连续烧成炉制造技术

本发明专利技术提供一种在使炉内的气氛温度保持稳定的同时，提高了控制响应性的连续烧成炉。连续烧成炉（１０）具有：加热器（１３）、热电偶（１９）、隔焰炉板（１６）、贯通孔（２０）和控制器（２１）。加热器（１３）沿着正交方向Ｙ排列，设置在内设滚柱（１５）的炉内，该滚柱（１５）成为传送路线。隔焰炉板（１６）设置在炉内的滚柱（１５）和加热器（１３）之间。贯通孔（２０）向炉内通入外气，限制沿着传送路线的传送方向的加热气体的流动。热电偶（１９）沿着正交方向Ｙ排列，配置在炉内的比隔焰炉板（１６）更靠近滚柱（１５）侧。控制器（２１）根据热电偶（１９）的检测温度来控制加热器（１３）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于等离子体显示屏(PDP)等的制造工序中所用的 玻璃基板的烧成工序、玻璃基板的退火处理工序等的连续烧成炉。
技术介绍
连续烧成炉在炉内具有设定温度不同的多个热处理区。各热处理 区沿着传送玻璃基板等处理对象物的传送路线连续地形成。传送路线 由滚柱炉膛等构成。各处理对象物以预定的间隔在传送路线上被连续 传送或间歇传送。各处理对象物在各热处理区得到预定的热处理。在连续烧成炉中，因处理对象物的传送而有一定的热量从连续烧 成炉被带出，从而炉内的气氛温度发生波动。另外，随着处理对象物 的传送，加热气体在热处理区间流动，在各区的气氛温度发生波动。 该气氛温度的波动在处理对象物开始传送后的一定期间很显著，以往 是在传送处理对象物之前，先传送被称为假工件的假的处理对象物， 使气氛温度稳定后再传送作为实际处理对象物的玻璃基板等。对各热处理区进行温度控制，使区内各位置的气氛温度稳定在设 定温度附近。在各热处理区设有加热器等发热部、用于对炉内进行防 尘或使对炉内的热辐射均匀的隔焰炉板、和检测各区温度的热电偶等 温度检测部，并根据温度检测部的检测温度对发热部的发热量进行控 制，以补偿气氛温度的波动(参照例如专利文献l)。专利文献l:特开2004 — 218956号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题在炉内的比隔焰炉板更靠近传送路线侧，加热气体的流动剧烈而 产生过度的温度波动。因而，即使检测比隔焰炉板靠近传送路线侧的 温度变化来控制加热器，也难以使气氛温度保持稳定。在炉内的比隔焰炉板更靠近加热器侧，加热气体几乎不流动，温 度波动很平缓。因而，如果检测隔焰炉板表面或比隔焰炉板靠近加热 器侧的温度变化来控制加热器，气氛温度可保持稳定，但是对于突发 性的温度变化的控制响应性不尽人意。例如，在连续烧成炉的宽度方向排列多个处理对象物而传送的情 况下，当突发性地产生了某个处理对象物配置空缺时，炉内的气氛就 会局部性地变成过热状态。因此，在该局部就需要抑制加热器的发热 量，而如果根据设置在隔焰炉板表面或比隔焰炉板靠近加热器侧的热 电偶的检测温度来控制加热器，加热器的控制就会滞后而处理对象物 就会烧得过度。本专利技术的目的在于，提供一种在使气氛温度保持稳定，并且提高 了控制响应性的连续烧成炉。用于解决课题的手段本专利技术的连续烧成炉具有发热单元、隔焰炉板、限制单元、温度 检测单元和温度控制单元。发热单元设置在内设传送路线的炉内。隔 焰炉板设置在炉内的传送路线和发热单元之间。限制单元向炉内通入 炉外空气，限制沿着传送路线的传送方向的加热气体流动。温度检测 单元配置在炉内的比隔焰炉板更靠近传送路线侧。温度控制单元根据 温度检测单元的检测温度来控制发热单元。在该构成中，外气由限制单元通入到炉内，所以传送方向的加热 气体的流动得到抑制，炉内的气氛温度的波动降低。因而，即使为了提高控制响应性，由温度检测单元直接检测比隔焰炉板更靠近传送路 线侧的气氛温度来进行发热单元的控制，气氛温度也可保持稳定。也可以形成为沿着与传送路线的传送方向正交的方向排列多个 温度检测单元和多个发热单元，由温度控制单元根据特定的温度检测 单元的检测温度来控制发热单元。如此在传送路线的宽度方向配置多 个发热单元，根据特定的温度检测单元的检测温度分别对它们进行控 制，就可使炉内的与传送路线正交方向的各位置的气氛温度均匀化。限制单元优选的是借助设置在炉壁上的贯通孔向炉内通入外气的 单元。借助设置在炉壁上的贯通孔，可向炉内通入外气，限制炉内的 传送方向的加热气体的流动。也可以使传送路线包含排列在传送方向的滚柱炉膛而构成，在这 种情况下，贯通孔优选的是和设置在炉外的驱动机构连接的滚柱炉膛 的旋转轴的插通孔。专利技术的效果根据本专利技术，因为炉内的传送方向的加热气体的流动得到降低， 所以炉内的传送路线侧的气氛温度可保持稳定，通过直接检测该气氛 温度，能够提高控制响应性。因而，不需要在开始传送处理对象物之 前先传送多个假工件基板，能够有效地进行处理对象物的热处理。附图说明图1是表示本专利技术的实施方式所涉及的一例连续烧成炉的侧面剖 视图。图2是该炉的正面剖视图。图3是说明基板烧成实验例中的炉内温度变化的剖视图。标号说明11…炉壁12A 12C…热处理区13..，加热器15..*滚柱16"-隔焰炉板17..-绝热材19"-热电偶20"-贯通孔21"-控制器22..-配管100，，基板具体实施例方式下面，参照附图来说明连续烧成炉的构成例。图1是滚柱炉膛式连续烧成炉的侧面剖视图，图2是连续烧成炉的正面剖视图。连续烧成炉10内设有作为处理对象物的基板100的传送路线。沿 着传送路线的传送方向(图1中用箭头X表示的方向)，连续配置着 多个热处理区12A 12C。作为传送路线，沿着传送方向X等间隔地配 置着可自由旋转的多个滚柱15。基板100借助多个滚柱15的旋转，顺 次通过多个热处理区12A 12C而得到传送。基板100在各热处理区 12A 12C被连续传送或间歇传送。连续烧成炉10的炉壁11由上壁面IIA、底壁面IIB、和侧壁面 IIC、 IID构成。在炉壁11的上壁面IIA和下壁面IIB上，沿着传送 方向X排列着多个加热器13。加热器13是本专利技术的发热单元。各热 处理区12A 12C被加热器13加热到预先设定的预定的热处理温度。分别在上壁面IIA和下壁面IIB上的热处理区12A 12C的边界 处设置了绝热材17。绝热材17抑制各热处理区12A 12C的边界处的热传导。如图2所示，在被各炉壁11A 11D包围的空间内，还设有隔焰 炉板16A 16D。基板100在被隔焰炉板16A 16D包围的空间内传送。 隔焰炉板16A 16D在此用耐热玻璃板构成。而且，也可以不是耐热玻 璃板，而是用金属板构成。隔焰炉板16A 16D在防止从炉壁11的壁 面产生的尘埃附着在基板100上的同时，使来自加热器13的辐射热透 过，而有效地对基板100的气氛进行加热。如图1所示，加热器13沿着传送方向X排列了多个。而且如图2 所示，加热器13还沿着与传送方向X垂直的方向Y排列了多个。另外， 热电偶19也沿着传送方向X和垂直方向Y排列了多个。在本例中，沿 着垂直方向Y配置了 4个加热器13和3个热电偶19。热电偶19通过配管22和控制器21以配线连接。控制器21根据 由和各加热器13相对应的特定的热电偶19分别对各加热器13的发热 量检测出的隔焰炉内温度来控制各加热器13。另外，滚柱15沿着正交方向Y而延伸，并通过设置在侧壁面IIC、 IID和隔焰炉板16C、 16D上的贯通孔20将两端部退出到炉外。在此，将贯通孔20设置在侧壁面IIC、 IID和隔焰炉板16C、 16D 与滚柱15交叉的部分。因为如此设置了贯通孔20，所以如果在多个热处理区12A 12C 相互之间，即沿着传送方向X有加热气体的流动，则相应地在炉外与 炉内之间，就会通过贯通孔20排出加热气体，并吸入外气。因而，沿着传送方向X的加热气体的流动在各热处理区12A 12C 传送的情况得到抑制，各热处理区的气氛温度的波动得到抑制。从而，即使在被隔焰炉板16A 16D包围的空间内配置热电偶19，借助由控 制器21对加热器13的控制，也能够使隔焰炉内温度保持稳定。在此，表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种连续烧成炉，具有：发热单元，设置在内设传送路线的炉内；隔焰炉板，设置在所述炉内的所述传送路线和所述发热单元之间；限制单元，向所述炉内通入外气，限制沿着所述传送路线的传送方向的加热气体的流动；温度检测单元，配置在所述炉内的比所述隔焰 炉板更靠近传送路线侧；和　温度控制单元，根据所述温度检测单元的检测温度来控制所述发热单元。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：浦西芳和，
申请(专利权)人：光洋热系统株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]