连续烧成炉制造技术

本发明专利技术提供一种在使炉内的气氛温度保持稳定的同时，提高了控制响应性的连续烧成炉。连续烧成炉（１０）具有：加热器（１３）、热电偶（１９）、隔焰炉板（１６）、贯通孔（２０）和控制器（２１）。加热器（１３）沿着正交方向Ｙ排列，设置在内设滚柱（１５）的炉内，该滚柱（１５）成为传送路线。隔焰炉板（１６）设置在炉内的滚柱（１５）和加热器（１３）之间。贯通孔（２０）向炉内通入外气，限制沿着传送路线的传送方向的加热气体的流动。热电偶（１９）沿着正交方向Ｙ排列，配置在炉内的比隔焰炉板（１６）更靠近滚柱（１５）侧。控制器（２１）根据热电偶（１９）的检测温度来控制加热器（１３）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于等离子体显示屏(PDP)等的制造工序中所用的 玻璃基板的烧成工序、玻璃基板的退火处理工序等的连续烧成炉。
技术介绍
连续烧成炉在炉内具有设定温度不同的多个热处理区。各热处理 区沿着传送玻璃基板等处理对象物的传送路线连续地形成。传送路线 由滚柱炉膛等构成。各处理对象物以预定的间隔在传送路线上被连续 传送或间歇传送。各处理对象物在各热处理区得到预定的热处理。在连续烧成炉中，因处理对象物的传送而有一定的热量从连续烧 成炉被带出，从而炉内的气氛温度发生波动。另外，随着处理对象物 的传送，加热气体在热处理区间流动，在各区的气氛温度发生波动。 该气氛温度的波动在处理对象物开始传送后的一定期间很显著，以往 是在传送处理对象物之前，先传送被称为假工件的假的处理对象物， 使气氛温度稳定后再传送作为实际处理对象物的玻璃基板等。对各热处理区进行温度控制，使区内各位置的气氛温度稳定在设 定温度附近。在各热处理区设有加热器等发热部、用于对炉内进行防 尘或使对炉内的热辐射均匀的隔焰炉板、和检测各区温度的热电偶等 温度检测部，并根据温度检测部的检测温度对发热部的发热量进行控 制，以补偿气氛温度本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种连续烧成炉，具有：发热单元，设置在内设传送路线的炉内；隔焰炉板，设置在所述炉内的所述传送路线和所述发热单元之间；限制单元，向所述炉内通入外气，限制沿着所述传送路线的传送方向的加热气体的流动；温度检测单元，配置在所述炉内的比所述隔焰 炉板更靠近传送路线侧；和　温度控制单元，根据所述温度检测单元的检测温度来控制所述发热单元。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：浦西芳和，
申请(专利权)人：光洋热系统株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]