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本实用新型公开了一种用于光刻机线排的轮档架构包括：主体，其为自锁框架结构，所述自锁框架结构供所述线排穿过，所述自锁框架结构长度和宽度可调节，所述自锁框架结构能将所述线排固定；移动支撑部，其固定连接在所述自锁框架结构底部，其高度可调节；线排固...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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