显示面板及其制造方法技术

本申请实施例公开了一种显示面板及其制造方法，该显示面板包括：柔性基板层和薄膜晶体管层、平坦化层、阳极层、像素界定层和支撑层；其中，所述柔性基板层上具有至少一个凹槽；所述薄膜晶体管层设置于所述柔性基板层上，所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内；所述平坦化层覆盖所述薄膜晶体管层；所述阳极层设置于所述平坦化层上，并贯穿所述平坦化层与所述薄膜晶体管的漏极接触；所述像素界定层设置于所述平坦化层和所述阳极层上；所述支撑层设置于所述像素界定层上。本方案可以提升该显示面板的耐弯折性。

Display panel and its manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制造方法
本申请涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及其制造方法。
技术介绍
可折叠柔性显示面板由于在显示效果上比液晶显示面板更加逼真、绚丽、对比度更好，并且可以按照使用场景进行任意折叠而备受市场的欢迎。然而，目前的可折叠柔性显示面板的薄膜晶体管和无机膜层等容易在弯折时产生断裂，以及薄膜晶体管容易出现特性漂移等现象，从而影响可折叠柔性显示面板的显示效果。
技术实现思路
本申请实施例提供了一种显示面板及其制造方法，可以提升显示面板的耐弯折性。第一方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括：柔性基板层，所述柔性基板层上具有至少一个凹槽；薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层设置于所述柔性基板层上，所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内；平坦化层，所述平坦化层覆盖所述薄膜晶体管层；阳极层，所述阳极层设置于所述平坦化层上，并贯穿所述平坦化层与所述薄膜晶体管的漏极接触；像素界定层，所述像素界定层设置于所述平坦化层和所述阳极层上；支撑层，所述支撑层设置于所述像素界定层上。在本申请实施例提供的显示面板中，所述薄膜晶体管包括：遮光层；有源层，所述有源层设置于所述遮光层上；第一绝缘层，所述第一绝缘层设置于所述有源层上；栅极层，所述栅极层设置于所述第一绝缘层上；第二绝缘层，所述第二绝缘层设置于所述栅极层上；源极和漏极，所述源极和所述漏极贯穿所述第二绝缘层、所述栅极层和所述第一绝缘层分别与所述有源层接触；所述遮光层、所述有源层、所述第一绝缘层、所述栅极层、所述第二栅极层、所述源极和漏极中的至少一层填充于所述凹槽内。在本申请实施例提供的显示面板中，所述第一绝缘层包括第一绝缘子层和第二绝缘子层，所述栅极层包括第一栅极子层和第二栅极子层；所述第一绝缘子层设置于所述有源层上；所述第一栅极子层设置于所述第一绝缘子层上；所述第二绝缘子层设置于所述第一栅极子层上；所述第二栅极子层设置于所述第二绝缘子层上；所述遮光层、所述有源层、所述第一绝缘子层、所述第二绝缘子层、所述第一栅极子层、所述第二栅极子层、所述第二绝缘层层、所述源极和漏极中的至少一层填充于所述凹槽内。在本申请实施例提供的显示面板中，所述凹槽的深度在1.2微米至1.5微米之间。在本申请实施例提供的显示面板中，所述薄膜晶体管的厚度在1.2微米至1.5微米之间。在本申请实施例提供的显示面板中，所述柔性基板层包括：第一有机柔性基板；缓冲层，所述缓冲层设置于所述第一有机柔性基板上；第二有机柔性基板，所述第二有机柔性基板设置于所述缓冲层上，所述第二有机柔性基板上具有至少一个凹槽。第二方面，本申请实施例提供了一种显示面板的制造方法，包括：提供一柔性基板层；在所述柔性基板层形成至少一个凹槽；在所述柔性基板层上形成薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内；在所述薄膜晶体管层上依次形成平坦化层、阳极层、像素界定层和支撑层。在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述在所述柔性基板层上形成薄膜晶体管层，包括：在所述凹槽内依次沉积遮光层、有源层、第一绝缘层、栅极层、第二绝缘层以及源极和漏极，所述源极和所述漏极贯穿所述第二绝缘层、所述栅极层和所述第一绝缘层分别与所述有源层接触。在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述在所述凹槽内依次沉积遮光层、有源层、第一绝缘层、栅极层、第二绝缘层以及源极和漏极，包括：在所述凹槽内依次沉积遮光层、有源层、第一绝缘子层、第二绝缘子层、第一栅极子层、第二栅极子层、第二绝缘层以及源极和漏极。在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述提供一柔性基板层，包括：提供一第一有机柔性基板；在所述第一有机柔性基板上依次形成缓冲层和第二有机柔性基板；所述在所述柔性基板层形成至少一个凹槽，包括：对所述第二有机柔性基板进行蚀刻，以在所述第二有机柔性基板上形成至少一个凹槽。由上，本申请实施例提供的显示面板包括柔性基板层和薄膜晶体管层、平坦化层、阳极层、像素界定层和支撑层；其中，所述柔性基板层上具有至少一个凹槽；所述薄膜晶体管层设置于所述柔性基板层上，所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内；所述平坦化层覆盖所述薄膜晶体管层；所述阳极层设置于所述平坦化层上，并贯穿所述平坦化层与所述漏极接触；所述像素界定层设置于所述平坦化层和所述阳极层上；所述支撑层设置于所述像素界定层上。本方案通过在柔性基板层上设置凹槽，并将薄膜晶体管的至少一部分填充于该凹槽内，可以提升该显示面板的耐弯折性，进而提升显示面板的显示效果。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。图2是本申请实施例提供的显示面板的另一结构示意图。图3是本申请实施例提供的显示面板的制造方法的流程示意图。具体实施方式下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。本申请实施例提供了一种显示面板及其制造方法，以下将分别进行详细说明。请参阅图1，图1是本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。该显示面板100可以包括柔性基板层10、薄膜晶体管层20、平坦化层30、阳极层40、像素界定层50和支撑层60。该柔性基板层10上可以具有至少一个凹槽11。该柔性基板层10可以由有机柔性材料构成，比如聚酰亚胺(Polyimide，PI)等。在一些实施例中，请参阅图2，该柔性基板层10可以包括第一有机柔性基板12、缓冲层13和第二有机柔性基板14。其中，第一有机柔性基板12可以由有机柔性材料构成，比如PI。缓冲层13可以由为氧化硅(SiOx)薄膜、氮化硅(SiNx)薄膜、或者氧化硅薄膜与氮化硅薄膜交替层叠设置形成的复合薄膜构成。第二有机柔性基板14可以由可以由有机柔性材料构成，比如PI。在本实施例中，由于柔性基板层10可以由第一有机柔性基板12、缓冲层13和第二有机柔性基板14组成，可以进一步增加柔性基板层10的耐弯折性。需要说明的是，在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：/n柔性基板层，所述柔性基板层上具有至少一个凹槽；/n薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层设置于所述柔性基板层上，所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内；/n平坦化层，所述平坦化层覆盖所述薄膜晶体管层；/n阳极层，所述阳极层设置于所述平坦化层上，并贯穿所述平坦化层与所述薄膜晶体管的漏极接触；/n像素界定层，所述像素界定层设置于所述平坦化层和所述阳极层上；/n支撑层，所述支撑层设置于所述像素界定层上。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
柔性基板层，所述柔性基板层上具有至少一个凹槽；
薄膜晶体管层，所述薄膜晶体管层设置于所述柔性基板层上，所述薄膜晶体管层包括至少一个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的至少一部分填充于所述凹槽内；
平坦化层，所述平坦化层覆盖所述薄膜晶体管层；
阳极层，所述阳极层设置于所述平坦化层上，并贯穿所述平坦化层与所述薄膜晶体管的漏极接触；
像素界定层，所述像素界定层设置于所述平坦化层和所述阳极层上；
支撑层，所述支撑层设置于所述像素界定层上。


2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管包括：
遮光层；
有源层，所述有源层设置于所述遮光层上；
第一绝缘层，所述第一绝缘层设置于所述有源层上；
栅极层，所述栅极层设置于所述第一绝缘层上；
第二绝缘层，所述第二绝缘层设置于所述栅极层上；
源极和漏极，所述源极和所述漏极设置于所述第二绝缘层上，并且贯穿所述第二绝缘层、所述栅极层和所述第一绝缘层分别与所述有源层接触；
所述遮光层、所述有源层、所述第一绝缘层、所述栅极层、所述第二栅极层、所述源极和漏极中的至少一层填充于所述凹槽内。


3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一绝缘层包括第一绝缘子层和第二绝缘子层，所述栅极层包括第一栅极子层和第二栅极子层；
所述第一绝缘子层设置于所述有源层上；
所述第一栅极子层设置于所述第一绝缘子层上；
所述第二绝缘子层设置于所述第一栅极子层上；
所述第二栅极子层设置于所述第二绝缘子层上；
所述遮光层、所述有源层、所述第一绝缘子层、所述第二绝缘子层、所述第一栅极子层、所述第二栅极子层、所述第二绝缘层层、所述源极和漏极中的至少一层填充于所述凹槽内。


4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的深度在1.2微米至1.5微米之...

【专利技术属性】
技术研发人员：李伟，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42