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本实用新型涉及一种高精度全自动双面曝光机，其包括机架，用于支撑安装曝光机中的各个模块和系统；上框系统，位于机架内部，包括为产品上表面曝光提供图案的上掩膜板；对准系统，包括为产品下表面曝光提供图案的下掩膜板，对准系统用于实现上掩膜版和下掩膜版...
该专利属于爱司凯科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过爱司凯科技股份有限公司授权不得商用。

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