一种立体分子嵌入制备更易剥离的g-C制造技术

技术编号:24395220 阅读:126 留言:0更新日期:2020-06-06 03:26
本发明专利技术公开了一种立体分子嵌入制备更易剥离的g‑C

A kind of G-C which can be easily peeled off by intercalation of solid molecules

【技术实现步骤摘要】
一种立体分子嵌入制备更易剥离的g-C3N4的方法
本专利技术属于光催化材料
,尤其涉及立体分子嵌入制备更易剥离的g-C3N4的方法。
技术介绍
随着经济社会的持续发展,化石燃料的过度消耗引发了全球性的能源危机和环境污染。氢能可再生、无污染、能量密度高的特点使之成为极具利用价值的新能源。光催化裂解水技术是将太阳能转化为可储存的氢能最有前景的方法之一。g-C3N4是一种可见光响应型聚合物半导体,其带隙为2.7eV,具有许多优异的性能,例如良好的化学和热力学稳定性,低廉的价格以及制备简便等优点。g-C3N4引入光催化领域引起了广泛的公众关注,尽管g-C3N4的初始活性并不明显,但是它为有机光催化的研究打开了新的大门。在过去的几十年中,科学家们研究出了许多提升g-C3N4光催化裂解水产氢的方法,如:剥离、设计纳米结构、元素掺杂、构建异质结等,热氧化剥离是其中一种很常用并有效的手段。然而,由于g-C3N4层间的紧密堆叠,其剥离非常困难,仍然存在许多要解决的瓶颈,例如界面缺陷,光吸收下降,以及产率低(<6%)等。如果有一种减弱g-C3N本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种立体分子嵌入制备更易剥离的g-C

【技术特征摘要】
1.一种立体分子嵌入制备更易剥离的g-C3N4的方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将反应前驱物和具有立体结构的分子支架混合均匀后,进行高温煅烧合成得到块体改性g-C3N4;
所述反应前驱物为具有三嗪环结构的有机化合物或者可以通过缩聚反应生成三嗪环结构的有机化合物;
(2)以步骤(1)所得到的块体改性g-C3N4为原料,再进行热氧化剥离,得到改性g-C3N4纳米片。


2.如权利要1所述的立体分子嵌入制备更易剥离的g-C3N4的方法,其特征在于,所述步骤(1)高温煅烧合成的温度为520℃-550℃,反应时长1-4小时;所述步骤(2)中热氧化剥离的温度为520℃-550℃,剥离时间为1-3小时。


3.如权利要求1所述的立体分子嵌入制备更易剥离的g-C3N4的方法,其特征在于,步骤(1)中的反应前驱物为三聚氰胺或者双氰胺。


4.如权利要求1所述的立体分子嵌入制备更易剥离的g-C3N4的方法,其特征在于,所述具有立体结构的分子支架为尿囊素。


5.如权利要求1所述的立体分子嵌入制备更易剥离的g-C3N4的方法,其特征在于,所述具有立体结构...

【专利技术属性】
技术研发人员:寇佳慧周玲陆春华倪亚茹张方舒李玲沈岳松许仲梓
申请(专利权)人:南京工业大学南京环福新材料科技有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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