一种集群磁流变研磨抛光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种集群磁流变研磨抛光装置，包括：抛光盘，抛光盘的底面设有至少一个凹槽，凹槽内设有抛光吸附垫，抛光吸附垫设有至少一个工件承置槽；抛光盘的侧壁与底面形成用于盛放磁流变抛光液的腔体；磁流变抛光液的磨料包括纳米磨料粒子、结合剂和微米磁性颗粒，纳米磨料粒子在结合剂的作用下包裹在微米磁性颗粒的外表面；设于抛光盘的下方的至少一个磁铁组件，每个磁铁组件均包括至少两个按预设规律排布的磁铁，以使磁流变抛光液形成的柔性抛光垫完全覆盖工件的表面；与磁铁组件相连、用于驱动磁铁组件自转及公转的磁极驱动装置；支撑装置，抛光盘高度可调的设于支撑装置上。

A cluster MRF grinding and polishing device

【技术实现步骤摘要】
一种集群磁流变研磨抛光装置
本技术涉及抛光设备
，更具体地说，涉及一种集群磁流变研磨抛光装置。
技术介绍
在光学元件、半导体晶片、LED基板及液晶显示板等
，通常采用磁流变抛光技术对工件进行抛光加工，以满足光学元件及半导体基片的平面平坦化需求。磁流变抛光技术的抛光效果好，不会对工件表面造成次表面损伤，尤其适用于硬脆材料的超精密加工。集群磁流变抛光的原理是：基于磁流变效应，在磁流变液中加入磨料粒子形成抛光液，以小尺寸磁性体为基体形成磁流变效应，游离磨料被俘获、约束、聚集在呈链状分布的磁性粒子之间形成“微磨头”；在集群作用下多点磁流变效应“微磨头”阵列组合构成柔性抛光垫，以对工件表面进行研磨抛光。现有技术中的集群磁流变研磨抛光装置，通常包括抛光盘、集群磁性体、磁流变抛光工作液、抛光头主轴以及装夹装置。集群磁性体均匀分布于抛光盘的下方，用于使磁流变抛光工作液在磁场作用下产生磁流变微磨头；抛光头主轴用于设置工件，装夹装置用于装夹抛光头主轴，抛光头主轴和装夹装置设于抛光盘上方，工作时，抛光头主轴带动工件转动，同本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，包括：/n抛光盘(1)，所述抛光盘(1)的底面设有至少一个凹槽，所述凹槽内设有用于设置工件(01)的抛光吸附垫(6)，所述抛光吸附垫(6)设有至少一个用于容纳工件(01)的工件承置槽；所述抛光盘(1)的侧壁与所述底面形成用于盛放磁流变抛光液(91)的腔体，以使所述磁流变抛光液(91)完全浸过工件(01)表面；所述磁流变抛光液(91)的磨料包括纳米磨料粒子、结合剂和微米磁性颗粒，所述纳米磨料粒子在所述结合剂的作用下包裹在所述微米磁性颗粒的外表面；/n设于所述抛光盘(1)的下方、用于为所述磁流变抛光液(91)提供磁场的至少一个磁铁组件(2)，每个所述磁铁...

【技术特征摘要】
1.一种集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，包括：
抛光盘(1)，所述抛光盘(1)的底面设有至少一个凹槽，所述凹槽内设有用于设置工件(01)的抛光吸附垫(6)，所述抛光吸附垫(6)设有至少一个用于容纳工件(01)的工件承置槽；所述抛光盘(1)的侧壁与所述底面形成用于盛放磁流变抛光液(91)的腔体，以使所述磁流变抛光液(91)完全浸过工件(01)表面；所述磁流变抛光液(91)的磨料包括纳米磨料粒子、结合剂和微米磁性颗粒，所述纳米磨料粒子在所述结合剂的作用下包裹在所述微米磁性颗粒的外表面；
设于所述抛光盘(1)的下方、用于为所述磁流变抛光液(91)提供磁场的至少一个磁铁组件(2)，每个所述磁铁组件(2)均包括至少两个按预设规律排布的磁铁(21)，以使所述磁流变抛光液(91)形成的柔性抛光垫完全覆盖工件(01)的表面；
与所述磁铁组件(2)相连、用于驱动所述磁铁组件(2)自转及公转的磁极驱动装置；
用于设置所述抛光盘(1)、所述磁铁组件(2)和所述磁极驱动装置的支撑装置，所述抛光盘(1)高度可调的设于所述支撑装置上，以通过调整所述抛光盘(1)的高度来改变所述抛光盘(1)与所述磁铁组件(2)之间的间隙，以调整抛光压力。


2.根据权利要求1所述的集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，所述磁极驱动装置包括：
用于输出旋转运动的旋转驱动装置；
与所述旋转驱动装置的输出主轴(31)相连的主动外齿轮(32)；
与所述主动外齿轮(32)同轴设置的内齿轮(33)；
分别与所述主动外齿轮(32)和所述内齿轮(33)啮合传动的行星齿轮(34)，所述行星齿轮(34)的数量与所述磁铁组件(2)的数量相同，所述磁铁组件(2)与所述行星齿轮(34)一一对应相连。


3.根据权利要求2所述的集群磁流变研磨抛光装置，其特征在于，每个所述磁铁组件(2)均还包括磁铁保持架(22)，所述磁铁保持架(22)设有：

【专利技术属性】
技术研发人员：张棋翔，潘继生，阎秋生，
申请(专利权)人：广东工业大学，
类型：新型
国别省市：广东;44