【技术实现步骤摘要】
本专利技术有关于清洁方法及其系统，尤指一种处理产品上的残胶清洁方法及其系统。
技术介绍
1、传统上，已有数种残余物的清除技术，用来去除产品表面的污染物。这些清除技术包含了超音波清洁、溶剂擦拭、高温清除、电浆清洁等。其中超音波清洗的方式，乃利用震动组件产生超音波频率，用以震荡作为介质的液体，使得液体发生空蚀现象产生许多的气泡，当气泡碰到产品表面而破裂时，瞬间产生高压及超声波振动，使产品表面的污垢脱落，达到清洁效果，但是大部分的电子产品并不适合浸泡在液体中以超音波进行清洁。
2、又，溶剂擦拭的方式，则是在擦拭布上沾上溶剂，使用擦拭布擦除产品表面的污染物，在擦除的过程中可能损伤及污染产品，很容易造成待清洁物表面造成难以复原的破坏，而且使用的溶剂可能不符合环保要求，例如：紫外光胶溢流到产品表面，可使用擦拭布蘸上丙酮或酒精后，对产品的紫外光胶溢流处进行擦拭，但是擦拭后，从外观看来已经清除残胶，但是实际上在产品表面上形成残胶薄膜或溶剂残留有这些物质，则会妨碍所有后续的处理步骤，特别是会严重妨碍所有粘合与涂覆。
3、再者，利用高温加热的方式，则是将产品整体一起加温到超过胶体热融软化温度，藉以破坏胶体的化学接合结构，但这样加热的温度与产品的受热条件有关，若产品的受热条件无法承受破坏胶体的加热温度，即无法使用此方法。此外，产品其他已经黏合在一起的部位，也可能一起被弱化黏着力，造成产品发生黏接不良的问题。
4、又，电浆清洁方式，则是利用电浆与产品表面接触并与杂质发生化学反应，将非挥发性有机化合物转化为挥发性形式，
5、据上所述，传统对于产品表面清洁方式各有其问题存在，尤其是如何让产品在进行残胶污物的处理的同时，可以保持产品表面改质的能力，将是目前亟待解决的问题。
技术实现思路
1、有鉴于先前技术的问题，本专利技术之目的为产品清洁与改质的程序于同一个步骤中完成，本专利技术的另一个目的为提供产品同时进行清洁与改质的系统。
2、根据本专利技术之目的，提供一种残胶清洁系统，包括机台、进料输送模块、进料搬运模块、清洗运载模块、光清洗模块、出料搬运模块及出料输送模块，进料输送模块设在机台上且衔接前一个制程设备的位置，并接收完成前一个制程设备完成处理作业后的待清洁产品，进料搬运模块设在机台对应取得与卸除待清洁产品之间的位置，并从进料输送模块取得及搬运待清洁产品，清洗运载模块设在机台上清洁行程路线，清洁行程路线为进料搬运模块卸除待清洁产品的位置到待清洁产品完成清洁的位置，光清洗模块系设在机台对应于清洁行程路线的中途位置，光清洗模块在中途位置覆盖待清洁产品，并使用其所设的紫外光照射待清洁产品，待清洁产品上的残胶受紫外光照射，而反应生成气体及无黏性物质，从而形成已清洁产品，清洗运载模块再继续运送已清洁产品到卸除位置，出料搬运模块设在机台上取得及卸除已清洁产品的位置之间，出料搬运模块从清洗运载模块的卸除位置取得已清洁产品，并将已清洁产品搬运到卸除已清洁产品的位置，而出料输送模块则设在机台上于卸除已清洁产品的位置到进入下一个制程设备之前的位置，出料输送模块接收出料搬运模块搬运的已清洁产品，并将已清洁产品往下一个制程设备输送。
3、其中，机台包括机架、复数个移动轮及复数个支撑脚架，机架的顶面为平台，各移动轮系设在机架的底面，各支撑脚架系活动地设在机架的底面错开各移动轮的位置，调整各支撑脚架的高度让移动轮接触地面，或者调整各支撑脚架的高度撑起整个机架并让移动轮离开地面。
4、其中，进料输送模块包括第一位移装置、第一连接件与第一仿型治具，第一连接件设在第一位移装置上，第一位移装置带动第一连接件在前一个制程设备的取得待清洁产品的位置与进料搬运模块取得待清洁产品的位置之间移动，第一仿型治具设在第一连接件上，并随第一连接件移动，且第一仿型治具承载待清洁产品。
5、其中，第一位移装置包括第一线性轨道及第一移动载台，第一线性轨道设在平台上衔接前一个制程设备与出料搬运模块的取得待清洁产品的位置之间，第一移动载台活动地设在第一线性轨道。
6、其中，第一连接件包括第一平面板及第一l型板，第一平面板设在第一移动载台上，且第一平面板的一部份突出第一线性轨道边缘的投影位置之外，第一l型板的短侧面的一端设在第一平面板的底面突出的第一线性轨道的位置，而第一l型板的长侧面则连接第一仿型治具。
7、其中，第一仿型治具包括第一盒体及第一真空吸盘，第一盒体设在第一l型板的长侧面，第一真空吸盘设在第一盒体上，并且第一真空吸盘提供吸附待清洁产品的底面。
8、其中，进料搬运模块包括第一支架、第二移动装置、第三移动装置及第一搬运装置，第一支架跨置在平台于进料输送模块与清洗运载模块之间，第二移动装置设在第一支架的上方，第三移动装置连接第二移动装置，第二移动装置带动第三移动装置在对应从进料输送模块卸除待清洁产品的位置与将待清洁产品放置到清洗运载模块的位置之间移动，第一搬运装置设置在第三移动装置上，并随第三移动装置移动而从进料输送模块取得待清洁产品，或者将所取得的待清洁产品运送到清洗运载模块。
9、其中，第一支架包括二第一垂直支撑板及一第一水平支撑板，此二第一垂直支撑板一端分别设置于平台在进料搬运模块的一侧的位置，第一水平支撑板则设置在此二第一垂直支撑板的另端之间，令此二第一垂直支撑板及第一水平支撑板形成倒u型状，并跨越在进料搬运模块上方。
10、其中，第二移动装置包括第二线性轨道及第二移动载台，第二线性轨道设在第一水平支撑板上，第二移动载台活动地设在第二线性轨道。
11、其中，第三移动装置包括第一升降气压缸与第一框架，第一框架将第二移动装置与第一水平支撑板框套在其内，且第一框架的其中一面固定在第二移动载台上。第一升降气压缸设在第一框架的外侧，并且连接第一搬运装置，用以带动第一搬运装置移动。
12、其中，第一搬运装置包括第一连接支架与一第二真空吸盘，第一连接支架的一面连接第三移动装置，而第二真空吸盘设在第一连接支架面对平台的位置。
13、其中，清洗运载模块包括第四移动装置、承载台、旋转台、旋转治具，第四移动装置包括第四线性轨道及第四移动载台，第四线性轨道设在平台于进料搬运模块的卸除待清洁产品的位置到出料搬运模块装载已清洁产品的位置之间，第四移动载台活动地设在第四线性轨道上。承载台为u形体，并设在第四移动载台上，旋转台包括一旋转框体及第一旋转驱动器，其中旋转框体枢设在承载台的两侧之间，第一旋转驱动器本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种残胶清洁系统，其特征在于：包括：
2.如权利要求1所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述机台包括：
3.如权利要求2所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述进料输送模块包括：
4.如权利要求3所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第一位移装置包括：
5.如权利要求4所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第一连接件包括：
6.如权利要求5所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第一仿型治具包括：
7.如权利要求2所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述进料搬运模块包括：
8.如权利要求7所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第一支架包括：
9.如权利要求8所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第二移动装置包括：
10.如权利要求9所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第三移动装置包括：
11.如权利要求10所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第一搬运装置包括：
12.如权利要求2所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述清洗运载模
13.如权利要求12所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述清洗运载模块尚包括仿型限位装置，所述仿型限位装置活动地设在所述承载台上，所述仿型限位装置在所述承载台上移动而抵靠所述旋转治具上的所述待清洁产品的上方，或者所述仿型限位装置在所述承载台上移动避让出空间提供所述旋转治具承接所述待清洁产品。
14.如权利要求13所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述仿型限位装置包括：
15.如权利要求2所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述光清洗模块包括：
16.如权利要求15所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第二支架包括二块第二垂直支撑板，所述二块第二垂直支撑板一端设置于所述平台在所述清洗运载模块外侧的位置。
17.如权利要求16所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第七移动装置包括第七线性轨道及第七移动载台，所述第七线性轨道设在所述二块第二垂直支撑板的一端之间，所述第七移动载台活动地设在所述第七线性轨道且面对灯箱。
18.如权利要求17所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第八移动装置包括第八线性轨道及第八移动载台，所述第八线性轨道设在所述第八移动载台上，所述灯箱设在所述第八移动载台上。
19.如权利要求2所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述出料搬运模块包括：
20.如权利要求19所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第三支架包括：
21.如权利要求20所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第九移动装置包括第九线性轨道及第九移动载台，所述第九线性轨道设在所述第二水平支撑板上，所述第九移动载台活动地设在所述第九线性轨道。
22.如权利要求21所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第十移动装置包括第二升降气压缸与第二框架，所述第二框架将所述第九移动装置与所述第二水平支撑板框套在其内，且所述第二框架的其中一面固定在所述第十移动载台上。
23.如权利要求22所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第二搬运装置包括第二连接支架与第四真空吸盘，所述第二连接支架的一面连接所述第十移动装置，而所述第四真空吸盘设在所述第二连接支架面对所述平台的位置。
24.如权利要求2所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述出料输送模块包括：
25.如权利要求24所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第十一位移装置包括第十一线性轨道及第十一移动载台，所述第十一线性轨道设在所述平台上于所述清洗运载模块取得所述已清洁产品的位置与下一个制程设备的进口位置之间，所述第十一移动载台活动地设在所述第十一线性轨道。
26.如权利要求25所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第二连接件包括：
27.如权利要求26所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第二仿型治具包括；
28.一种残胶清洁方法，其特征在于：包括以下步骤：
29.如权利要求28所述的残胶清洁方法，其特征在于：其中所述紫外光的波长为10纳米～400纳米。
30.如权利要求28所述的残胶清洁方法，其特征在于：其中所述紫外光的能量强度为每平方厘米100毫瓦。
31.如权利要求28所述的残胶清洁方法，其特征在于：其中所述紫外光的照射时间为60～100秒。
32.如权利要求28所述的残胶清洁方法，其特征在于：其中当完成涂布所述保护层之后，需要再进行烘烤，烘烤温度为60～70℃，...
【技术特征摘要】
1.一种残胶清洁系统，其特征在于：包括：
2.如权利要求1所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述机台包括：
3.如权利要求2所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述进料输送模块包括：
4.如权利要求3所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第一位移装置包括：
5.如权利要求4所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第一连接件包括：
6.如权利要求5所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第一仿型治具包括：
7.如权利要求2所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述进料搬运模块包括：
8.如权利要求7所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第一支架包括：
9.如权利要求8所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第二移动装置包括：
10.如权利要求9所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第三移动装置包括：
11.如权利要求10所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第一搬运装置包括：
12.如权利要求2所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述清洗运载模块包括：
13.如权利要求12所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述清洗运载模块尚包括仿型限位装置，所述仿型限位装置活动地设在所述承载台上，所述仿型限位装置在所述承载台上移动而抵靠所述旋转治具上的所述待清洁产品的上方，或者所述仿型限位装置在所述承载台上移动避让出空间提供所述旋转治具承接所述待清洁产品。
14.如权利要求13所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述仿型限位装置包括：
15.如权利要求2所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述光清洗模块包括：
16.如权利要求15所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第二支架包括二块第二垂直支撑板，所述二块第二垂直支撑板一端设置于所述平台在所述清洗运载模块外侧的位置。
17.如权利要求16所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第七移动装置包括第七线性轨道及第七移动载台，所述第七线性轨道设在所述二块第二垂直支撑板的一端之间，所述第七移动载台活动地设在所述第七线性轨道且面对灯箱。
18.如权利要求17所述的残胶清洁系统，其特征在于：其中所述第八移动装置包括第八线性轨道及第八移动载台，所述第八线性轨道设在所述第八移动载台上，所述灯...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋鸿，沈佳兴，
申请(专利权)人：业成科技成都有限公司，
类型：发明
国别省市：
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