一种真空分子镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空分子镀膜设备，包括底座，所述底座的顶部中心处焊接固定有定位座，所述定位座的顶部中心处通过螺栓固定有坩埚，所述坩埚的外侧包裹有电热器，所述定位座的顶部四个拐角位置处通过支撑柱固定有水平驱动组件，所述水平驱动组件的底部通过螺栓固定有置物架，所述底座的顶部四周通过螺栓固定有支架，所述支架的顶部中心处通过螺栓固定有伸缩气缸，所述伸缩气缸的伸缩端固定在真空罩顶部中心处的安装座上，所述水平驱动组件包括框架、滑轨、往复丝杆、往复滑块、伺服电机和安装架。本实用新型专利技术结构新颖，构思巧妙，达到对基片表面呈均匀镀膜，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率。

A vacuum molecular coating equipment

【技术实现步骤摘要】
一种真空分子镀膜设备
本技术涉及真空镀膜设备
，具体为一种真空分子镀膜设备。
技术介绍
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。现有的真空镀膜方式有两种：一是蒸发镀膜，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜；二是溅射类镀膜，溅射类镀膜是利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。在上述两种方法中，在镀膜的过程中都是将基片固定，这样造成基片表面四周镀膜不均匀，影响了镀膜层的效果。因此，设计一种真空分子镀膜设备是很有必要的。
技术实现思路
针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本技术提供一种真空分子镀膜设备，该设备结构新颖，构思巧妙，达到对基片表面呈均匀镀膜，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种真空分子镀膜设备，包括底座，所述底座的顶部中心处焊接固定有定位座，所述定位座的顶部中心处通过螺栓固定有坩埚，所述坩埚的外侧包裹有电热器，所述定位座的顶部四个拐角位置处通过支撑柱固定有水平驱动组件，所述水平驱动组件的底部通过螺栓固定有置物架，所述底座的顶部四周通过螺栓固定有支架，所述支架的顶部中心处通过螺栓固定有伸缩气缸，所述伸缩气缸的伸缩端固定在真空罩顶部中心处的安装座上；所述水平驱动组件包括框架、滑轨、往复丝杆、往复滑块、伺服电机和安装架，所述支撑柱的顶部通过螺栓固定有框架，所述框架的顶部对应两侧通过螺栓固定有滑轨，所述滑轨的内部转动连接有往复丝杆，所述滑轨的一侧固定有与往复丝杆连接的伺服电机，所述往复丝杆上啮合连接有滑动在滑轨上的往复滑块，且相邻两个往复滑块上通过螺栓固定有安装架，所述安装架的底部通过螺栓固定有置物架。优选的，所述置物架包括架体、连接柱和定位扣，所述架体的对应两侧通过连接柱与安装架连接，所述架体的顶部四周通过螺栓固定有定位扣。优选的，所述真空罩的一侧开设有吸气孔，所述支架的顶部一侧通过螺栓固定有抽风机，所述抽风机的抽风口通过抽风管与吸气孔连接，所述抽风管上安装有电磁阀。优选的，所述真空罩安装在定位座的正上方，所述定位座的四周粘接固定有密封圈。优选的，所述底座的底部通过焊接固定有设备架，所述设备架的底部四个拐角位置处通过螺栓固定有万向自锁轮。本技术的有益效果为：1、将基片固定在置物架上，通过电热器对坩埚内的靶材进行加热，使靶材表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面形成薄膜，在镀膜的过程中伺服电机工作，带动往复丝杆旋转，从而带动往复滑块在滑轨的内部做往复运动，进而带动置物架上的基片做左右往复运动，以达到对基片表面呈均匀镀膜，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率；2、将基片放置在架体上，并通过定位扣进行固定，不仅有效的保证了基片固定的稳定性，而且基片安装和拆卸方便，有效的提升了使用的方便性。附图说明附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：图1是本技术整体平面结构示意图；图2是本技术水平驱动组件俯视结构示意图；图3是本技术置物架俯视结构示意图；图中标号：1、底座；2、设备架；3、万向自锁轮；4、密封圈；5、定位座；6、电热器；7、支撑柱；8、坩埚；9、置物架；10、吸气孔；11、抽风管；12、电磁阀；13、抽风机；14、伸缩气缸；15、安装座；16、真空罩；17、水平驱动组件；18、支架；19、框架；20、滑轨；21、往复丝杆；22、往复滑块；23、伺服电机；24、安装架；25、架体；26、连接柱；27、定位扣。具体实施方式下面结合附图1-3对本技术的具体实施方式做进一步详细说明。由图1-3给出，本技术提供如下技术方案：一种真空分子镀膜设备，包括底座1，底座1的顶部中心处焊接固定有定位座5，定位座5的顶部中心处通过螺栓固定有坩埚8，坩埚8的外侧包裹有电热器6，定位座5的顶部四个拐角位置处通过支撑柱7固定有水平驱动组件17，水平驱动组件17的底部通过螺栓固定有置物架9，底座1的顶部四周通过螺栓固定有支架18，支架18的顶部中心处通过螺栓固定有伸缩气缸14，伸缩气缸14的伸缩端固定在真空罩16顶部中心处的安装座15上；水平驱动组件17包括框架19、滑轨20、往复丝杆21、往复滑块22、伺服电机23和安装架24，支撑柱7的顶部通过螺栓固定有框架19，框架19的顶部对应两侧通过螺栓固定有滑轨20，滑轨20的内部转动连接有往复丝杆21，滑轨20的一侧固定有与往复丝杆21连接的伺服电机23，往复丝杆21上啮合连接有滑动在滑轨20上的往复滑块22，且相邻两个往复滑块22上通过螺栓固定有安装架24，安装架24的底部通过螺栓固定有置物架9，将基片固定在置物架9上，通过电热器6对坩埚8内的靶材进行加热，使靶材表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面形成薄膜，在镀膜的过程中伺服电机23工作，带动往复丝杆21旋转，从而带动往复滑块22在滑轨20的内部做往复运动，进而带动置物架9上的基片做左右往复运动，以达到对基片表面呈均匀镀膜，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率。置物架9包括架体25、连接柱26和定位扣27，架体25的对应两侧通过连接柱26与安装架24连接，架体25的顶部四周通过螺栓固定有定位扣27，将基片放置在架体25上，并通过定位扣27进行固定，不仅有效的保证了基片固定的稳定性，而且基片安装和拆卸方便，有效的提升了使用的方便性。真空罩16的一侧开设有吸气孔10，支架18的顶部一侧通过螺栓固定有抽风机13，抽风机13的抽风口通过抽风管11与吸气孔10连接，抽风管11上安装有电磁阀12，通过伸缩气缸14工作，带动真空罩16向下运动，使真空罩16罩接在定位座5的正上方，通过抽风机13工作，便于形成一个真空环境，避免了气体对镀膜过程产生影响。真空罩16安装在定位座5的正上方，定位座5的四周粘接固定有密封圈4，使其具有良好的密封性。底座1的底部通过焊接固定有设备架2，设备架2的底部四个拐角位置处通过螺栓固定有万向自锁轮3，便于设备的移动。本技术使用时，将基片固定在置物架9上，通过电热器6对坩埚8内的靶材进行加热，使靶材表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面形成薄膜，在镀膜的过程中伺服电机23工作，带动往复丝杆21旋转，从而带动往复滑块22在滑轨20的内部做往复运动，进而带动置物架9上的基片做左右往复运动，以达到对基片表面呈均匀镀膜，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率；将基片放置在架体25上，并通过定位扣27进行固定，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空分子镀膜设备，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的顶部中心处焊接固定有定位座（5），所述定位座（5）的顶部中心处通过螺栓固定有坩埚（8），所述坩埚（8）的外侧包裹有电热器（6），所述定位座（5）的顶部四个拐角位置处通过支撑柱（7）固定有水平驱动组件（17），所述水平驱动组件（17）的底部通过螺栓固定有置物架（9），所述底座（1）的顶部四周通过螺栓固定有支架（18），所述支架（18）的顶部中心处通过螺栓固定有伸缩气缸（14），所述伸缩气缸（14）的伸缩端固定在真空罩（16）顶部中心处的安装座（15）上；/n所述水平驱动组件（17）包括框架（19）、滑轨（20）、往复丝杆（21）、往复滑块（22）、伺服电机（23）和安装架（24），所述支撑柱（7）的顶部通过螺栓固定有框架（19），所述框架（19）的顶部对应两侧通过螺栓固定有滑轨（20），所述滑轨（20）的内部转动连接有往复丝杆（21），所述滑轨（20）的一侧固定有与往复丝杆（21）连接的伺服电机（23），所述往复丝杆（21）上啮合连接有滑动在滑轨（20）上的往复滑块（22），且相邻两个往复滑块（22）上通过螺栓固定有安装架（24），所述安装架（24）的底部通过螺栓固定有置物架（9）。/n...

【技术特征摘要】
1.一种真空分子镀膜设备，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的顶部中心处焊接固定有定位座（5），所述定位座（5）的顶部中心处通过螺栓固定有坩埚（8），所述坩埚（8）的外侧包裹有电热器（6），所述定位座（5）的顶部四个拐角位置处通过支撑柱（7）固定有水平驱动组件（17），所述水平驱动组件（17）的底部通过螺栓固定有置物架（9），所述底座（1）的顶部四周通过螺栓固定有支架（18），所述支架（18）的顶部中心处通过螺栓固定有伸缩气缸（14），所述伸缩气缸（14）的伸缩端固定在真空罩（16）顶部中心处的安装座（15）上；
所述水平驱动组件（17）包括框架（19）、滑轨（20）、往复丝杆（21）、往复滑块（22）、伺服电机（23）和安装架（24），所述支撑柱（7）的顶部通过螺栓固定有框架（19），所述框架（19）的顶部对应两侧通过螺栓固定有滑轨（20），所述滑轨（20）的内部转动连接有往复丝杆（21），所述滑轨（20）的一侧固定有与往复丝杆（21）连接的伺服电机（23），所述往复丝杆（21）上啮合连接有滑动在滑轨（20）上的往复滑块（22），且相邻两个往复滑块（22）上通过螺栓固定有...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩冀皖，杨鎏佺，张国森，张永良，
申请(专利权)人：福建英创金属分子工程科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35