一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具制造技术

技术编号:28288490 阅读:16 留言:0更新日期:2021-04-30 16:06
本发明专利技术一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具,通过在镀膜伞叶上开设有一个与镀膜治具外形大小1:1的通孔,通过卡簧使得镀膜治具与镀膜伞叶卡接后进行镀膜,镀膜治具按照镀膜基片外形的大小进行开槽,镀膜基片包括VA区和BM区,在镀膜时将镀膜基片的BM区朝下放入镀膜治具中的遮蔽区域,VA区放置在镀膜治具的槽口区域,从镀膜去看只有VA区,BM区完全被遮蔽掉,将装载好的镀膜基片的镀膜治具装入到镀膜伞叶中,最后将伞具装到镀膜真空室内进行镀膜,这样就只对VA区进行镀膜,该镀膜方法适用于针对于2.5D、3D等曲面玻璃的镀膜,防止将膜层镀在四周的油墨上,防止产品在镀膜过程中出现绕镀到产品的正面。

【技术实现步骤摘要】
一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具
本专利技术涉及真空镀膜机
,较为具体的,涉及到一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具。
技术介绍
真空镀膜是将真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上,从而形成一层薄膜的技术。现有的真空蒸发镀膜设备包括真空罩和抽真空装置,真空罩内具有一个用于蒸发镀膜材料的蒸发源,待镀膜的基片定位在蒸发源的前方。镀膜过程中,真空罩被抽至高真空,蒸发源中的物质蒸发,蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面形成一层薄膜。在镀膜的过程中,可以采用多个蒸发源或者旋转基片的方式保证膜层厚度的均匀性。目前,为了保证膜层厚度均匀性采用的较为广泛的方式是旋转基片,其通过将需要镀膜的基片放置在伞叶上,伞叶固定在伞架上,并使得并使得伞架沿着中心轴旋转,但是目前的真空镀膜伞架上放置的镀膜基片在进行镀膜时是无法实现局部镀膜。
技术实现思路
有鉴于此,为了解决真空镀膜伞架上放置的镀膜基片在进行镀膜时是无法实现局部镀膜的问题,本专利技术一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具,通过在镀膜伞叶1上开设有一个与镀膜治具4外形大小1:1的通孔2,通过卡簧3使得镀膜治具4与镀膜伞叶1卡接后进行镀膜,镀膜治具4按照镀膜基片外形的大小进行开槽,镀膜基片包括VA区和BM区,在镀膜时将镀膜基片的BM区朝下放入镀膜治具4中的遮蔽区42域,VA区放置在镀膜治具4的槽口41区域,从镀膜去看只有VA区,BM区完全被遮蔽掉,将装载好的镀膜基片的镀膜治具4装入到镀膜伞叶1中,最后将伞具装到镀膜真空室内进行镀膜,这样就只对VA区进行镀膜,该镀膜方法适用于针对于2.5D、3D等曲面玻璃的镀膜,防止将膜层镀在四周的油墨上,给后工序的贴合造成不良,防止产品在镀膜过程中出现绕镀到产品的正面。一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具,其包括:镀膜伞叶1和镀膜治具4,镀膜伞叶1上开设有与镀膜治具4外形相匹配的通孔2,通孔2的两边分别设置有多组卡簧3,其特征在于:镀膜治具4上设有与镀膜基片外形相匹配的多个槽口41,槽口41的下表面边缘设有与镀膜治具4一体成型的遮蔽区42,遮蔽区42的上表面与槽口41的下表面在同一水平面上,遮蔽区42的下表面与镀膜治具4的下表面在同一水平面上,遮蔽区42为凸起结构,遮蔽区42的上表面高于遮蔽区42的下表面,槽口41的上表面边缘为一圈折边43,折边43的上表面低于镀膜治具4的上表面,多个槽口41呈矩形阵列排列。进一步的,卡簧3的材质为塑料材质,卡簧3为中空结构,一端与镀膜治具4卡接,另一端通过螺丝固定在镀膜伞叶1开设的通孔2边缘的镀膜伞叶1上。进一步的,槽口41的外形的边缘比镀膜产品外形的边缘大0.05mm~0.07mm。进一步的,遮蔽区42的上表面高于遮蔽区42的下表面的高度为5mm~6mm,遮蔽区42太高,在镀膜过程中会造成镀膜阴影,给镀膜基片造成不良。进一步的,槽口41的四角为圆弧状设计,防止镀膜基片在装载过程中直角对产品的刮碰伤。进一步的,卡簧3的组数至少为2组。进一步的,卡簧3与镀膜基片为可拆卸连接。进一步的,通孔2为矩形或者圆形。进一步的,镀膜治具4与镀膜伞叶1材质相同,均为不锈钢材质。本专利技术一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具,通过在镀膜伞叶1上开设有一个与镀膜治具4外形大小1:1的通孔2,通过卡簧3使得镀膜治具4与镀膜伞叶1卡接后进行镀膜,镀膜治具4按照镀膜基片外形的大小进行开槽,镀膜基片包括VA区和BM区,在镀膜时将镀膜基片的BM区朝下放入镀膜治具4中的遮蔽区42域,VA区放置在镀膜治具4的槽口41区域,从镀膜去看只有VA区,BM区完全被遮蔽掉,将装载好的镀膜基片的镀膜治具4装入到镀膜伞叶1中,最后将伞具装到镀膜真空室内进行镀膜,这样就只对VA区进行镀膜,该镀膜方法适用于针对于2.5D、3D等曲面玻璃的镀膜,防止将膜层镀在四周的油墨上,给后工序的贴合造成不良,防止产品在镀膜过程中出现绕镀到产品的正面。附图说明图1为本专利技术的镀膜治具的俯视图。图2为本专利技术的镀膜治具的仰视图。图3为本专利技术的镀膜治具的镀膜伞叶结构示意图。主要元件符号说明镀膜伞叶1通孔2卡簧3镀膜治具4槽口41遮蔽区42折边43如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本专利技术。具体实施方式具体实施案例1:如图1所示,为本专利技术的镀膜治具的俯视图;如图2所示,为本专利技术的镀膜治具的仰视图;如图3所示,为本专利技术的镀膜治具的镀膜伞叶结构示意图。一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具,其包括:镀膜伞叶1和镀膜治具4,镀膜伞叶1上开设有与镀膜治具4外形相匹配的通孔2,通孔2的两边分别设置有多组卡簧3,其特征在于:镀膜治具4上设有与镀膜基片外形相匹配的多个槽口41,槽口41的下表面边缘设有与镀膜治具4一体成型的遮蔽区42,遮蔽区42的上表面与槽口41的下表面在同一水平面上,遮蔽区42的下表面与镀膜治具4的下表面在同一水平面上,遮蔽区42为凸起结构,遮蔽区42的上表面高于遮蔽区42的下表面,槽口41的上表面边缘为一圈折边43,折边43的上表面低于镀膜治具4的上表面,多个槽口41呈矩形阵列排列。所述卡簧3的材质为塑料材质,卡簧3为中空结构,一端与镀膜治具4卡接,另一端通过螺丝固定在镀膜伞叶1开设的通孔2边缘的镀膜伞叶1上。所述槽口41的外形的边缘比镀膜产品外形的边缘大0.05mm~0.07mm。所述遮蔽区42的上表面高于遮蔽区42的下表面的高度为5mm~6mm,遮蔽区42太高,在镀膜过程中会造成镀膜阴影,给镀膜基片造成不良。所述槽口41的四角为圆弧状设计,防止镀膜基片在装载过程中直角对产品的刮碰伤。所述卡簧3的组数至少为2组。所述卡簧3与镀膜基片为可拆卸连接。所述通孔2为矩形或者圆形。所述镀膜治具4与镀膜伞叶1材质相同,均为不锈钢材质。本专利技术一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具,通过在镀膜伞叶1上开设有一个与镀膜治具4外形大小1:1的通孔2,通过卡簧3使得镀膜治具4与镀膜伞叶1卡接后进行镀膜,镀膜治具4按照镀膜基片外形的大小进行开槽,镀膜基片包括VA区和BM区,在镀膜时将镀膜基片的BM区朝下放入镀膜治具4中的遮蔽区42域,VA区放置在镀膜治具4的槽口41区域,从镀膜去看只有VA区,BM区完全被遮蔽掉,将装载好的镀膜基片的镀膜治具4装入到镀膜伞叶1中,最后将伞具装到镀膜真空室内进行镀膜,这样就只对VA区进行镀膜,该镀膜方法适用于针对于2.5D、3D等曲面玻璃的镀膜,防止将膜层镀在四周的油墨上,给后工序的贴合造成不良,防止产品在镀膜过程中出现绕镀到产品的正面。以上所述实施例仅表本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具,其包括:镀膜伞叶(1)和镀膜治具(4),镀膜伞叶(1)上开设有与镀膜治具(4)外形相匹配的通孔(2),通孔(2)的两边分别设置有多组卡簧(3),其特征在于:镀膜治具(4)上设有与镀膜基片外形相匹配的多个槽口(41),槽口(41)的下表面边缘设有与镀膜治具(4)一体成型的遮蔽区(42),遮蔽区(42)的上表面与槽口(41)的下表面在同一水平面上,遮蔽区(42)的下表面与镀膜治具(4)的下表面在同一水平面上,遮蔽区(42)为凸起结构,遮蔽区(42)的上表面高于遮蔽区(42)的下表面,槽口(41)的上表面边缘为一圈折边(43),折边(43)的上表面低于镀膜治具(4)的上表面,多个槽口(41)呈矩形阵列排列。/n

【技术特征摘要】
1.一种能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具,其包括:镀膜伞叶(1)和镀膜治具(4),镀膜伞叶(1)上开设有与镀膜治具(4)外形相匹配的通孔(2),通孔(2)的两边分别设置有多组卡簧(3),其特征在于:镀膜治具(4)上设有与镀膜基片外形相匹配的多个槽口(41),槽口(41)的下表面边缘设有与镀膜治具(4)一体成型的遮蔽区(42),遮蔽区(42)的上表面与槽口(41)的下表面在同一水平面上,遮蔽区(42)的下表面与镀膜治具(4)的下表面在同一水平面上,遮蔽区(42)为凸起结构,遮蔽区(42)的上表面高于遮蔽区(42)的下表面,槽口(41)的上表面边缘为一圈折边(43),折边(43)的上表面低于镀膜治具(4)的上表面,多个槽口(41)呈矩形阵列排列。


2.如权利要求1所述的能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具,其特征在于:卡簧(3)的材质为塑料材质,卡簧(3)为中空结构,一端与镀膜治具(4)卡接,另一端通过螺丝固定在镀膜伞叶(1)开设的通孔(2)边缘的镀膜伞叶(1)上。


3.如权利要求1所述的能够防止绕镀和对指定区进行镀膜的镀膜治具,其特征在于:槽口(41)...

【专利技术属性】
技术研发人员:袁小夫舒本剑
申请(专利权)人:安徽安合鑫光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:安徽;34

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