学系统中的像差的影响而存在远心度(telecentricity)。日本专利特开No.2017-90778公开了用于通过校正由远心度产生的散焦量来提高重叠精确度的技术。随着近年的图案的微型化和对厚膜光刻胶执行的处理数量的增加，已变得不可能忽略由远心度不为零的事实造成的根据散焦量的畸变、投影倍率因子的变化或图像偏移的影响。因此，存在对以较高的精确度校正图像偏离的需要。
技术实现思路
本专利技术提供例如有利于提高图像偏离校正的精确度的技术。本专利技术在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，所述曝光装置可操作以使基板曝光，所述装置包括：/n投影光学系统，所述投影光学系统被配置为将掩模的图案投影到所述基板上；/n基板台架，所述基板台架被配置为保持和移动所述基板；以及/n控制器，所述控制器被配置为控制由所述基板台架保持的基板的曝光，其中/n所述控制器基于远心度信息和高度信息来获得投影到所述基板上的图案的图像相对于所述掩模的图案的偏离量，并且基于获得的偏离量来校正所述图像的偏离以使所述基板曝光，所述远心度信息是关于所述投影光学系统的各个图像高度的远心度的信息，所述高度信息是关于所述基板的表面的高度的信息。/n

【技术特征摘要】
20190108 JP 2019-0013791.一种曝光装置，所述曝光装置可操作以使基板曝光，所述装置包括：
投影光学系统，所述投影光学系统被配置为将掩模的图案投影到所述基板上；
基板台架，所述基板台架被配置为保持和移动所述基板；以及
控制器，所述控制器被配置为控制由所述基板台架保持的基板的曝光，其中
所述控制器基于远心度信息和高度信息来获得投影到所述基板上的图案的图像相对于所述掩模的图案的偏离量，并且基于获得的偏离量来校正所述图像的偏离以使所述基板曝光，所述远心度信息是关于所述投影光学系统的各个图像高度的远心度的信息，所述高度信息是关于所述基板的表面的高度的信息。


2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中
在所述控制器中，
获得所述投影光学系统的光轴方向上的最佳聚焦位置与从所述高度信息获得的所述基板的表面的高度之间的差作为散焦量，并且
基于所述散焦量和远心度信息来获得所述偏离量。


3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中包括在所述高度信息中的所述基板的表面高度的分辨率高于所述基板台架的聚焦驱动的分辨率。


4.根据权利要求1所述的曝光装置，包括
高度测量设备，所述高度测量设备用于测量所述基板的表面高度，其中
所述控制器从使用所述高度测量设备进行测量的结果获得所述高度信息。


5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中
所述控制器基于所述基板的设计信息来获得所述高度信息。


6.根据权利要求1所述的曝光...

【专利技术属性】
技术研发人员：加贺明久，水元一史，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP