掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法技术

提供一种掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法。所述掩膜组件包括掩膜框架和掩膜。所述掩膜联接到所述掩膜框架以将第一沉积区域至第三沉积区域彼此区分。所述第一沉积区域和所述第三沉积区域中的每个在第一方向上具有比参考宽度大的第一宽度并在第二方向上具有比所述第一宽度小的第二宽度。所述第二沉积区域在所述第一方向上具有比所述第一宽度小的第三宽度并在所述第二方向上具有比所述参考宽度小的第四宽度。

Mask assembly and method for manufacturing the mask assembly

【技术实现步骤摘要】
掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法相关申请的交叉引用本申请要求2018年11月29日递交的韩国专利申请第10-2018-0150724号的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
本公开在本文中涉及一种掩膜组件以及一种用于制造该掩膜组件的方法，更具体而言，涉及一种能够应用于显示设备的沉积过程的掩膜组件以及一种用于制造该掩膜组件的方法。
技术介绍
显示设备通过显示区域输出图像以向用户提供各种视觉信息。显示设备中的有机发光显示设备具有视角宽、对比度优良以及响应速度高的优点。有机发光显示设备的显示区域由多个像素构成。多个像素可通过沉积材料的沉积过程形成显示区域。有机发光显示设备的沉积过程可通过由掩膜限定的沉积区域来执行。就有机发光显示设备的产量和可靠性而言，掩膜的牢固固定以及沉积区域的定位精度是重要因素。诸如电视的显示设备已经变成大尺寸。因此，沉积过程所需的掩膜在尺寸上也正在增加。随着掩膜尺寸的增加，在掩膜中提供的构成部分的制造和处理可能受限。
技术实现思路
本公开提供一种掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法，该掩膜组件具有提高的切割效率并且能够制造具有各种区域的显示面板。本公开还提供一种掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法，在该掩膜组件中，掩膜的定位精度提高，并且掩膜的变形与台阶部分减少。本专利技术概念的一个实施例提供一种包括掩膜框架和掩膜的掩膜组件。所述掩膜框架包括：在第一方向上延伸的第一支撑部件；与所述第一支撑部件间隔开并在所述第一方向上延伸的第二支撑部件；在第二方向上延伸并设置在所述第一支撑部件的一端与所述第二支撑部件的一端之间的第三支撑部件；和与所述第三支撑部件间隔开、在所述第二方向上延伸并设置在所述第一支撑部件的另一端与所述第二支撑部件的另一端之间的第四支撑部件。所述掩膜联接到所述掩膜框架并包括第一沉积区域、在所述第一方向上与所述第一沉积区域相邻的第二沉积区域和在所述第二方向上与所述第一沉积区域相邻的第三沉积区域。所述第一沉积区域和所述第三沉积区域中的每个在所述第一方向上具有比参考宽度大的第一宽度并且在所述第二方向上具有比所述第一宽度小的第二宽度。所述第二沉积区域在所述第一方向上具有比所述第一宽度小的第三宽度并且在所述第二方向上具有比所述参考宽度大的第四宽度。在一实施例中，所述掩膜可进一步包括在所述第二方向上与所述第二沉积区域相邻的第四沉积区域以及在所述第二方向上与所述第三沉积区域相邻并在所述第一方向上与所述第四沉积区域相邻的第五沉积区域。在一实施例中，所述第四沉积区域可在所述第一方向上具有所述第三宽度且在所述第二方向上具有所述第四宽度。在一实施例中，所述第五沉积区域可在所述第一方向上具有所述第一宽度且在所述第二方向上具有所述第二宽度。在一实施例中，所述掩膜组件进一步可包括：在所述第二方向上延伸并联接在所述第一支撑部件与所述第二支撑部件之间的第一延伸部件，所述第一延伸部件与所述第三支撑部件间隔开所述第一宽度；以及在所述第一方向上延伸并联接在所述第三支撑部件与所述第一延伸部件之间的第二延伸部件，所述第二延伸部件与所述第一支撑部件间隔开所述第二宽度。在一实施例中，所述第一延伸部件可具有第一厚度，并且所述第二延伸部件可具有第二厚度，其中所述第一厚度可比所述第二厚度大。在一实施例中，所述第一延伸部件在横截面视图中可具有三角形形状或梯形形状。在一实施例中，所述第一延伸部件可包括联接到所述第二延伸部件的凹进部。在一实施例中，所述掩膜组件进一步可包括：联接到所述第一支撑部件和所述第三支撑部件并对应于所述第一沉积区域设置的第一掩膜部件；联接到所述第一支撑部件、所述第四支撑部件和所述第一掩膜部件并对应于所述第二沉积区域设置的第二掩膜部件；以及联接到所述第三支撑部件、所述第一掩膜部件和所述第二掩膜部件并对应于所述第三沉积区域设置的第三掩膜部件。在一实施例中，所述第一掩膜部件至所述第三掩膜部件的厚度可相同。在一实施例中，所述掩膜组件进一步可包括：联接到所述第一支撑部件和所述第三支撑部件并对应于所述第一沉积区域设置的第一掩膜部件；联接到所述第一支撑部件和所述第四支撑部件、接触所述第一掩膜部件并对应于所述第二沉积区域设置的第二掩膜部件；联接到所述第三支撑部件、接触所述第一掩膜部件和所述第二掩膜部件并对应于所述第三沉积区域设置的第三掩膜部件；以及衬背部件。在一实施例中，所述衬背部件可设置于所述第一掩膜部件和所述第二掩膜部件彼此接触的区域上、所述第一掩膜部件和所述第三掩膜部件彼此接触的区域上以及所述第二掩膜部件和所述第三掩膜部件彼此接触的区域上。在一实施例中，所述衬背部件可在与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向上联接到所述第一掩膜部件、所述第二掩膜部件和所述第三掩膜部件。在本专利技术概念的实施例中，一种用于制造掩膜组件的方法包括：制备掩膜框架，所述掩膜框架包括：在第一方向上延伸的第一支撑部件；与所述第一支撑部件间隔开并在所述第一方向上延伸的第二支撑部件；在第二方向上延伸并设置在所述第一支撑部件的一端与所述第二支撑部件的一端之间的第三支撑部件；和与所述第三支撑部件间隔开、在所述第二方向上延伸并设置在所述第一支撑部件的另一端与所述第二支撑部件的另一端之间的第四支撑部件；将具有第一厚度的第一延伸部件联接在所述第一支撑部件与所述第二支撑部件之间；以及将具有比所述第一厚度小的第二厚度的第二延伸部件联接在所述第三支撑部件与所述第一延伸部件之间。在一实施例中，所述第一延伸部件可与所述第三支撑部件间隔开比参考宽度大的第一宽度，并且所述第二延伸部件可与所述第一支撑部件间隔开比所述第一宽度小的第二宽度。在一实施例中，所述方法可进一步包括：将具有所述第二厚度的第三延伸部件联接在所述第四支撑部件与所述第一延伸部件之间；以及将具有所述第二厚度的第四延伸部件联接在所述第三支撑部件与所述第一延伸部件之间。在一实施例中，所述第三延伸部件与所述第一支撑部件间隔开比所述参考宽度大且比所述第一宽度小的第三宽度，并且所述第四延伸部件可与所述第二延伸部件间隔开所述第二宽度。在一实施例中，所述第一延伸部件的联接可包括：使用螺栓联接所述第一支撑部件中的螺母和所述第一延伸部件的一端；以及使用螺栓联接所述第二支撑部件中的螺母和所述第一延伸部件的另一端。在一实施例中，所述第二延伸部件的联接可包括：将所述第二延伸部件的一端焊接到所述第一延伸部件的联接区域；以及将所述第二延伸部件的另一端焊接到所述第三支撑部件的联接区域。在一实施例中，所述方法可进一步包括：在所述第二延伸部件的联接之前移除所述第一延伸部件的联接区域的一部分。在一实施例中，所述方法可进一步包括：在所述第二延伸部件的联接之前移除所述第二延伸部件的端部的一部分。在本专利技术概念的实施例中，一种用于制造掩膜组件的方法包括：提供在第一方向上具有比参考宽度大的第一宽度且在与所述第一方向交叉的第二方向上具有比所述参考宽度小的第二宽度的第一掩膜部件；将在所述第一方向上具有所述第一宽度且在所述第二方向上具有所述第二宽本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜组件，包括：/n掩膜框架，包括：在第一方向上延伸的第一支撑部件；与所述第一支撑部件间隔开并在所述第一方向上延伸的第二支撑部件；在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸并设置在所述第一支撑部件的一端与所述第二支撑部件的一端之间的第三支撑部件；和与所述第三支撑部件间隔开、在所述第二方向上延伸并设置在所述第一支撑部件的另一端与所述第二支撑部件的另一端之间的第四支撑部件；以及/n掩膜，所述掩膜联接到所述掩膜框架并包括第一沉积区域、在所述第一方向上与所述第一沉积区域相邻的第二沉积区域和在所述第二方向上与所述第一沉积区域相邻的第三沉积区域，/n其中所述第一沉积区域和所述第三沉积区域中的每个在所述第一方向上具有比参考宽度大的第一宽度并且在所述第二方向上具有比所述第一宽度小的第二宽度，并且/n所述第二沉积区域在所述第一方向上具有比所述第一宽度小的第三宽度并且在所述第二方向上具有比所述参考宽度大的第四宽度。/n

【技术特征摘要】
20181129 KR 10-2018-01507241.一种掩膜组件，包括：
掩膜框架，包括：在第一方向上延伸的第一支撑部件；与所述第一支撑部件间隔开并在所述第一方向上延伸的第二支撑部件；在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸并设置在所述第一支撑部件的一端与所述第二支撑部件的一端之间的第三支撑部件；和与所述第三支撑部件间隔开、在所述第二方向上延伸并设置在所述第一支撑部件的另一端与所述第二支撑部件的另一端之间的第四支撑部件；以及
掩膜，所述掩膜联接到所述掩膜框架并包括第一沉积区域、在所述第一方向上与所述第一沉积区域相邻的第二沉积区域和在所述第二方向上与所述第一沉积区域相邻的第三沉积区域，
其中所述第一沉积区域和所述第三沉积区域中的每个在所述第一方向上具有比参考宽度大的第一宽度并且在所述第二方向上具有比所述第一宽度小的第二宽度，并且
所述第二沉积区域在所述第一方向上具有比所述第一宽度小的第三宽度并且在所述第二方向上具有比所述参考宽度大的第四宽度。


2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其中所述掩膜进一步包括在所述第二方向上与所述第二沉积区域相邻的第四沉积区域以及在所述第二方向上与所述第三沉积区域相邻并在所述第一方向上与所述第四沉积区域相邻的第五沉积区域；
其中所述第四沉积区域在所述第一方向上具有所述第三宽度且在所述第二方向上具有所述第四宽度；并且
所述第五沉积区域在所述第一方向上具有所述第一宽度且在所述第二方向上具有所述第二宽度。


3.根据权利要求1所述的掩膜组件，其中所述掩膜组件进一步包括：
在所述第二方向上延伸并联接在所述第一支撑部件与所述第二支撑部件之间的第一延伸部件，所述第一延伸部件与所述第三支撑部件间隔开所述第一宽度；以及
在所述第一方向上延伸并联接在所述第三支撑部件与所述第一延伸部件之间的第二延伸部件，所述第二延伸部件与所述第一支撑部件间隔开所述第二宽度。


4.根据权利要求3所述的掩膜组件，其中所述第一延伸部件具有第一厚度，并且
所述第二延伸部件具有第二厚度，
其中所述第一厚度比所述第二厚度大。


5.根据权利要求1所述的掩膜组件，其中所述掩膜组件进一步包括：
联接到所述第一支撑部件和所述第三支撑部件并对应于所述第一沉积区域设置的第一掩膜部件；
联接到所述第一支撑部件、所述第四支撑部件和所述第一掩膜部件并对应于所述第二沉积区域设置的第二掩膜部件；以及
联接到所述第三支撑部件、所述第一掩膜部件和所述第二掩膜部件并对应于所述第三沉积区域设置的第三掩膜部件。


6.根据权利要求1所述的掩膜组件，其中所述掩膜组件进一步包括：
联接到所述第一支撑部件和所述第三支撑部件并对应于所述第一沉积区域设置的第一掩膜部件；
联接到所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：河在秀，李秀奂，柳光泰，蒋胜旭，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR