一种半导体清洗快排清洗治具制造技术

本实用新型专利技术涉及半导体生产测试领域的一种半导体清洗快排清洗治具，包括底座，底座上面配合设置有上连接部，上连接部的上面配合设置有清洗工作部，所述底座、上连接部及其清洗工作部呈中空形状设置；所述底座、上连接部及其清洗工作部中贯穿设置有储水槽，上连接部的侧面设置有快开门体，快开门体连接有滤网组件，滤网组件覆盖在上连接部内部；底座底部还配合设置有出水口；所述清洗工作部的内部配合设置有移动喷淋组件，所述移动喷淋组件自上到下设置有若干组；该实用新型专利技术通过可以上下移动及其各个方向转动的移动喷淋组件对元器件进行快速的清理，同时再通过快开门体拿出来，并将水快速的放掉，提高工作效率。

A kind of semiconductor cleaning jig

【技术实现步骤摘要】
一种半导体清洗快排清洗治具
本技术涉及半导体生产测试领域内的一种半导体清洗快排清洗治具。
技术介绍
现有技术中，元器件加工之后，需要用在清洗室内清洗，现有的清洗室内的喷嘴都是固定的，喷嘴只能清洗待清洗部件的某一部位，其它部位很难清洗，因此清洗效果不好；现有工艺中通常采用带有超声波清洗功能的清洗机对产品进行清洗，在清洗过程中，主要是将产品直接放入超声波清洗机的清洗槽中，利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清除产品表面残胶的目的；超声波清洗机并不能完全将产品上的残胶清除干净，且于清洗完毕后，操作人员也很难将产品自清洗槽中拿取，操作很不方便。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种半导体清洗快排清洗治具，该技术通过可以上下移动及其各个方向转动的移动喷淋组件对元器件进行快速的清理，同时再通过快开门体拿出来，并将水快速的放掉，提高工作效率。本技术的目的是这样实现的：一种半导体清洗快排清洗治具，包括底座，底座上面配合设置有上连接部，上连接部的上面配合设置有清洗工作部，其特征在于，所述底座、上连接部及其清洗工作部呈中空形状设置；所述底座、上连接部及其清洗工作部中贯穿设置有储水槽，上连接部的侧面设置有快开门体，快开门体连接有滤网组件，滤网组件覆盖在上连接部内部；底座底部还配合设置有出水口；所述清洗工作部的内部配合设置有移动喷淋组件，所述移动喷淋组件自上到下设置有若干组。本技术工作时，操作人员打开快开门体，将需要清洗的元器件放在滤网组件上然后关闭快开门体，接着打开两侧的移动喷淋组件对放置在滤网组件上的待清洗的元器件进行清洗，清洗的时候，移动喷淋组件可以进行上下移动同时也可以进行转动，这样可以全方位的进行清洗，提高工作效率。本技术的有益效果在于，该技术通过可以上下移动及其各个方向转动的移动喷淋组件对元器件进行快速的清理，同时再通过快开门体拿出来，并将水快速的放掉，提高工作效率。作为本技术的进一步改进，为保证需要清洗的元器件被彻底的清洗干净，提高清洗效率；所述移动喷淋组件分别设置在清洗工作部的两侧并分别为左侧工作部和右侧工作部；左侧工作部和右侧工作部的移动喷淋组件各设置有两组并对称设置。作为本技术的进一步改进，为保证需要进行清理的元器件被清洗的效率较高，同时被清理干净；所述移动喷淋组件包括上侧喷淋组件和下侧喷淋组件，上侧喷淋组件包括上侧固定部，设置在上侧固定部上的上侧喷淋管，上侧喷淋管和上侧固定部之间设置有上侧转动组件。作为本技术的进一步改进，为保证下侧喷淋组件能够进行上下移动，确保较好的清洗效果；所述下侧喷淋组件包括下侧固定部，设置在下侧固定部上的下侧喷淋管、设置在清洗工作部内侧的上下移动轨道；所述下侧固定部配合上下移动轨道设置。作为本技术的进一步改进，为保证上侧喷淋管和下侧喷淋管可以适当的进行转动，提高喷淋效果；所述上侧固定部和上侧喷淋管、下侧固定部和下侧喷淋管之间分别设置转动组件，所述转动组件包括分别设置在上侧喷淋管、下侧喷淋管上的转动轨道，配合转动轨道设置的转动轮；转动配合转动轨道设置。附图说明图1为本技术的立体图。图2为本技术的主视图。图3为转动组件的主视图。其中，1底座、2上连接部、3清洗工作部、4滤网组件、5下侧喷淋管、6上侧喷淋管、7上侧固定部、8下侧固定部、9上下移动轨道、10出水口、11转动轮、12转动轨道、13快开门体。具体实施方式如图1-3所示，本技术的目的是这样实现的：一种半导体清洗快排清洗治具，包括底座1，底座1上面配合设置有上连接部2，上连接部2的上面配合设置有清洗工作部3，所述底座1、上连接部2及其清洗工作部3呈中空形状设置；所述底座1、上连接部2及其清洗工作部3中贯穿设置有储水槽，上连接部2的侧面设置有快开门体13，快开门体13连接有滤网组件4，滤网组件4覆盖在上连接部2内部；底座1底部还配合设置有出水口10；所述清洗工作部3的内部配合设置有移动喷淋组件，所述移动喷淋组件自上到下设置有若干组；所述移动喷淋组件分别设置在清洗工作部3的两侧并分别为左侧工作部和右侧工作部；左侧工作部和右侧工作部的移动喷淋组件各设置有两组并对称设置；所述移动喷淋组件包括上侧喷淋组件和下侧喷淋组件，上侧喷淋组件包括上侧固定部7，设置在上侧固定部7上的上侧喷淋管6，上侧喷淋管6和上侧固定部7之间设置有上侧转动组件；所述下侧喷淋组件包括下侧固定部8，设置在下侧固定部8上的下侧喷淋管5、设置在清洗工作部3内侧的上下移动轨道9；所述下侧固定部8配合上下移动轨道9设置；所述上侧固定部7和上侧喷淋管6、下侧固定部8和下侧喷淋管5之间分别设置转动组件，所述转动组件包括分别设置在上侧喷淋管6、下侧喷淋管5上的转动轨道12，配合转动轨道12设置的转动轮11；转动配合转动轨道12设置。本技术工作时，操作人员打开快开门体13，将需要清洗的元器件放在滤网组件4上然后关闭快开门体13，接着打开两侧的上侧喷淋管6和下侧喷淋管5对放置在滤网组件4上的待清洗的元器件进行清洗，清洗的时候，上侧喷淋管6通过转动轨道12进行各个角度的喷淋，而下侧喷淋管5可以通过上下移动轨道9进行上下移动，这样可以全方位的进行清洗，提高工作效率。本技术并不局限于上述实施例，在本技术公开的技术方案的基础上，本领域的技术人员根据所公开的
技术实现思路
，不需要创造性的劳动就可以对其中的一些技术特征作出一些替换和变形，这些替换和变形均在本技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体清洗快排清洗治具，包括底座，底座上面配合设置有上连接部，上连接部的上面配合设置有清洗工作部，其特征在于，所述底座、上连接部及其清洗工作部呈中空形状设置；所述底座、上连接部及其清洗工作部中贯穿设置有储水槽，上连接部的侧面设置有快开门体，快开门体连接有滤网组件，滤网组件覆盖在上连接部内部；底座底部还配合设置有出水口；所述清洗工作部的内部配合设置有移动喷淋组件，所述移动喷淋组件自上到下设置有若干组。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体清洗快排清洗治具，包括底座，底座上面配合设置有上连接部，上连接部的上面配合设置有清洗工作部，其特征在于，所述底座、上连接部及其清洗工作部呈中空形状设置；所述底座、上连接部及其清洗工作部中贯穿设置有储水槽，上连接部的侧面设置有快开门体，快开门体连接有滤网组件，滤网组件覆盖在上连接部内部；底座底部还配合设置有出水口；所述清洗工作部的内部配合设置有移动喷淋组件，所述移动喷淋组件自上到下设置有若干组。


2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗快排清洗治具，其特征在于：所述移动喷淋组件分别设置在清洗工作部的两侧并分别为左侧工作部和右侧工作部；左侧工作部和右侧工作部的移动喷淋组件各设置有两组并对称设置。


3.根据权利要求1所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：向俊武，周游，陈小跃，陈浩，
申请(专利权)人：安测半导体技术江苏有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32