一种CVD设备的控制方法及控制装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种CVD设备的控制方法及控制装置，所述方法包括：建立基础信号表、专家经验表以及处理方式表，其中，所述基础信号表存储有CVD设备正常运行状态下的各运行参数的参数区间，所述专家经验表中存储有运行参数的值超出所述参数区间所对应的故障类型，所述处理方式表中存储有与所述故障类型对应的处理工序；获取CVD设备实际运行的参数值；将所述参数值与所述基础信号表中的所述参数区间进行比对；若所述参数值超出所述参数区间，则根据所述专家经验表查找对应的实际故障，根据所述处理方式表查找与所述实际故障对应的处理工序；根据所述处理工序输出处理指令和/或警示信息。该方法能够有效、稳定地管理CVD设备的各个被控物理量。

A control method and device of CVD equipment

【技术实现步骤摘要】
一种CVD设备的控制方法及控制装置
本专利技术涉及CVD设备控制
，具体的说是一种CVD设备的控制方法及控制装置。
技术介绍
化学气相沉积(CVD，ChemicalVaporDeposition)是指化学气体或蒸气在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，其原理为：将两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。CVD目前是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。目前CVD设备一般采用上位机加PLC的控制，以太网和DeviceNet通讯的方式，配合大量的安全护锁，实现设备整体的运行。DeviceNet是一种用在自动化技术的现场总线标准，DeviceNet使用控制器局域网络(CAN)为其底层的通讯协定，其应用层有针对不同设备所定义的行规(profile)，主要的应用包括资讯交换、安全设备及大型控制系统。CVD设备因为其需要实时控制的参数种类多达几十种、被控参数数量多达上千导致了该控制系统的复杂性，对操本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种CVD设备的控制方法，其特征在于，包括：/n建立基础信号表、专家经验表以及处理方式表，其中，所述基础信号表存储有CVD设备正常运行状态下的各运行参数的参数区间，所述专家经验表中存储有运行参数的值超出所述参数区间所对应的故障类型，所述处理方式表中存储有与所述故障类型对应的处理工序；/n获取CVD设备实际运行的参数值；/n将所述参数值与所述基础信号表中的所述参数区间进行比对；/n若所述参数值超出所述参数区间，则根据所述专家经验表查找对应的实际故障，根据所述处理方式表查找与所述实际故障对应的处理工序；/n根据所述处理工序输出处理指令和/或警示信息。/n

【技术特征摘要】
1.一种CVD设备的控制方法，其特征在于，包括：
建立基础信号表、专家经验表以及处理方式表，其中，所述基础信号表存储有CVD设备正常运行状态下的各运行参数的参数区间，所述专家经验表中存储有运行参数的值超出所述参数区间所对应的故障类型，所述处理方式表中存储有与所述故障类型对应的处理工序；
获取CVD设备实际运行的参数值；
将所述参数值与所述基础信号表中的所述参数区间进行比对；
若所述参数值超出所述参数区间，则根据所述专家经验表查找对应的实际故障，根据所述处理方式表查找与所述实际故障对应的处理工序；
根据所述处理工序输出处理指令和/或警示信息。


2.根据权利要求1所述的CVD设备的控制方法，其特征在于，当所述处理工序大于一种时，所述根据所述处理工序输出处理指令，包括：
S51、建立处理工序的优先级；
S52、根据当前优先级最高的处理工序输出处理指令；
S53、监测所述参数值的变化；
S54、若预设时间内所述参数值未落入所述参数区间，停止执行所述处理工序，改为根据当前优先级次高的处理工序输出处理指令；
S55、重复执行S53-S54，直至全部的处理工序都被执行，或者预设时间内所述参数值落入所述参数区间。


3.根据权利要求1所述的CVD设备的控制方法，其特征在于，所述根据所述处理工序输出处理指令之后，还包括
若输出所述处理指令后的预设时间内，所述参数值未落入所述参数区间，则控制CVD设备停止运行。


4.根据权利要求1所述的CVD设备的控制方法，其特征在于，还包括更新所述基础信号表和/或所述专家经验表和/或所述处理方式表的步骤。


5.一种C...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖蕴章，刘子优，钟国仿，张灿，陈炳安，
申请(专利权)人：深圳市纳设智能装备有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44