【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及制作方法
本专利技术涉及微电子
，尤其涉及一种显示面板及制作方法。
技术介绍
随着显示技术的日益发展，各种新型技术不断涌现，透明显示技术因其透明的显示面板这一特性及其独特的应用，越来越受到人们的关注。AMOLED面板其自发光的特性使得在透明显示上拥有更多的可能性，但是由于AMOLED面板电路结构复杂，环境光线的反射势必造成透明的显示面板的对比度进一步下降，而通过在AMOLED封装基板上设置圆偏振片可以过滤环境反射光线，但目前圆偏振片光线透过率不超过50％，面板透明度大幅下降，在画素不显示的情况下无法达到高度透明的效果。如何在不牺牲面板透明度的情况下提高面板的显示效果，需要进一步解决。
技术实现思路
为此，需要提供一种显示面板及制作方法，解决显示面板透明度不足的问题。为实现上述目的，专利技术人提供了一种显示面板，包括如下步骤：制作显示面板的内部膜层；在内部膜层上制作凹凸结构，凹凸结构用于将入射到显示面板内的光线形成漫反射。进一步地，在制作显示面板的内部膜层...
【技术保护点】
1.一种显示面板制作方法，其特征在于，包括如下步骤：/n制作显示面板的内部膜层；/n在内部膜层上制作凹凸结构，凹凸结构用于将入射到显示面板内的光线形成漫反射。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示面板制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
制作显示面板的内部膜层；
在内部膜层上制作凹凸结构，凹凸结构用于将入射到显示面板内的光线形成漫反射。
2.根据权利要求1所述的一种显示面板制作方法，其特征在于，在制作显示面板的内部膜层时，还包括如下步骤：
制作内部膜层中的第一绝缘层，在第一绝缘层表面制作凹凸结构；或者：
制作内部膜层中的第一金属层，在第一金属层表面制作凹凸结构；或者：
制作内部膜层中的第二绝缘层，在第二绝缘层表面制作凹凸结构；或者：
制作内部膜层中的第二金属层，在第二金属层表面制作凹凸结构；或者：
制作内部膜层中的像素定义层，在像素定义层表面制作凹凸结构；或者：
制作内部膜层中的阴极，在阴极表面制作凹凸结构。
3.根据权利要求2所述的一种显示面板制作方法，其特征在于，凹凸结构的制作包括如下步骤：
在内部膜层上涂布光阻，使用具有半透光区的掩膜板对光阻进行图形化，掩膜板还具有透光区或者遮光区；
图形化后，半透光区对应内部膜层上凹凸结构的凹陷区域；
以光阻为掩膜蚀刻半透光区的内部膜层得到凹凸结构。
4.根据权利要求3所述的一种显示面板制作方法，其特征在于，还包括如下步骤：...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈宇怀，黄志杰，苏智昱，
申请(专利权)人：福建华佳彩有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35
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