【技术实现步骤摘要】
用于离子束抛光机的离子源五轴跟踪机构及光学零件加工设备
本技术属于离子束抛光机
，具体涉及一种用于离子束抛光机的离子源五轴跟踪机构及光学零件加工设备。
技术介绍
离子束抛光是近年才出现的一种高精密光学零件加工的技术，它的加工原理是把离子束聚焦到工件要加工的表面上，通过离子轰出表面原子，从而去除材料。如果要实现对零件表面进行精准去除，就要求离子束的焦点精准对位去除点。并且离子束的光轴方向要和零件加工面上该点的法线方向(法向)一致。因此需要一套法线跟踪系统，以保证离子束的光轴方向与零件加工面上的该点的法线方向一致。而目前用于离子抛光机的离子源只能够沿着X、Y和Z轴三维空间进行运动，所以造成加工面型单一，对于平面光学元件，可以较完整的去除磨光，但是对于球面和非球面，去除效率有限，并且去除效果不佳。
技术实现思路
本技术为了解决现有三轴离子抛光机对于球面和非球面光学元件抛光效果不佳的问题，而提供一种用于离子束抛光机的离子源五轴跟踪机构及光学零件加工设备，能够实现对法向的跟踪，从而保证加工过程中离...
【技术保护点】
1.一种用于离子束抛光机的离子源五轴跟踪机构，其特征在于，所述五轴跟踪机构包括X向移动机构，所述X向移动机构上设置有Y向移动机构，所述Y向移动机构上设置有Z向移动机构，所述Z向移动机构上连接有回转台，所述回转台上安装两个沿着回转台对称设置的圆弧滑轨，所述圆弧滑轨配设有能够在圆弧滑轨上滑动的滑块，离子源连接在两个滑块之间，所述离子源的中心轴线与回转台的中心共线。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于离子束抛光机的离子源五轴跟踪机构，其特征在于，所述五轴跟踪机构包括X向移动机构，所述X向移动机构上设置有Y向移动机构，所述Y向移动机构上设置有Z向移动机构，所述Z向移动机构上连接有回转台，所述回转台上安装两个沿着回转台对称设置的圆弧滑轨，所述圆弧滑轨配设有能够在圆弧滑轨上滑动的滑块，离子源连接在两个滑块之间，所述离子源的中心轴线与回转台的中心共线。
2.根据权利要求1所述的用于离子束抛光机的离子源五轴跟踪机构，其特征在于，所述回转台配设有用于带动回转台转动的旋转法兰，所述旋转法兰的轴线与两个圆弧滑轨的中心连接线的交点与离子源发出的离子束的焦点重合。
3.根据权利要求2所述的用于离子束抛光机的离子源五轴跟踪机构，其特征在于，所述Z向移动机构上安装有支撑装置，所述支撑装置上配设有用于带动旋转法兰转动的驱动装置。
4.根据权利要求3所述的用于离子束抛光机的离子源五轴跟踪机构，其特征在于，所述回转台上安装有驱动电机，所述驱动电机的输出轴上连接有传动齿轮，所述圆弧滑轨远离滑块的一侧面上设置有与传动齿轮相互啮合的啮合齿条。
5.根据权利要求4所述的用于离子束抛光机的离子源五轴跟踪机构，其特征在于，所述驱动电机为真空伺服电机，所述真空伺服电机和...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋毅，范松如，王玉鲁，
申请(专利权)人：四川欧瑞特光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51
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