用于高温超导体装置的低温冷却的方法和设备制造方法及图纸

一种用于为ＨＴＳ装置（２４）、特别是用于高电压电力用途的ＨＴＳ装置提供低温冷却的方法和设备。该方法包括将液体制冷剂（４６、４８）加压至高于一个大气压，从而改进其介电强度，同时将液体制冷剂过冷却至低于其饱和温度，从而改进装置ＨＴＳ元件（２４）的性能。使用这种冷却方法的设备（１０）由以下各部分组成：包括加压气态制冷剂区（４４）和过冷液态制冷剂浴的容器；与气态制冷剂排气装置（３０）连结的液体制冷剂加热装置（５２），这些连结的装置用来将制冷剂的压力保持在使液体制冷剂具有最佳介电强度的范围；并用来将液体制冷剂（４６、４８）的温度保持在其沸点以下，以便改进装置（１０）中所用的ＨＴＳ材料（２４）的性能。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】优先权要求本申请要求此前2003年6月19日在美国提交的国际申请第10/465,089号的优先权。背景本专利技术一般地涉及用于高温超导体(HTS)设备的低温冷却系统，更具体地涉及用于具有高电压电力用途的HTS装置的低温冷却系统。有一种使用液氮的性质进行低温冷却的HTS冷却系统。通常液氮的使用压力为1个大气压(0.1兆帕)，在此压力下，其工作温度(沸点)为77K。然而。由于HTS材料的临界电流密度在低于77K的温度下会显著提高，已经开发出了方法，通过控制液氮的操作环境来降低其温度。附图说明图1是典型物质的p(压力)-T(温度)图，图中显示了该物质p，T的关系和三相(固相、液相和蒸气/气相)。对于氮，“三相点”约为12.53千帕、63.15K。这说明降低液氮的压力，其沸点可降低至大约63K，低于该温度时会形成固态氮。在美国专利第5,477,693中提供了一个使用液氮的这种性质达到更低操作温度的例子。该专利描述了一种方法，在此方法中用真空泵对包含液态氮和气态氮的制冷密封容器(低温恒温器)中的气态氮区域进行抽气。抽气减小了液氮浴的压力，从而将其温度(沸点)降至77K以下。这样，超导体的性能，即本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于使低温冷却系统（１０）达到并保持低温冷却的方法，所述低温冷却系统（１０）具有制冷剂密封容器（１８），该容器中装有处于液态的制冷剂（４６、４８）和气态的制冷剂（４４），并具有至少一个超导体（２４），该方法包括以下步骤：在制冷剂密封容器（１８）中保持加压制冷剂区域（４４）；以及用过冷装置（２０）将一部分液体制冷剂（４８）的温度保持在等于或低于其沸点的温度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁兴，进三根，
申请(专利权)人：美国超能公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]