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为了连续浮熔特别小块高熔点金属，同时使可熔的液态金属的总量大于坩埚的容量。具有扇形片的导体坩埚包括一个圆筒上坩埚和一个封底下坩埚。一个感应线圈安放在上坩埚之个侧，在该线圈下边又安放一个感应线圈。在起始熔化阶段，下坩埚是与上坩埚接触的，并位于...该专利属于科学技术厅金属材料技术研究所;中部电力株式会社;富士电机株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过科学技术厅金属材料技术研究所;中部电力株式会社;富士电机株式会社授权不得商用。