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本发明公开了曝光装置、用于控制曝光装置的方法、以及物品制造方法。曝光装置包括被配置为将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统、被配置为保持和移动所述基板的基板台架、以及被配置为控制由所述基板台架保持的基板的曝光的控制器，其中所述控制器基于远心...
该专利属于佳能株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过佳能株式会社授权不得商用。

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