一种用于半导体加工设备的加工腔室制造技术

技术编号:24303569 阅读:44 留言:0更新日期:2020-05-26 22:46
本实用新型专利技术公开了一种用于半导体加工设备的加工腔室,包括机架,所述机架的前部设置有传送带,传送带上设置有限位板,限位板为橡胶材质;所述传送带的前侧设置有加工台,加工台的两侧分别设置有等离子体刻蚀器,等离子体刻蚀器包括转向装置、气吸装置和加工腔;本用于半导体加工设备的加工腔室,通过设置的机架、传送带、限位板、加工台、加工腔、固定架、转向电机、转向装置、转架、等离子体刻蚀器、气吸装置、气泵、气吸盘和气缸的结构,不仅通过使用两组等离子体刻蚀器的配合,大大方便了对晶圆的高效上下料;而且实现了和传送带的高效配合,大大力高了操作效率;同时结构简单,使用方便。

A processing chamber for semiconductor processing equipment

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体加工设备的加工腔室
本技术涉及半导体加工设备的加工腔室领域,具体是一种用于半导体加工设备的加工腔室。
技术介绍
半导体是一种电导率在绝缘体至导体之间的物质,其电导率容易受控制,可作为信息处理的元件材料。从科技或是经济发展的角度来看,半导体非常重要。很多电子产品,如计算机、移动电话、数字录音机的核心单元都是利用半导体的电导率变化来处理信息。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等,而硅更是各种半导体材料中,在商业应用上最具有影响力的一种。在对半导体晶圆进行等离子刻蚀加工时,通常都需要晶圆装入加工腔,而现有的加工腔又都是单一布置的方式,这很不便于进行装料和下料;同时现有的装料设备只是使用单一的操作结构,不能很好地配合传送带进行高效上下料;这些问题使得专利技术一种半导体加工设备的加工腔室成为需要。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于半导体加工设备的加工腔室,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种用于半导体加工设备的加工腔室,包括机架,所述机架的前部设置有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于半导体加工设备的加工腔室,包括机架(1),其特征在于,所述机架(1)的前部设置有传送带(2),传送带(2)上设置有限位板(3),限位板(3)为橡胶材质;所述传送带(2)的前侧设置有加工台(4),加工台(4)的两侧分别设置有等离子体刻蚀器(10),等离子体刻蚀器(10)包括转向装置(8)、气吸装置(11)和加工腔(5),所述转向装置(8)包括固定架(6)、转向电机(7)和转架(9),所述固定架(6)通过螺栓螺母固定在机架(1)上;转向电机(7)通过螺栓螺母竖向固定在固定架(6)上;转向电机(7)的上侧设置有转架(9),转架(9)通过螺栓螺母和转向电机(7)的转轴固定连接;所述转架(9...

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体加工设备的加工腔室,包括机架(1),其特征在于,所述机架(1)的前部设置有传送带(2),传送带(2)上设置有限位板(3),限位板(3)为橡胶材质;所述传送带(2)的前侧设置有加工台(4),加工台(4)的两侧分别设置有等离子体刻蚀器(10),等离子体刻蚀器(10)包括转向装置(8)、气吸装置(11)和加工腔(5),所述转向装置(8)包括固定架(6)、转向电机(7)和转架(9),所述固定架(6)通过螺栓螺母固定在机架(1)上;转向电机(7)通过螺栓螺母竖向固定在固定架(6)上;转向电机(7)的上侧设置有转架(9),转架(9)通过螺栓螺母和转向电机(7)的转轴固定连接;所述转架(9)上设置有多个气吸装置(11);所述气吸装置(11)包括气缸(14)、气泵(12)和气吸盘(13),所述气缸(14)通过螺栓螺母竖向固定在转架(9)上,气缸(14)的下侧设置有气吸盘(13);气吸盘(13)通过螺栓螺母固定在气缸(14)的气压推杆上;气吸盘(13)通过导气管和气泵(12)连接;所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:李盘山胡艳丽
申请(专利权)人:江苏智控电气设备有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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