掩膜板张网方法、掩膜板张网装置及掩膜板制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种掩膜板张网方法、掩膜板张网装置及掩膜板。掩膜板张网方法包括：在张网平台上预设坐标系；将掩膜板框架置于张网平台上，获取第一对位点在坐标系中的第一实际位置；对掩膜板框架进行框架位置校正，获取第一对位点在坐标系中的校正位置；根据第一对位点的校正位置和第一实际位置得到补偿参数；将掩膜单元与掩膜板框架连接，获取第二对位点在坐标系中的第二实际位置；根据补偿参数对第二对位点进行位置补偿，得到第二对位点的补偿后位置；以及根据第二对位点的补偿后位置和第一对位点的校正位置，对掩膜单元进行掩膜单元位置校正。根据本发明专利技术实施例的掩膜板张网方法，提高张网组装过程的效率。

Method, device and mask of mask

【技术实现步骤摘要】
掩膜板张网方法、掩膜板张网装置及掩膜板
本专利技术涉及掩膜板领域，具体涉及一种掩膜板张网方法、掩膜板张网装置及掩膜板。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示面板因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。OLED显示面板在生产过程中，需要将有机材料蒸镀在基板上，其中蒸镀工艺中通常需要用到精细金属掩膜板(FineMetalMask，FMM)。FMM在使用前，需要将掩膜单元(掩膜条)连接在掩膜板框架上，该过程需要在张网装置上进行，即需要进行张网组装的过程。在现有的张网装置中，采用多轴驱动的机械机构带动张网平台作平移或旋转运动，从而用于张网过程中的对位操作。每个掩膜板通常包括一个掩膜板框架和多个掩膜单元，除了对掩膜板框架进行对位时需要驱动张网平台作平移或旋转运动外，每次对掩膜单元的对位也需要驱动张网平台作平移或旋转运动，使得掩膜板张网组装的过程用于对位操作的时间过长，降低生产效率。
技术实现思路
本专利技术提供一种掩膜板张网方法、掩膜板张网装置及掩膜板，提高掩膜板张网组装过程的效率。第一方面，本专利技术实施例提供一种掩膜板张网方法，掩膜板包括掩膜板框架以及多个掩膜单元，掩膜板框架上设有第一对位点，每个掩膜单元上设有第二对位点，掩膜板张网方法包括：在张网平台上预设坐标系；将掩膜板框架置于张网平台上，获取第一对位点在坐标系中的第一实际位置；对掩膜板框架进行框架位置校正，获取第一对位点在坐标系中的校正位置；根据第一对位点的校正位置和第一实际位置得到补偿参数；将掩膜单元与掩膜板框架连接，获取第二对位点在坐标系中的第二实际位置；根据补偿参数对第二对位点进行位置补偿，得到第二对位点的补偿后位置；以及根据第二对位点的补偿后位置和第一对位点的校正位置，对掩膜单元进行掩膜单元位置校正。根据本专利技术第一方面的上述实施方式，掩膜板框架中第一对位点的数量为多个，对掩膜板框架进行框架位置校正，获取第一对位点在坐标系中的校正位置包括：预设第一对位点在坐标系中的标准位置；预设模拟校正库，模拟校正库中预存多组模拟校正参数；根据各组模拟校正参数对掩膜板框架进行模拟校正，得到多组模拟点阵，每组模拟点阵包括掩膜板框架中的各第一对位点的模拟校正位置；获得各组模拟点阵分别对应的总偏差；将总偏差最小的模拟点阵所包括的各第一对位点的模拟校正位置作为各第一对位点的校正位置。根据本专利技术第一方面的上述任一实施方式，掩膜板框架呈矩形，掩膜板框架中第一对位点的数量为四个并分别对应设置于掩膜板框架的四角，模拟校正参数包括角度模拟校正参数以及平移模拟校正参数；优选地，角度模拟校正参数配置为将第一对位点以四个第一对位点的对角线交点为旋转中心进行顺时针旋转变换的旋转角度；平移模拟校正参数配置为将第一对位点进行平移变换的平移向量。根据本专利技术第一方面的上述任一实施方式，模拟校正库中预存的多组模拟校正参数的角度模拟校正参数的范围为-0.1°至0.1°。根据本专利技术第一方面的上述任一实施方式，坐标系为平面直角坐标系，坐标系包括相互垂直的第一坐标轴和第二坐标轴，补偿参数包括角度补偿参数、第一平移补偿参数以及第二平移补偿参数；优选地，角度补偿参数配置为与总偏差最小的模拟点阵所对应的模拟校正参数的角度模拟校正参数相同；第一平移补偿参数配置为将第一对位点沿第一坐标轴平移补偿的数值；第二平移补偿参数配置为将第一对位点沿第二坐标轴平移补偿的数值。根据本专利技术第一方面的上述任一实施方式，根据第一对位点的校正位置和第一实际位置得到补偿参数包括根据以下方程组得到第一平移补偿参数以及第二平移补偿参数：M＝x·cosθ-y·sinθ+offsetx；N＝y·cosθ+x·sinθ+offsety；其中，x为第一对位点的第一实际位置沿第一坐标轴的坐标值；y为第一对位点的第一实际位置沿第二坐标轴的坐标值；M为第一对位点的校正位置沿第一坐标轴的坐标值；N为第一对位点的校正位置沿第二坐标轴的坐标值；offsetx为第一平移补偿参数；offsety为第二平移补偿参数；θ为角度补偿参数。根据本专利技术第一方面的上述任一实施方式，根据补偿参数对第二对位点进行位置补偿，得到第二对位点的补偿后位置包括：根据角度补偿参数对第二对位点进行角度位置补偿；根据第一平移补偿参数以及第二平移补偿参数对第二对位点进行平移位置补偿。根据本专利技术第一方面的上述任一实施方式，针对每个掩膜板，框架位置校正的步骤进行一次；针对掩膜板的多个掩膜单元，对每个掩膜单元进行一次掩膜单元位置校正的步骤。第二方面，本专利技术实施例提供一种掩膜板张网装置，掩膜板包括掩膜板框架以及多个掩膜单元，掩膜板框架上设有第一对位点，每个掩膜单元上设有第二对位点，掩膜板张网装置包括张网平台以及对位模组，张网平台能够承载掩膜板框架，对位模组包括：坐标系模块，用于在张网平台上预设坐标系；位置获取模块，位置获取模块能够获取承载于张网平台上的掩膜板框架的第一对位点在坐标系中的第一实际位置，位置获取模块能够获取与掩膜板框架连接的掩膜单元的第二对位点在坐标系中的第二实际位置；框架校正模块，用于对掩膜板框架进行框架位置校正，获取第一对位点在坐标系中的校正位置；补偿参数获取模块，用于根据第一对位点的校正位置和第一实际位置得到补偿参数；补偿模块，用于根据补偿参数对第二对位点进行位置补偿，得到第二对位点的补偿后位置；以及掩膜单元校正模块，用于根据第二对位点的补偿后位置和第一对位点的校正位置，对掩膜单元进行掩膜单元位置校正。第三方面，本专利技术实施例提供一种掩膜板，其包括：掩膜板框架，掩膜板框架上设有第一对位点；以及多个掩膜单元，能够与掩膜板框架连接，每个掩膜单元上设有第二对位点，其中，掩膜板通过前述任一实施方式的掩膜板张网方法进行张网组装。根据本专利技术实施例的掩膜板张网方法，采用对掩膜板各部件的位置进行坐标补偿的方式实现掩膜板框架的对位和掩膜单元的对位，从而在掩膜板张网组装的对位过程中无须驱动张网平台以使其物理位置进行变换，使掩膜板张网装置可以省去对张网平台的平移驱动结构及旋转驱动结构，节省设置驱动结构的成本，并使张网平台更加稳定。此外，对掩膜单元进行掩膜单元位置校正时，利用补偿参数对第二对位点进行位置补偿，得到第二对位点的补偿后位置，之后利用第二对位点的补偿后位置与第一对位点的校正位置的对应关系，可以通过一次对位实现一个掩膜单元的位置校正，使得位置校正耗时大大降低，从而提高张网组装过程的效率。根据本专利技术实施例的掩膜板张网装置，其包括张网平台以及对位模组。其中对位模组采用坐标补偿的方式实现掩膜板框架的对位和掩膜单元的对位，不需要张网平台设置平移驱动结构及旋转驱动结构，节省设置驱动结构的成本，并使张网平台更加稳定。对位模组对掩膜单元进行掩膜单元位置校正时，采用补偿参数对第二对位点进行位置补偿，得到第二对位点的补偿后位置，之后利用第二对位点的补偿后位置与第一对位点的校本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板张网方法，其特征在于，所述掩膜板包括掩膜板框架以及多个掩膜单元，所述掩膜板框架上设有第一对位点，每个所述掩膜单元上设有第二对位点，所述掩膜板张网方法包括：/n在张网平台上预设坐标系；/n将所述掩膜板框架置于所述张网平台上，获取所述第一对位点在所述坐标系中的第一实际位置；/n对所述掩膜板框架进行框架位置校正，获取所述第一对位点在所述坐标系中的校正位置；/n根据所述第一对位点的校正位置和第一实际位置得到补偿参数；/n将所述掩膜单元与所述掩膜板框架连接，获取所述第二对位点在所述坐标系中的第二实际位置；/n根据所述补偿参数对所述第二对位点进行位置补偿，得到所述第二对位点的补偿后位置；以及/n根据所述第二对位点的补偿后位置和所述第一对位点的校正位置，对所述掩膜单元进行掩膜单元位置校正。/n

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板张网方法，其特征在于，所述掩膜板包括掩膜板框架以及多个掩膜单元，所述掩膜板框架上设有第一对位点，每个所述掩膜单元上设有第二对位点，所述掩膜板张网方法包括：
在张网平台上预设坐标系；
将所述掩膜板框架置于所述张网平台上，获取所述第一对位点在所述坐标系中的第一实际位置；
对所述掩膜板框架进行框架位置校正，获取所述第一对位点在所述坐标系中的校正位置；
根据所述第一对位点的校正位置和第一实际位置得到补偿参数；
将所述掩膜单元与所述掩膜板框架连接，获取所述第二对位点在所述坐标系中的第二实际位置；
根据所述补偿参数对所述第二对位点进行位置补偿，得到所述第二对位点的补偿后位置；以及
根据所述第二对位点的补偿后位置和所述第一对位点的校正位置，对所述掩膜单元进行掩膜单元位置校正。


2.根据权利要求1所述的掩膜板张网方法，其特征在于，所述掩膜板框架中所述第一对位点的数量为多个，所述对所述掩膜板框架进行框架位置校正，获取所述第一对位点在所述坐标系中的校正位置包括：
预设所述第一对位点在所述坐标系中的标准位置；
预设模拟校正库，所述模拟校正库中预存多组模拟校正参数；
根据各组所述模拟校正参数对所述掩膜板框架进行模拟校正，得到多组模拟点阵，每组所述模拟点阵包括所述掩膜板框架中的各所述第一对位点的模拟校正位置；
获得各组所述模拟点阵分别对应的总偏差；
将所述总偏差最小的所述模拟点阵所包括的各所述第一对位点的模拟校正位置作为各所述第一对位点的所述校正位置。


3.根据权利要求2所述的掩膜板张网方法，其特征在于，所述掩膜板框架呈矩形，所述掩膜板框架中所述第一对位点的数量为四个并分别对应设置于所述掩膜板框架的四角，所述模拟校正参数包括角度模拟校正参数以及平移模拟校正参数；
优选地，所述角度模拟校正参数配置为将所述第一对位点以四个所述第一对位点的对角线交点为旋转中心进行顺时针旋转变换的旋转角度；所述平移模拟校正参数配置为将所述第一对位点进行平移变换的平移向量。


4.根据权利要求3所述的掩膜板张网方法，其特征在于，所述模拟校正库中预存的多组所述模拟校正参数的所述角度模拟校正参数的范围为-0.1°至0.1°。


5.根据权利要求3所述的掩膜板张网方法，其特征在于，所述坐标系为平面直角坐标系，所述坐标系包括相互垂直的第一坐标轴和第二坐标轴，所述补偿参数包括角度补偿参数、第一平移补偿参数以及第二平移补偿参数；
优选地，所述角度补偿参数配置为与所述总偏差最小的所述模拟点阵所对应的所述模拟校正参数的所述角度模拟校正参数相同；所述第一平移补偿参数配置为将所述第一对位点沿所述第一坐标轴平移补偿的数值；所述第二平移补偿参数配置为将所述第一对位点沿所述第二坐标轴平移补偿的数值。


...

【专利技术属性】
技术研发人员：余强根，卓林海，王亚，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河北;13