采用可轴向移动坩埚的浮熔设备及其方法技术

为了连续浮熔特别小块高熔点金属，同时使可熔的液态金属的总量大于坩埚的容量。具有扇形片的导体坩埚包括一个圆筒上坩埚和一个封底下坩埚。一个感应线圈安放在上坩埚之个侧，在该线圈下边又安放一个感应线圈。在起始熔化阶段，下坩埚是与上坩埚接触的，并位于感应线圈之内侧。当在熔融金属和下坩埚之间生长并固化一个柱状金属时，下坩埚被下降。连续给料斗连续给进冷材料。在坩埚的止方配备一个熔融金属表面温度计和一个熔融金属表面水准仪。调节连续给料斗运作在熔融金属表面温度计所要求值的范围内。另一方面，下坩埚递次降低到所要求的熔融金属表面水准仪指示值的范围内。（*该技术在2013年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于熔化浮置材料的浮熔设备，把一种材料，如金属，投入在感应线圈之内由导体材料制成的坩埚，并使该材料悬浮于坩埚之中。当在金属中感应的涡流在按浮熔方法分割成扇形片的坩埚内，沿相反方向流动时，由此产生的力使金属悬浮于坩埚之中，并使之被它自身的涡流加热。因没有来自坩埚的杂质与熔化的金属混合，而可制备出高纯液体金属。将该液体金属浇注到一个结晶模中，可制出超高纯的产品。采用上述方法来熔化Ti和Si之类的材料。并且，坩埚适合于熔化高熔点材料，因为液体金属无热导损失。图4是一常规浮熔设备的纵剖透视图。如图4中所示，其中装有圆筒形坩埚4，在圆筒形高频感应线圈1和下底3之内设有多个水冷扇形铜片2，该扇形片在圆周方向上相互电绝缘。当把冷金属材料放入坩埚4，且同时用电源6给感应线圈1施加KHz量级的电能时，致使金属5熔化且悬浮。在常规的浮熔设备中，仅有上部金属熔化并悬浮于坩埚之内，而下部金属仍保持与坩埚的下底和侧壁接触。随之而来的是，由水冷坩埚引起的热量耗散的增加使熔化金属所需的电能加大。而且，一次熔化操作可制取的液体金属总量是由坩埚的大小确定的。当冷金属材料为薄金属片状小块时，由于本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种浮熔设备包括安置在感应线圈之内的，具有隔开的环状扇形片的导体坩埚，所说的坩埚包括一个圆筒状上坩埚和一个封底的下坩埚，所说的上坩埚和所说的感应线圈或所说的下坩埚可同轴移动。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：福泽章，渡边敏昭，森田公，藤田满，樱谷和之，山崎素央，武达男，
申请(专利权)人：科学技术厅金属材料技术研究所，中部电力株式会社，富士电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]