为了解决现有的磁铁外表吸附的磁铁碎末或者镀膜过程中吸附的粉尘或者磁铁的消磁现象，本实用新型专利技术提出一种固定镀膜基片的磁铁装置，通过在磁铁上加一个磁铁保护套，有效的缓解磁铁在相互吸附过程中的碰撞，将磁铁取出后只需对磁铁保护套进行清洗，清洁非常方便。一种固定镀膜基片的磁铁装置，其包括：磁铁11和磁铁保护套12，其特征在于：在磁铁11外面套一个磁铁保护套12，磁铁11为扁平圆柱体，磁铁11的材料为圆形镀镍磁铁，磁铁保护套12的材料为铁，磁铁保护套12为凹状中空圆柱状，底部开口处为卷边设计，便于套住磁铁11。
A magnet device for fixing coated substrate
【技术实现步骤摘要】
一种固定镀膜基片的磁铁装置
本技术涉及真空镀膜机
，较为具体的，涉及到一种固定镀膜基片的磁铁装置。
技术介绍
真空镀膜是将真空室内材料的原子阴极被激发的电子在电场作用下加速飞向衬底基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和二次电子，二次电子飞向衬底基片，氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在衬底上形成薄膜，二次电子在加速飞向衬底的过程中受到磁场罗仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面做圆周运动，该电子的运动路劲很长，在运动过程中不断地与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材，经过多次碰撞后二次电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材最终沉积在衬底上。目前，基片都是通过磁铁固定在伞具的伞叶的表面，通过伞叶固定在伞架上，使得伞架沿着中心轴旋转进行镀膜，然而磁铁在使用过程中，掉落的磁铁碎末会吸附在磁铁表面，清理过程比较麻烦；磁铁在固定镀膜材料过程中，会随产品镀上各种颜色，长时间后镀膜层会慢慢像粉尘一样掉落，导致磁铁表面的镀膜粉尘无法清理干净。对于不用的磁铁，存放时，磁铁由于本身硬度太高，在相互吸附过程中会有碰伤，导致磁铁损失比较大，一般3个月就要补充磁铁。
技术实现思路
有鉴于此，为了解决现有的磁铁外表吸附的磁铁碎末或者镀膜过程中吸附的粉尘或者磁铁的消磁现象，本技术提出一种固定镀膜基片的磁铁装置，通过在磁铁上加一个磁铁保护套，有效的缓解磁铁在相互吸附过程中的碰撞，将磁铁取出后只需对磁铁保护套进行清洗，清洁非常方便。一种固定镀膜基片的磁铁装置，其包括：磁铁11和磁铁保护套12，其特征在于：在磁铁11外面套一个磁铁保护套12，磁铁11为扁平圆柱体，磁铁11的材料为圆形镀镍磁铁，磁铁保护套12的材料为铁，磁铁保护套12为凹状中空圆柱状，底部开口处为卷边设计，便于套住磁铁11。进一步的，磁铁11的底部和顶部的直径为8-12mm，磁铁11的厚度为4-6mm，较为优选的，磁铁11的底部和顶部的直径为10mm,磁铁11的厚度为5mm。进一步的，磁铁保护套12的直径为9-13mm，高度为4-6mm，较为优选的，磁铁保护套12的直径为11mm,高度为5mm。进一步的，磁铁11的材料为圆形镀镍磁铁，由于镍的抛光性能优越，耐高温耐腐蚀。进一步的，磁铁保护套12的材料为铁，既方便清洗又可以使磁铁保护套12被磁铁11吸附住减少长期使用后磁铁保护套12变形不容易脱落。进一步的，磁铁保护套12为凹状中空圆柱状，底部开口处为卷边设计，便于套住磁铁11。进一步的，磁铁装置1固定镀膜基片2的时，若镀膜基片2厚度小于等于1mm的直接用磁铁装置1固定镀膜基片2的四个角；若镀膜基片2厚度大于1mm的时候需要先使用胶带固定镀膜基片2的四个角后将磁铁装置1固定在胶带两端进一步的固定镀膜基片2。进一步的，磁铁装置1存放为一颗颗的相互排列吸附存放于存放器材内。由此可见，采用本技术的固定镀膜基片的磁铁装置1，通过磁铁11上面套一个磁铁保护套12，可以有效缓解磁铁11在相互吸附过程中会有碰伤，是磁铁11的使用寿命可以延长至1年左右；异物吸附在磁铁保护套12表面，将磁铁11取下后对磁铁保护套12进行表面清洗，清洗非常方便；磁铁保护套12价格便宜，可以循环使用，有效节约易耗品的使用成本。附图说明图1为本技术的固定镀膜基片的磁铁装置的结构示意图。图2为本技术的基片固定方式结构示意图。图3为本技术的基片固定方式结构示意图。主要元件符号说明磁铁装置1磁铁11磁铁保护套12镀膜基片2如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本技术。具体实施方式图1为本技术的固定镀膜基片的磁铁装置的结构示意图；图2为本技术的基片固定方式结构示意图；图3为本技术的基片固定方式结构示意图。一种固定镀膜基片的磁铁装置，其包括：磁铁11和磁铁保护套12，其特征在于：在磁铁11外面套一个磁铁保护套12，磁铁11为扁平圆柱体，磁铁11的材料为圆形镀镍磁铁，磁铁保护套12的材料为铁，磁铁保护套12为凹状中空圆柱状，底部开口处为卷边设计，便于套住磁铁11。所述磁铁11的底部和顶部的直径为8-12mm，磁铁11的厚度为4-6mm，较为优选的，磁铁11的底部和顶部的直径为10mm,磁铁11的厚度为5mm。所述磁铁保护套12的直径为9-13mm，高度为4-6mm，较为优选的，磁铁保护套12的直径为11mm,高度为5mm。所述磁铁装置1固定镀膜基片2的时，若镀膜基片2厚度小于等于1mm的直接用磁铁装置1固定镀膜基片2的四个角；若镀膜基片2厚度大于1mm的时候需要先使用胶带固定镀膜基片2的四个角后将磁铁装置1固定在胶带两端进一步的固定镀膜基片2。所述磁铁装置1存放为一颗颗的相互排列吸附存放于存放器材内。以上所述实施例仅表达了本技术的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本技术专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围。因此，本技术专利的保护范围应以所附权利要求为准。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种固定镀膜基片的磁铁装置，其包括：磁铁(11)和磁铁保护套(12)，其特征在于：在磁铁(11)外面套一个磁铁保护套(12)，磁铁(11)为扁平圆柱体，磁铁(11)的材料为圆形镀镍磁铁，磁铁保护套(12)的材料为铁，磁铁保护套(12)为凹状中空圆柱状，底部开口处为卷边设计，便于套住磁铁(11)。/n
【技术特征摘要】
1.一种固定镀膜基片的磁铁装置，其包括：磁铁(11)和磁铁保护套(12)，其特征在于：在磁铁(11)外面套一个磁铁保护套(12)，磁铁(11)为扁平圆柱体，磁铁(11)的材料为圆形镀镍磁铁，磁铁保护套(12)的材料为铁，磁铁保护套(12)为凹状中空圆柱状，底部开口处为卷边设计，便于套住磁铁(11)。
2.如权利要求1所述的固定镀膜基片的磁铁装置，其特征在于：磁铁(11)的底部和顶部的直径为8-12mm，磁铁(11)的厚度为4-6mm。
3.如权利要求1所述的固定镀膜基片的磁铁装置，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：袁小夫，舒本剑，
申请(专利权)人：安徽安合鑫光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
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