一种12英寸物理气相沉积钛腔体加热底座保护配件制造技术

本实用新型专利技术公开了一种12英寸物理气相沉积钛腔体加热底座保护配件，包括：配件本体，所述配件本体整体呈圆环状结构设置且在其表面设置刻花，所述刻花呈十字型结构并倾斜设置，所述刻花与配件本体之间通过雕刻的方式一体成型，所述刻花的内部设有凹槽且凹槽呈十字型结构设置，所述刻花以配件本体的中心处呈圆周均匀分布。本实用新型专利技术通过在配件本体表面做刻花处理，增大接触面积，能粘附更多的附属物，同时分散这些附着物的应力分布，附着的附属物不容易剥落，减小颗粒产生的几率，提高制程的质量，延长腔体保养的周期，从而提高机器的使用率，减小成本。

【技术实现步骤摘要】
一种12英寸物理气相沉积钛腔体加热底座保护配件
本技术涉及物理气相沉积
，更具体为一种12英寸物理气相沉积钛腔体加热底座保护配件。
技术介绍
物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。现有的12英寸物理气相沉积钛腔体加热底座保护配件，其表面粘附反应附属物的能力有限，随着粘附的附着物的累积，这些附着物会从该装置上剥落，产生颗粒，影响制程的质量，缩短腔体保养周期。因此，需要提供一种新的技术方案给予解决。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种12英寸物理气相沉积钛腔体加热底座保护配件，解决了现有技术中现有的物理气相沉积钛腔体加热底座保本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种12英寸物理气相沉积钛腔体加热底座保护配件，其特征在于：包括：配件本体(1)，所述配件本体(1)整体呈圆环状结构设置且在其表面设置刻花(2)，所述刻花(2)呈十字型结构并倾斜设置，所述刻花(2)与配件本体(1)之间通过雕刻的方式一体成型，所述刻花(2)的内部设有凹槽(3)且凹槽(3)呈十字型结构设置，所述刻花(2)以配件本体(1)的中心处呈圆周均匀分布。/n

【技术特征摘要】
1.一种12英寸物理气相沉积钛腔体加热底座保护配件，其特征在于：包括：配件本体(1)，所述配件本体(1)整体呈圆环状结构设置且在其表面设置刻花(2)，所述刻花(2)呈十字型结构并倾斜设置，所述刻花(2)与配件本体(1)之间通过雕刻的方式一体成型，所述刻花(2)的内部设有凹槽(3)且凹槽(3)呈十字型结构设置，所述刻花(2)以配件本体(1)的中心处呈圆周均匀分布。


2.根据权利要求1所述的一种12英寸物理气相沉积钛腔体加热底座保护配件，其特征在于：所述刻花(2)的内部设有腔体(4)且腔体(4)设置有四组并...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘祥超，
申请(专利权)人：上海知昊电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31