一种满足高环境要求的隧道清污分离排水沟制造技术

技术编号:24257563 阅读:56 留言:0更新日期:2020-05-23 11:00
本实用新型专利技术公开一种满足高环境要求的隧道清污分离排水沟,包括若干第一预制件和第二预制件以及若干第一盖板和第二盖板,第一预制件为U型,若干第一预制件沿隧道纵向拼接形成污水暗沟,第二预制件为L型,若干第二预制件沿隧道纵向拼接后与隧道衬砌结构之间形成电缆沟,第一预制件左侧壁与第二预制件侧壁以及隧道衬砌结构之间形成清水暗沟,第一盖板沿隧道纵向依次设置在污水暗沟和清水暗沟上,第二盖板沿隧道纵向依次设置电缆沟上,相比于现有技术,其隧道清污分离排水沟能够满足隧道施工与运营阶段清污分离的要求,尤其是对于污水量极大地特长及超长隧道施工,单独排出污水后进行净化处理,净化后的水可以重复利用,满足高环境要求。

A kind of tunnel sewage removal and separation drainage ditch meeting high environmental requirements

【技术实现步骤摘要】
一种满足高环境要求的隧道清污分离排水沟
本技术涉及隧道及地下工程
,尤其涉及一种满足高环境要求的隧道清污分离排水沟。
技术介绍
隧道排水与隧道建设及运营的正常推进和安全息息相关,《公路隧道设计规范》中规定:“采取的隧道防排水措施,应注意保护自然环境”;“隧道洞内宜按地下水与运营清洗污水、消防污水分离排放的原则设置纵向排水系统”。在高环境要求的地区,施工、运营及消防污水不允许直接排放,必须经过处理后再利用或者异地排放,因此,需要在隧道内单独设置沟槽引排污水,尤其对于特长及超长隧道,污水体量大,需要较强的污水排放处理系统。
技术实现思路
本技术的目的在于针对已有的技术现状,提供一种满足高环境要求的隧道清污分离排水沟。为达到上述目的,本技术采用如下技术方案:一种满足高环境要求的隧道清污分离排水沟,包括若干第一预制件和第二预制件以及若干第一盖板和第二盖板,第一预制件为U型,若干第一预制件沿隧道纵向拼接形成污水暗沟,污水暗沟的坡度与隧道纵坡一致,第二预制件为L型,若干第二预制件沿隧道纵向拼接后与隧道衬砌结构之间形成电本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种满足高环境要求的隧道清污分离排水沟,其特征在于:包括若干第一预制件(10)和第二预制件(2)以及若干第一盖板(3)和第二盖板(1),第一预制件(10)为U型,若干第一预制件(10)沿隧道纵向拼接形成污水暗沟,污水暗沟的坡度与隧道纵坡一致,第二预制件(2)为L型,若干第二预制件(2)沿隧道纵向拼接后与隧道衬砌结构之间形成电缆沟,第一预制件(10)左侧壁与第二预制件(2)侧壁以及隧道衬砌结构之间形成清水暗沟,清水暗沟与纵向排水管(5)通过若干横向导水管(6)连通,第一盖板(3)沿隧道纵向依次设置在污水暗沟和清水暗沟上,第二盖板(1)沿隧道纵向依次设置电缆沟上,第一盖板(3)位于污水暗沟上方...

【技术特征摘要】
1.一种满足高环境要求的隧道清污分离排水沟,其特征在于:包括若干第一预制件(10)和第二预制件(2)以及若干第一盖板(3)和第二盖板(1),第一预制件(10)为U型,若干第一预制件(10)沿隧道纵向拼接形成污水暗沟,污水暗沟的坡度与隧道纵坡一致,第二预制件(2)为L型,若干第二预制件(2)沿隧道纵向拼接后与隧道衬砌结构之间形成电缆沟,第一预制件(10)左侧壁与第二预制件(2)侧壁以及隧道衬砌结构之间形成清水暗沟,清水暗沟与纵向排水管(5)通过若干横向导水管(6)连通,第一盖板(3)沿隧道纵向依次设置在污水暗沟和清水暗沟上,第二盖板(1)沿隧道纵向依次设置电缆沟上,第一盖板(3)位于污水暗沟上方处设有弧形截水凹槽,弧形截水凹槽的底部沿隧道纵向均匀设有若干泄水孔(11)。


2.根据权利要求1所述的一种满足高环境要求的隧道清污分离排水沟,其特征在于:还包括若干中间盖板(8),所述第一预制件(10)左侧外壁上设有梯形凸起,中间盖板(8)两端分别搁...

【专利技术属性】
技术研发人员:程勇彭文波李昕高抗蹇宜霖郑聪高翔邹小新宋梓栋
申请(专利权)人:中交第二公路勘察设计研究院有限公司
类型:新型
国别省市:湖北;42

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