轮档架构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于光刻机线排的轮档架构包括：主体，其为自锁框架结构，所述自锁框架结构供所述线排穿过，所述自锁框架结构长度和宽度可调节，所述自锁框架结构能将所述线排固定；移动支撑部，其固定连接在所述自锁框架结构底部，其高度可调节；线排固定结构，其设置在所述自锁框架结构的内侧，其插入线排的线间凹部相配合使线排被固定在自锁框架结构内。本实用新型专利技术能够避免线排涉水造成设备损坏，能将线排固定(包括临时固定)增加稳定性进而避免线排位置不固定影响人员操作，能适用于各种宽度高度的线排，能节省光刻机设备维护时间，提高生产效率。

Block structure

【技术实现步骤摘要】
轮档架构
本技术涉及一种用于光刻机线排的轮档架构。
技术介绍
光刻机(MaskAligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem。光刻机(MaskAligner)是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵，通常在3千万至5亿美元。光刻机过程中需要定期进行检修升级等维护操作,在维护操作种容易因构造问题,造成光刻机线排破损,引发机台漏水,并影响维护操作时间。并且，光刻机在维护操作中需要临时移动原线排的走线位置，在移动过程中线排会被来回拉扯，线排破损的几率会增加。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种能适用于各种光刻机线排，能避免拉扯、漏水造成线排破损，使线排能临时固定在需要位置的轮档架构。为解决上述技术问题，本技术提供用于光刻机线排的轮档架构，包括：主体，其为自锁框架结构，所述自锁框架结构供所述线排穿过，所述自锁框架结构长度和宽度可调节，所述自锁框本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种轮档架构，用于光刻机的线排，其特征在于，包括：/n主体，其为自锁框架结构，所述自锁框架结构供所述线排穿过，所述自锁框架结构长度和宽度可调节，所述自锁框架结构能将所述线排固定；/n移动支撑部，其固定连接在所述自锁框架结构底部，其高度可调节；/n线排固定结构，其设置在所述自锁框架结构的内侧，其插入线排的线间凹部相配合使线排被固定在自锁框架结构内。/n

【技术特征摘要】
1.一种轮档架构，用于光刻机的线排，其特征在于，包括：
主体，其为自锁框架结构，所述自锁框架结构供所述线排穿过，所述自锁框架结构长度和宽度可调节，所述自锁框架结构能将所述线排固定；
移动支撑部，其固定连接在所述自锁框架结构底部，其高度可调节；
线排固定结构，其设置在所述自锁框架结构的内侧，其插入线排的线间凹部相配合使线排被固定在自锁框架结构内。


2.如权利要求1所述的轮档架构，其特征在于，还包括：
固定结构，其固定在自锁框架结构的两侧面和或顶面，其适用于将轮档架构固定在旁侧的设备上。


3.如权利要求1所述的轮档架构，其特征在于，还包括：
提示涂层，其涂覆在自锁框架结构外侧壁上，其采用荧光材料形成自发光涂层。


4.如权利要求1所述的轮档架构，其特征在于：构成所述自锁框架结构的各边框结构相同，该每一条边框结构包括：
容置...

【专利技术属性】
技术研发人员：余寅生，刘大玖，李睿，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31