掩膜组件制造技术

本实用新型专利技术涉及一种掩膜组件，所述掩膜组件包括框架、支撑组件、掩膜板以及至少一条限位条，所述框架上设置有开窗口，所述支撑组件横跨所述开窗口固定于所述框架，并构成一支撑面，每条所述限位条设置于所述框架设有所述支撑组件的一侧，且构成一与所述支撑面平行的阻挡面；所述掩膜板设置于所述框架上并限位于所述支撑面与所述阻挡面之间。上述掩膜组件中，掩膜板限位于支撑组件与限位条形成的支撑面与阻挡面之间，以沿垂直掩膜板所在平面的方向对掩膜板进行限位，防止掩膜板在使用过程中受到外力作用后波动，进而防止掩膜板变形导致像素开口的形状、位置改变，保证掩膜板的像素位置精度。

mask assembly

【技术实现步骤摘要】
掩膜组件
本技术涉及显示面板制作
，特别是涉及掩膜组件。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)又称为有机电激光显示或有机发光半导体。OLED具有驱动电压低、主动发光、视角宽、效率高、响应速度快、易实现全彩色大面积壁挂式显示和柔性显示的许多特点而逐渐取代液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)显示。在OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)制造技术中，真空蒸镀使用的掩膜板是十分重要的部件，最终掩膜板上蒸镀单元(Cell)的PPA(PixelPositionAccuracy，像素位置精度/像素准确度)对产品的良率有着重要影响。一般地，在蒸镀的过程中，掩膜板可能会受到外力作用发生波动，导致蒸镀单元的PPA较低，严重影响掩膜板的使用效果。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种提高像素位置精度的掩膜组件。一种掩膜组件，包括框架、支撑组件、掩膜板以及至少一条限位条，所述框架上设置有开窗口，所述支撑组件横跨所述开窗口固定于所述框架，并构成一支撑面，每条所述限位条设置于所述框架设有所述支撑组件的一侧，且构成一与所述支撑面平行的阻挡面；所述掩膜板设置于所述框架上并限位于所述支撑面与所述阻挡面之间。上述掩膜组件中，掩膜板限位于支撑组件与限位条形成的支撑面与阻挡面之间，以沿垂直掩膜板所在平面的方向对掩膜板进行限位，防止掩膜板在使用过程中受到外力作用后波动，进而防止掩膜板变形导致像素开口的形状、位置改变，保证掩膜板的像素位置精度。在其中一个实施例中，所述掩膜板包括面向基板的玻璃面，所述限位条阻挡于所述玻璃面，且所述限位条背向所述掩膜板的表面低于所述玻璃面、或与所述玻璃面齐平。在其中一个实施例中，所述掩膜板的所述玻璃面上开设有至少一个凹槽，所述限位条嵌设于所述凹槽内。在其中一个实施例中，所述凹槽的深度小于所述掩膜板的厚度。在其中一个实施例中，所述支撑组件包括相交设置的横条和纵条，所述限位条叠设于所述横向条和/或所述纵条上。在其中一个实施例中，所述掩膜板包括至少一个子掩膜板，每个所述子掩膜板上沿第一方向间隔分布有多个蒸镀区域，且每个所述子掩膜板上所述蒸镀区域之外为遮挡区域；所述限位条阻挡于所述遮挡区域的一侧。在其中一个实施例中，所述遮挡区域包括第一遮挡区域和第二遮挡区域，所述第一遮挡区域位于沿所述第一方向相邻设置的两个所述蒸镀区域之间，所述第二遮挡区域沿与所述第一方向垂直的第二方向位包围于所述蒸镀区域的外周；所述限位条阻挡于所述第一遮挡区域和/或所述第二遮挡区域的一侧。在其中一个实施例中，所述限位条和所述支撑组件中至少一者受控产生吸附所述掩膜板的吸附力。在其中一个实施例中，所述限位条为能够对所述掩膜板产生吸附力的磁性件。在其中一个实施例中，所述限位条的抗形变性能优于所述掩膜板的抗形变性能。附图说明图1为本技术一实施例中掩膜组件的结构示意图；图2为图1所示掩膜组件中框架的结构示意图；图3为图1所示掩膜组件中框架和支撑组件的结构示意图；图4为图1所示掩膜组件中子掩膜板的结构示意图；图5为图1所示掩膜组件中掩膜板的截面示意图；图6为图1所示掩膜组件中限位条与掩膜板装配后的截面示意图。具体实施方式为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的较佳实施例。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本技术的公开内容的理解更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。正如
技术介绍
所述，掩膜板通常用于通过蒸镀方式将有机材料按照预定程序蒸镀到基板上的情形，具体利用掩膜板上的像素开口，蒸镀有机物到基板的规定位置。所以，掩膜板上的像素开口尤为重要，若像素开口发生较大变化，像素位置精度降低，则无法生产出合格的产品。专利技术人研究发现，掩膜板像素位置精度降低的根本原因在于：在蒸镀过程中，掩膜板需要与基板紧密贴合，才能避免掩膜板与基板之间形成缝隙，防止有机材料蒸镀到掩膜板与基板之间的缝隙中，保证蒸镀精度。并且，在蒸镀完毕后，通过移动基板，使基板与掩膜板分离，但在分离过程中因为基板与掩膜板紧密贴合，基板会拉扯掩膜板，使掩膜板产生波动，进而可能会使掩膜板上的像素开口形状及位置发生改变，造成像素位置精度降低的问题。此外，在蒸镀工艺结束后，需要对使用过的掩膜板进行清洗，清洗的气流会吹向掩膜板，掩膜板受到气流冲击后也会波动，进而可能也会导致掩膜板上的像素开口形状及位置发生偏移，造成像素位置精度降低的问题。为了解决上述技术问题，本申请提供一种掩膜组件100。如图1-3所示，掩膜组件100包括框架10、支撑组件30以及掩膜板50。框架10大体为矩形框体结构，其中部设有开窗口11。支撑组件30横跨开窗口11固定于框架10上，并将开窗口11分隔形成多个子开口110。掩膜板50固定于框架10，并支撑于支撑组件30上。如图2所示，具体地，框架10具有纵边12和与纵边12连接的横边14。本实施方式的框架10为一体式成型。当然，框架10不限于此，纵边12和横边14亦可焊接成一体。如图3所示，支撑组件30包括若干条间隔平行排布的横条32及若干条间隔平行排布的纵条34。每条横条32的两端均固定于框架10的纵边12上，且每条纵条34的两端均固定于框架10的横边14上，若干横条32和若干纵条34相交形成网状结构，且两者共同围成若干个子开口110。此外，若干条横条32与若干条纵条34亦共同界定形成支撑于掩膜板50一侧的支撑面。可以理解为，支撑组件30设置于框架10的一侧，并界定形成一支撑面。如图1所示，掩膜板50包括至少一个子掩膜板52，每一个子掩膜板52上开设有沿相同的方向间隔并行排布多个像素开口，且每一个像素开口与每个子开口110对应连通。在蒸镀过程中，框架10水平放置，并使框架10上的掩膜板50与基板贴合，同时蒸镀源位于框架10下方，蒸镀源加热产生的气态材料便会向上流动至每个子开口110处，并进入与子开口110连通的像素开口，最终按照像素开口的形状沉积在基板上，得到显示装置内部的层结构。掩膜组件100还包括至少一条限位条70，每条限位条70设置于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件包括框架、支撑组件、掩膜板以及至少一条限位条，所述框架上设置有开窗口，所述支撑组件横跨所述开窗口固定于所述框架，并构成一支撑面，每条所述限位条设置于所述框架设有所述支撑组件的一侧，且构成一与所述支撑面平行的阻挡面；所述掩膜板设置于所述框架上并限位于所述支撑面与所述阻挡面之间。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜组件，其特征在于，所述掩膜组件包括框架、支撑组件、掩膜板以及至少一条限位条，所述框架上设置有开窗口，所述支撑组件横跨所述开窗口固定于所述框架，并构成一支撑面，每条所述限位条设置于所述框架设有所述支撑组件的一侧，且构成一与所述支撑面平行的阻挡面；所述掩膜板设置于所述框架上并限位于所述支撑面与所述阻挡面之间。


2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜板包括面向基板的玻璃面，所述限位条阻挡于所述玻璃面，且所述限位条背向所述掩膜板的表面低于所述玻璃面、或与所述玻璃面齐平。


3.根据权利要求2所述的掩膜组件，其特征在于，所述掩膜板的所述玻璃面上开设有至少一个凹槽，所述限位条嵌设于所述凹槽内。


4.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述凹槽的深度小于所述掩膜板的厚度。


5.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述支撑组件包括相交设置的横条和纵条，所述限位条叠设于所述横条和/或所述纵条上。


6....

【专利技术属性】
技术研发人员：王永来，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：新型
国别省市：河北;13