一种全新的物理气相沉积钽腔体在线清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种全新的物理气相沉积钽腔体在线清洁装置，包括腔体钽线圈，腔体钽线圈包括绕线柱和固定在绕线柱上下方的顶座和底座，绕线柱上缠绕有线圈，线圈上安装有接线端口，接线端口均分为进线口和出线口，进线口位于线圈的左侧，出线口位于线圈的右侧，相邻两组进线口和出线口等距设置且外接有通电线，底座呈盘状结构且包括内盘和外盘，内盘上表面开设有安装槽，绕线柱的下端螺纹固定在安装槽内，内盘和外盘之间连接有若干组支撑片，相邻两组支撑片之间形成有槽口。本实用新型专利技术设计的在线清洁的装置，可以定时地去除粘附在腔体钽线圈上的附属物，从而不会发生尖端放电，提高制程的质量，延长机器的保养周期。延长机器的保养周期。延长机器的保养周期。

【技术实现步骤摘要】
一种全新的物理气相沉积钽腔体在线清洁装置


[0001]本技术涉及物理气相沉积
，具体为一种全新的物理气相沉积钽腔体在线清洁装置。

技术介绍

[0002]物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等，物理气相沉积钽腔体是一种专门用于物理气气相沉积技术的装置。
[0003]然而，现有的物理气相沉积钽腔体在使用的过程中存在以下的问题：现有的200mm物理气相沉积钽腔体没有在线清洁的配方，粘附在腔体配件钽线圈上的附属物无法及时清除，这些累积的附着物会导致尖端放电，产生颗粒，影响制程的质量，缩短机器的保养周期。为此，需要设计相应的技术方案解决存在的技术问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种全新的物理气相沉积钽腔体在线清洁装置，解决了现有的200mm物理气相沉积钽腔体没有在线清洁的配方，粘附在腔体配件钽线圈上的附属物无法及时清除，这些累积的附着物会导致尖端放电，产生颗粒，影响制程的质量，缩短机器的保养周期，这一技术问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种全新的物理气相沉积钽腔体在线清洁装置，包括腔体钽线圈，所述腔体钽线圈包括绕线柱和固定在绕线柱上下方的顶座和底座，所述绕线柱上缠绕有线圈，所述线圈上安装有接线端口，所述接线端口均分为进线口和出线口，所述进线口位于线圈的左侧，所述出线口位于线圈的右侧，相邻两组进线口和出线口等距设置且外接有通电线，所述底座呈盘状结构且包括内盘和外盘，所述内盘上表面开设有安装槽，所述绕线柱的下端螺纹固定在安装槽内，所述内盘和外盘之间连接有若干组支撑片，相邻两组所述支撑片之间形成有槽口。
[0006]作为本技术的一种优选实施方式，所述接线端口设置在每相邻二十五组线圈之间，所述出线口和进线口的平行设置。
[0007]作为本技术的一种优选实施方式，所述进线口和出线口均包括金属片和开设于金属片上的穿口，所述穿口外接线路。
[0008]作为本技术的一种优选实施方式，所述顶座、底座、绕线柱和支撑片均采用绝缘材料。
[0009]作为本技术的一种优选实施方式，所述支撑片呈扇形结构且外端大于内端，所述支撑片与内盘、外盘一体成型。
[0010]与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
[0011]1.本方案设计的在线清洁的装置，可以定时地去除粘附在腔体钽线圈上的附属物，从而不会发生尖端放电，提高制程的质量，延长机器的保养周期。
[0012]2.本方案设定每25圈线圈之后做一次在线清洁，在线清洁的配方是在钽线圈上加直流电源,让钽线圈上的附着物相互吸附并掉落，逐步清除。
附图说明
[0013]图1为本技术的整体结构图；
[0014]图2为本技术所述接线端结构图；
[0015]图3为本技术所述底座结构图。
[0016]图中:1
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绕线柱，2
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顶座，3
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底座，4
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线圈，5
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进线口，6
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出线口，7
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通电线，8
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内盘，9
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外盘，10
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安装槽，11
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支撑片，12
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槽口，13
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金属片，14
‑ꢀ
穿口。
具体实施方式
[0017]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0018]请参阅图1
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3，本技术提供一种技术方案：一种全新的物理气相沉积钽腔体在线清洁装置，包括腔体钽线圈的外围均匀连接有若干组绝缘支撑脚，腔体钽线圈包括绕线柱1和固定在绕线柱1上下方的顶座2和底座3，绕线柱 1上缠绕有线圈4，线圈4上安装有接线端口，接线端口均分为进线口5和出线口6，进线口5位于线圈4的左侧，出线口6位于线圈4的右侧，相邻两组进线口5和出线口6等距设置且外接有通电线7，底座3呈盘状结构且包括内盘8和外盘9，内盘上8表面开设有安装槽10，绕线柱1的下端螺纹固定在安装槽10内，内盘8和外盘9之间连接有若干组支撑片11，相邻两组支撑片 11之间形成有槽口12。
[0019]进一步改进地，如图1所示：接线端口设置在每相邻二十五组线圈4之间，出线口6和进线口5的平行设置。
[0020]进一步改进地，如图2所示：进线口5和出线口6均包括金属片13和开设于金属片13上的穿口14，穿口14外接线路，方便线路连接。
[0021]进一步改进地，如图1所示：顶座2、底座3、绕线柱1和支撑片11均采用绝缘材料。
[0022]具体地，支撑片11呈扇形结构且外端大于内端，支撑片11与内盘8、外盘9一体成型，可以提高内盘8和外盘9连接的稳定性。
[0023]在使用时：本技术在生产过程中，钽线圈上会积累生产附属物日积月累，附属物会剥落影响工作，定期设定每25片之后做一次在线清洁，在线清洁的配方是只在钽线圈上加直流电源,直流电源会在钛线圈的腔体内形成带氩离子的电浆，该电浆会把粘附在钽线圈上的附属物打落，让钽线圈上的附着物逐步清除，在通电线通电状态下使得钽线圈产生直流电源，将表面的附着物进行吸附并通过下方的槽口12排出。
[0024]最后应说明的是：以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员
来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种全新的物理气相沉积钽腔体在线清洁装置，包括腔体钽线圈，其特征在于：所述腔体钽线圈包括绕线柱(1)和固定在绕线柱(1)上下方的顶座(2)和底座(3)，所述绕线柱(1)上缠绕有线圈(4)，所述线圈(4)上安装有接线端口，所述接线端口均分为进线口(5)和出线口(6)，所述进线口(5)位于线圈(4)的左侧，所述出线口(6)位于线圈(4)的右侧，相邻两组进线口(5)和出线口(6)等距设置且外接有通电线(7)，所述底座(3)呈盘状结构且包括内盘(8)和外盘(9)，所述内盘(8)上表面开设有安装槽(10)，所述绕线柱(1)的下端螺纹固定在安装槽(10)内，所述内盘(8)和外盘(9)之间连接有若干组支撑片(11)，相邻两组所述支撑片(11)之间形成有槽口(12)。2.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘祥超，
申请(专利权)人：上海知昊电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：