研磨清洁的改良装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种研磨清洁的改良装置，其系包括有一载台及研磨组件，载台系具有一平面用于承载一产品，研磨组件系设置于产品之上方，并具有一转轴，转轴之一端系设置有一无尘布，当转轴旋转时，系通过无尘布对该产品进行研磨清洁，本发明专利技术所揭露之载台系同时设计有一正压区与一负压区，其中，正压区系对应设置于产品之外轮廓，负压区系对应设置于载台之中心区域，以真空吸附产品。本发明专利技术系藉由在产品之外轮廓附近形成有一气墙，并且通过所形成之气墙，达到阻绝清洁过程中无尘布内溶剂的渗入，并避免该溶剂污染产品，有效提升产品的清洁良率。

Improved device for grinding and cleaning

【技术实现步骤摘要】
研磨清洁的改良装置
本专利技术系有关于一种研磨清洁装置，特别是一种设计有正负压一体之承载平台结构的研磨清洁改良装置。
技术介绍
一般而言，现有技术在研磨清洁过程中，产品依靠载台真空吸附而进行清洁时，含溶剂的无尘布在产品与研磨对象的挤压下，常会导致溶剂的渗出，并且在载台真空吸附的情况下，使得溶剂会沿着产品的非清洁面，而吸附到载台中的真空腔(vacuumcavity)，在产品取片载台转正压时，溶剂从真空腔吹到产品的非清洁面，进而造成对产品的污染，而大大地影响到产品的可靠度(reliability)、品质(quality)甚至功能(function)。举例来说，一现有技术有揭露一种玻璃基板支撑平台和玻璃基板宏观检查装置，其中，玻璃基板支撑平台包括框架，并排设置在所述框架上的多根横梁、以及连接在所述横梁上的多个吸盘。另有一现有技术揭露一种无接触输运与定位平台装置及控制方法，该装置包括运输平台、位于运输平台下方的固定平台、以及位于固定平台下方的基座。其中，所述的固定平台通过固定平台支撑与基座连接，并且在运输平台上设有若干个凹槽。值得注意的是，上述目前已知的这些现有技术，皆系仅仅教示出习见常用的真空吸盘，其系仅是以常见的吸嘴来替代真空孔，藉此达到减少产品接触面积的目的。甚或，现有技术是利用非接触式的运输平台，依靠正压支撑产品移载。然而，以实际的应用层面看来，这些现有的技术方案皆对提升实际产品的可靠度、品质、或功能等良率方面并无有效且显著的贡献。是以，有鉴于此，本专利技术人系有感于上述缺失之可改善，且依据多年来从事此方面之相关经验，悉心观察且研究之，并配合学理之运用，而提出一种设计新颖且有效改善上述缺失之本专利技术，其系揭露一种具有正负压一体之承载平台结构的研磨清洁改良装置，其具体之架构及实施方式将详述于下。
技术实现思路
为解决习知技术存在的问题，本专利技术之一目的系在于提供一种研磨清洁的改良装置，其系针对现行的研磨清洁装置设计作一改良，相较于习知结构，此种新颖的研磨清洁改良装置系有助于提供较佳的产品清洁质量并有效提升其产品良率。本专利技术之又一目的系在于提供一种研磨清洁的改良装置，其系藉由在承载产品的平台上同时形成一正压区与一负压区，以在邻近产品之外轮廓附近形成有一气墙，并藉由该气墙阻绝清洁过程中无尘布内的溶剂之渗入，由此避免该溶剂污染产品，达到有效提升产品的清洁良率之目的。本专利技术之再一目的系在于提供一种研磨清洁的改良装置，利用此种研磨清洁的改良装置，仅需通过此正负压一体的载台设计，一方面可利用其中心区域的负压区吸附产品，同时开启正压，以在产品的外轮廓附近形成气墙，目前已知本专利技术可广泛应用于大部分的研磨清洁相关产业，具有极高的产业应用性。鉴于以上，本专利技术系揭露一种研磨清洁的改良装置，适于清洁一产品，并提升该产品的清洁良率。此种研磨清洁的改良装置包括有：一载台，系具有一平面用于承载该产品；以及一研磨组件，其系设置于产品之上方，以透过所述的研磨组件对该产品进行清洁，其中，载台系同时设计有一正压区与一负压区，所述的正压区系对应设置于该产品之外轮廓，负压区系对应设置于该载台之中心区域。详细而言，本专利技术所揭露之研磨组件系具有一转轴，该转轴之一端系设置有一无尘布，因此，当转轴旋转时，研磨组件便可通过所述的无尘布接触产品，以对产品进行研磨清洁。其中，无尘布中系溶有清洁该产品用的溶剂。缘此，本专利技术主要系藉由在其载台设计有对应产品外轮廓的正压区，以在产品之外轮廓附近形成所述的气墙，并且通过该气墙阻绝清洁过程中无尘布内的溶剂渗入并污染该产品。根据本专利技术之一实施例，其中，所述的正压区系邻近成形于产品之侧边，且落在其外轮廓之内。正压区系可包含有复数个正压孔，以通过该些正压孔开启正压。举例而言，正压区的范围例如可为一环型槽。另一方面而言，根据本专利技术之一实施例，其中，所述的负压区系可包含复数个真空孔，并通过该些真空孔开启负压，并吸附产品。是以，藉由此等新颖的创新设计，本专利技术所揭露之研磨清洁的改良装置，自然可利用其正压区所形成的气墙，阻绝溶剂的渗入与污染，由此解决先前技术中所存在的缺失，并提升产品的清洁质量及其良率。更进一步而言，所述的正压区系连接有一第一气压源，此第一气压源可包含有至少一电磁阀或调压阀，以利用该电磁阀或调压阀控制正压的开关与大小。其中，此第一气压源与所述的正压区之间系具有至少一进气软管，以透过该进气软管提供正压。同样地，所述的负压区亦可选择性地连接至一第二气压源，此第二气压源可包含有至少一电磁阀或调压阀，以利用该电磁阀或调压阀控制负压的开关与大小。其中，所述的第二气压源与负压区之间可具有至少一出气软管，以透过该出气软管提供负压。以下，本专利技术系藉由具体实施例配合所附的附图详加说明，当可使本领域之人士更容易了解本专利技术之目的、
技术实现思路
、特点及其所达成之功效。附图说明图1系为根据本专利技术一实施例研磨清洁的改良装置之结构示意图。图2系为根据本专利技术一实施例之正负压一体的载台结构之侧视图。图3系为根据本专利技术一实施例之正负压一体的载台结构之上视图。图4系为根据本专利技术第3图所示之载台用以承载产品后之示意图。图5系为根据本专利技术一实施例具有正压孔及真空孔之正负压一体的载台结构之示意图。附图标记：10载台12平面20产品22正压区24负压区30研磨组件31转轴33无尘布44真空孔55正压孔具体实施方式以上有关于本专利技术的内容说明，与以下的实施方式系用以示范与解释本专利技术的精神与原理，并且提供本专利技术的专利申请范围更进一步的解释。有关本专利技术的特征、实作与功效，兹配合附图作较佳实施例详细说明如下。为了有效解决先前技术所提，由于现有技术在产品的研磨清洁过程中，多因清洁溶剂的渗出而造成产品的污染；促使本专利技术遂针对此目标提出一种较佳的改良设计，其系为一种研磨清洁的改良装置。其中，为了能更佳地理解本专利技术所述之
技术实现思路
，首先，请先参阅图1所示结构，其系为根据本专利技术一实施例研磨清洁的改良装置之结构示意图，如图所示，此研磨清洁的改良装置系包括一载台10，该载台10系具有一平面12，可用于承载一产品20，一研磨组件30系设置于产品20之上方，研磨组件30具有一转轴31，转轴31之一端系设置有一无尘布33，无尘布33中系溶有用以清洁产品20用的一溶剂(solvent)。因此，当转轴31开始旋转时，研磨组件30便可通过该溶有溶剂的无尘布33接触于该产品20，并对产品20进行研磨清洁。为了避免溶剂在研磨清洁过程中对产品造成污染，本专利技术系设计载台10系为一种具有正负压一体的改良结构，请一并参阅图2至图4所示结构之示意图，其中，图2系为根据本专利技术一实施例之正负压一体的载台结构之侧视图，图3系为根据本专利技术一实施例之正负压一体的载台结构之上视图，图4系为根据图3所示之载台用以承载产品后之示意图；本专利技术系根据该等图示据此进行详细之说明，其本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种研磨清洁的改良装置，适于清洁一产品，并提升该产品的清洁良率，其特征在于，该改良装置系包括：/n一载台，系具有一平面用于承载该产品；以及/n一研磨组件，其系设置于该产品之上方，以透过该研磨组件对该产品进行清洁，其中，该载台系具有一正压区与一负压区，该正压区系对应设置于该产品之外轮廓，该负压区系对应设置于该载台之中心区域，以在该产品之该外轮廓附近形成有一气墙，并藉由该气墙阻绝清洁过程中一溶剂渗入并污染该产品。/n

【技术特征摘要】
1.一种研磨清洁的改良装置，适于清洁一产品，并提升该产品的清洁良率，其特征在于，该改良装置系包括：
一载台，系具有一平面用于承载该产品；以及
一研磨组件，其系设置于该产品之上方，以透过该研磨组件对该产品进行清洁，其中，该载台系具有一正压区与一负压区，该正压区系对应设置于该产品之外轮廓，该负压区系对应设置于该载台之中心区域，以在该产品之该外轮廓附近形成有一气墙，并藉由该气墙阻绝清洁过程中一溶剂渗入并污染该产品。


2.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该正压区系包括复数个正压孔，以通过该些正压孔开启正压。


3.如权利要求2所述之研磨清洁的改良装置，其中，该正压区系邻近成形于该产品之侧边，且落在该外轮廓之内。


4.如权利要求2所述之研磨清洁的改良装置，其中，该正压区的范围系为一环型槽。


5.如权利要求1所述之研磨清洁的改良装置，其中，该负压区系包括复数个真空孔，以通过该些真空孔开启负压，并吸附该产品。


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【专利技术属性】
技术研发人员：贾先东，
申请(专利权)人：业成科技成都有限公司，业成光电深圳有限公司，英特盛科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51