一种高精度全自动双面曝光机制造技术

本实用新型专利技术涉及一种高精度全自动双面曝光机，其包括机架，用于支撑安装曝光机中的各个模块和系统；上框系统，位于机架内部，包括为产品上表面曝光提供图案的上掩膜板；对准系统，包括为产品下表面曝光提供图案的下掩膜板，对准系统用于实现上掩膜版和下掩膜版的精确对准，对准系统设于上框系统的下方；进出料系统，包括进料系统和出料系统，用于对产品的自动进料和自动出料；机械手系统；视觉系统；曝光模块；恒温恒湿模块；控制系统。本实用新型专利技术通过对准系统和视觉系统实现双面曝光机上下掩膜版的对准，能够防止曝光时图案错位，提高曝光质量，通过对准单元能够完成多方向和角度的调整，对准精度高。

A high precision automatic double side exposure machine

【技术实现步骤摘要】
一种高精度全自动双面曝光机
本技术属于曝光机
，尤其涉及一种高精度全自动双面曝光机。
技术介绍
紫外线曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备，曝光机具有单面曝光机和双面曝光机。中国专利CN106547174B公开了一种全自动双面曝光机包括机台，于同一轴线上依次设置入料区、第一面曝光区、转移翻板区、第二面曝光区以及出料区；其设有进料转移机构，第一曝光机构，转移翻板机构，跨设于转移翻板区域第一面曝光区上方，并将完成第一面曝光的板件由第一面曝光区移载至转移翻板区，并将完成第一面曝光的板件由第一面翻转至第二面，出料转移机构，第二曝光机构，通过将第一面曝光区和第二面曝光区横向设置，可以有效的减少双面自动曝光机的长度，且可以通过横向移动第一曝光平台或第二曝光平台实现曝光的操作。中国专利CN108255029A公开了一种双面曝光机及其曝光方法，包括第一曝光机构、第二曝光机构和翻转机构，所述第一曝光机构包括第一曝光装置和滑动设置于第一曝光装置下方的第一曝光平台，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高精度全自动双面曝光机，其特征在于：其包括/n机架，用于支撑安装曝光机中的各个模块和系统；/n上框系统，位于机架内部，包括为产品上表面曝光提供图案的上掩膜板；/n对准系统，包括为产品下表面曝光提供图案的下掩膜板，对准系统用于实现上掩膜版和下掩膜版的精确对准，对准系统设于上框系统的下方；/n进出料系统，包括进料系统和出料系统，用于对产品的自动进料和自动出料；/n机械手系统，设于进出料系统上方，用于将待曝光的产品从进料系统中搬运到对准系统上，将曝光完成的产品从对准系统搬运到出料系统中；/n视觉系统，位于对准系统下方，为对准系统提供对准所需的位移量；/n曝光模块，包括上曝光模块和下曝光模块，...

【技术特征摘要】
1.一种高精度全自动双面曝光机，其特征在于：其包括
机架，用于支撑安装曝光机中的各个模块和系统；
上框系统，位于机架内部，包括为产品上表面曝光提供图案的上掩膜板；
对准系统，包括为产品下表面曝光提供图案的下掩膜板，对准系统用于实现上掩膜版和下掩膜版的精确对准，对准系统设于上框系统的下方；
进出料系统，包括进料系统和出料系统，用于对产品的自动进料和自动出料；
机械手系统，设于进出料系统上方，用于将待曝光的产品从进料系统中搬运到对准系统上，将曝光完成的产品从对准系统搬运到出料系统中；
视觉系统，位于对准系统下方，为对准系统提供对准所需的位移量；
曝光模块，包括上曝光模块和下曝光模块，上曝光模块安装在上框系统的上方，为产品上表面曝光提供光源，下曝光模块设于对准系统下方，为产品下表面曝光提供光源；
恒温恒湿模块，安装在机架上，用于控制曝光机内的温度和湿度；
控制系统，用于控制上框系统、对准系统、进出料系统、机械手系统、视觉系统、曝光模块和恒温恒湿模块的协调运行。


2.根据权利要求1所述的高精度全自动双面曝光机，其特征在于：所述的进料系统和出料系统分别包括第一支架、无杆气缸、滑台、滑轨、光电传感器、升降气缸和平台机构，所述的第一支架固定在机架上，滑轨安装在第一支架的两侧，无杆气缸安装在第一支架上，所述的滑台的两侧与滑轨滑动连接，滑台与无杆气缸传动连接；所述的升降气缸固定在第一支架上，光电传感器设于升降气缸一侧；所述的平台机构包括送料平台、步进电机、丝杆、直线光轴、缓冲支角和缓冲支角安装座；所述的送料平台底部设有连接轴，滑台顶部设有轴承，送料平台通过连接轴安装在轴承内，且与升降气缸连接；所述的步进电机、丝杆和直线光轴安装在送料平台的底部，步进电机与丝杆传动连接，直线光轴位于丝杆的两侧，缓冲支角安装座套设在直线光轴上且与丝杆连接，所述的缓冲支角穿过送料平台固定在缓冲支角安装座的两端。


3.根据权利要求1所述的高精度全自动双面曝光机，其特征在于：所述的机械手系统包括X轴搬运机构和两个搬运吸盘机构；所述的搬运吸盘机构安装在X轴搬运机构上；所述的X轴搬运机构包括X轴支架、两个直线电机定子、两个直线电机动子和X轴直线导轨，所述的X轴支架固定在机架上，X轴直线导轨安装在X轴支架上方，直线电机定子安装在X轴支架侧部，直线电机动子安装在直线电机定子上；所述的吸盘机构包括吸盘安装架、移动座、真空发生器、真空电磁阀和吸盘；所述的移动座与直线电机动子连接且与X轴直线导轨滑动连接；吸盘安装架固定在移动座上，吸盘固定在吸盘安装架底部，真空发生器通过真空电磁阀与吸盘连接。


4.根据权利要求1所述的高精度全自动双面曝光机，其特征在于：所述的上框系统包括第二支架、外框、内框、上框气缸、钢板压条、弹簧钢板、上掩膜版和上掩膜版压板；所述的第二支架位于外框的两侧且固定在机架上，上框气缸固定在第二支架上，上框气缸的缸杆与外框连接，内框设于外框内，内框的四周通过四片两两对称的弹簧钢板与外框连接，并通过钢板压条固定；所述的上掩膜版通过上掩膜版压板固定在内框的内部，外框的两侧通过转轴组件与第二支架连接。


5.根据权利要求1所述的高精度全自动双面曝光机，其特征在于：所述的对准系统包括下框组件、若干气浮垫、若干对准单元、底座和Z转轴机构，所述的下框组件通过气浮垫和对准单元安装在底座上，Z轴机构位于底座的两侧；所述下框组件包括工作面板、D型硅胶条和下掩膜版；所述的工作面板为中空结构，下掩膜版安装在工作面板的内部，D型硅胶条安装在下掩膜版外围的工作面板上，所述的气浮垫和对准单元设于工作面板的底部，下掩膜版的四周设有抽真空口；
所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李明之，朱伟杰，李壮，
申请(专利权)人：爱司凯科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44